ヘキサキス の意味・用法を知る
ヘキサキス とは、第4族元素を含む化合物及びその製造 や電場発光光源(EL) などの分野において活用されるキーワードであり、国立大学法人群馬大学 やチッソ株式会社 などが関連する技術を3,943件開発しています。
このページでは、 ヘキサキス を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
ヘキサキスの意味・用法
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一般式(I)の化合物として、特に好ましくは、2,3,6,7,10,11− ヘキサキス (トリメチルシリルエチニル)トリフェニレン、2,3,6,7,10,11−ヘキサキス(トリイソプロピルシリルエチニル)トリフェニレンなどが挙げられる。
- 公開日:2006/04/20
- 出典:燐光を利用した有機電界発光素子
- 出願人:チッソ株式会社
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(ここで、各Rは、それぞれ独立に、C1 〜C4 炭化水素基)で示される ヘキサキス (モノヒドロカルビルアミノ)ジシラン。
- 公開日:2003/06/20
- 出典:ヘキサキス(モノヒドロカルビルアミノ)ジシランおよびその製造方法
- 出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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その結果、2,3,6,7,10,11-ヘキサブロモトリフェニレンとトリアルキルシリルアセチレンを反応させることによって2,3,6,7,10,11− ヘキサキス (トリメチルシリルエチニル)トリフェニレンなどを製造することに成功した。
- 公開日:2006/04/20
- 出典:シリルエチニル基を有するトリフェニレン化合物及びその製造方法
- 出願人:国立大学法人群馬大学
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下記構造を有する1,2,3,4,5,6‐シクロヘキサンヘキサールリン酸 (シロ、ミオ又は他のイノシトール ヘキサキス リン酸誘導体): ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、カルシウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、二マグネシウム塩四カリウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、マグネシウム塩カリウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、二カリウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、一カリウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、十二ナトリウム塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、トリエタノールアミン塩 ミオイノシトールヘキサキスホスフェート、アンモニ...
- 公開日:1997/10/07
- 出典:皮膚シワを調節するために環状ポリアニオン系ポリオール誘導体を用いる方法
- 出願人:ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー
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...プロパンのようなトリオールとカルボキシル基含有メルカプタン類のトリエステル;ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートなどペンタエリスリトールのような水酸基を4個有する化合物とカルボキシル基含有メルカプタン類のポリエステル;ジペンタエリスリトール ヘキサキス チオグリコレート、ジペンタエリスリトールヘキサキスチオプロピオネートなどジペンタエリスリトールのような水酸基を6個有する化合物とカルボキシル基含有メルカプタン類のポリエステル化合物;その他水酸基を3個以上有する化合物とカルボキシル基含有メルカプタン類のポリエステル化合物;トリチオグリセリン...
- 公開日:2013/10/24
- 出典:貴金属担持光触媒体粒子分散液の製造方法
- 出願人:株式会社レイテック
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本発明において、一般式(1)で表される構造を有する化合物としては、例えば、一般式(1)中のmが0およびnが6の例としては、 ヘキサキス (アミノヒドロキシフェニル)オリゴアダマンタン、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴジアマンタン、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴトリアマンタン、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴテトラマンタン、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴペンタマンタン、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴアダマンタンエーテル、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴジアマンタンエーテル、ヘキサキス(アミノヒドロキシフェニル)オリゴトリア...
- 公開日:2006/01/12
- 出典:アミノフェノール化合物、熱硬化性化合物およびその製造法
- 出願人:住友ベークライト株式会社
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...チレングリコールビス(β−チオプロピオネート)、ジエチレングリコールビス(チオグリコレート)、トリエチレングリコールビス(β−チオプロピオネート)、トリエチレングリコール(チオグリコレート)、ブタンジオールビス(β−チオプロピオネート)、ブタンジオールビス(チオグリコレート)、ジペンタエリスリトール ヘキサキス (β−チオプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(チオグリコレート)等が挙げられる。
- 公開日:2002/02/19
- 出典:光硬化樹脂シートの製造方法
- 出願人:三菱化学株式会社
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より具体的に、本発明のポリチオール化合物としては、例えばエポキシ樹脂硬化剤などとして市販されているポリチオール化合物を、有利に用いることが出来る。そのようなポリチオール化合物としては、DPMP(製品名、ジペンタエリスリトール ヘキサキス (3−メルカプトプロピオネート)、SC有機化学株式会社製)、TMMP(製品名、トリメチロールプロパン トリス(3−メルカプトプロピオネート)、SC有機化学株式会社製)、TEMPIC(製品名、トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート、SC有機化学株式会社製)、PEMP(製品名、ペンタエリスリトール テトラキス(3−メルカプト...
- 公開日:2018/12/27
- 出典:地山固結用薬液組成物
- 出願人:旭有機材株式会社
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...ト)、ブタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、オクタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトール ヘキサキス (3−メルカプトブチレート)、エチレングリコールビス(2−メルカプトプロピオネート)、プロピレングリコールビス(2−メルカプトプロピオネート)、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトプロピオネート)、ブタンジオールビス(2−メルカプトプロピオネート)、オクタンジオールビス(2−メルカプト...
- 公開日:2018/12/27
- 出典:ラジカル重合性樹脂組成物
- 出願人:昭和電工株式会社
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...オネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、1,1−ジメルカプトシクロヘキサン、1,4−ジメルカプトシクロヘキサン、1,3−ジメルカプトシクロヘキサン、1,2−ジメルカプトシクロヘキサン、ジペンタエリスリトール ヘキサキス (3−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2−メルカプトアセテート)、1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプト−2−プロパノール、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、1,2−ジメルカプト−1,3−ブタンジオール、ヒドロキシメチル−トリス(メルカプトエ...
- 公開日:2018/12/27
- 出典:電子部品用樹脂組成物
- 出願人:日本化薬株式会社
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
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プラスチック等の成形用の型
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤・配合剤
- 材料の状態・形態
- 挿入物等(挿入物,補強材,芯材,表面材,ライニング対象部材,接合の対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状,外観に特徴ある成形品
- 一般形状・構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 型全般の区分(1)
- 型全般の区分(2)
- 型の全体的装置構成
- 型の製造
- 型の構成
- 型締め、型開閉
- 成形品の取出し
- 加熱、冷却
- ベント、空気抜き
- インサート物、表面材の位置決め、保持
- 型の取付け、交換
- 補助操作
- タイヤ加硫プレス
- タイヤ用型、コア
- タイヤ成形用中心機構
- 型の開閉、型締め
- タイヤの加硫、冷却
- タイヤの搬出入
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プラスチック等の注型成形、圧縮成形
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤、配合剤
- 材料の状態、形態
- 挿入物等(補強材、芯材、表面材、ライニング対象部材、接合対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状、構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 注型成形の区分(1)
- 注型成形の区分(2)
- 樹脂材料の前処理・コンディショニング
- 成形材料の供給
- 注型成形の装置,操作
- 発泡注型成形の特有技術
- 成形品の後処理・後加工
- 圧縮成形の区分(1)
- 圧縮成形の区分(2)
- 樹脂材料の前処理・コンディショニング
- 成形材料の供給(ホッパー→共通ターム)
- 予備成形成品及びその製造
- 予備成形品の前処理・コンディショニング
- 予備成形品の供給(予備成形品以外の供給はFF)
- 圧縮成形の操作、付属操作
- 圧縮成形装置の構成部品、付属装置
- 成形品の後処理・後加工
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触媒
- 技術主題
- 成分I特定物質
- 成分II無機物質
- 成分III金属元素
- 成分IV非金属元素
- 成分V有機物質及び配位子
- 使用対象反応I環境保全関連
- 使用対象反応II化学合成用(C1化学除く)
- 使用対象反応IIIエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応IVその他
- 使用形態
- 構造及び物性I‐I外形(それ自体)
- 構造及び物性I‐II外形に関する他の特徴
- 構造及び物性II微細構造
- 構造及び物性III 物性
- 構造及び物性IV その他
- 調製及び活性化I 目的
- 調製及び活性化II プロセス
- 調製及び活性化III材料及び条件(クレーム)
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS)
- ゼオライト及びMSの合成
- ゼオライト及びMS触媒の特定(クレームのみ)
- ゼオライト及びMS触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的(目的記載個所)
- 触媒組成物の態様