研磨 の意味・用法を知る

研磨 パッドの研磨面で該チャックテーブルに保持されたウェーハを研磨する研磨手段と、を備えた研磨装置であって、該研磨手段は、該スピンドルと該研磨パッドとを貫通して回転中心に形成された中空部内に収容され、研削中のウェーハの温度を測定する温度センサと、該温度センサより下方の該中空部の内周に配設されたフィンと、を含み、該フィンが該スピンドルの回転によりダウンフローを生成することを特徴とする。

• 公開日：2017/04/27
• 出典：研磨装置
• 出願人：株式会社ディスコ

また、 研磨 の１バッチごとに研磨布を洗浄しても、通常７バッチ程度も研磨すると研磨布が波打ち（凹凸面）、平坦度が低下して、研磨速度が低下する。

• 公開日：2017/01/26
• 出典：両面研磨装置の研磨布のドレッシング装置およびドレッシング方法
• 出願人：不二越機械工業株式会社

窒化ケイ素の 研磨 速度に対するポリシリコン及びアモルファスシリコンの研磨速度の比が大きく、ポリシリコン及びアモルファスシリコンの研磨速度が大きく、且つ、窒化ケイ素の研磨速度が小さい研磨用組成物を提供する。

• 公開日：2017/03/23
• 出典：研磨用組成物
• 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極および前記第２の電極に接し、ペロブスカイト型化合物を含む活性層を備える光電変換層と、を具備する光電変換素子の製造方法であって、前記ペロブスカイト型化合物を含む被処理体の表面を 研磨 する工程と、前記研磨する工程の後に前記被処理体に対して熱処理を行う工程と、を具備する、光電変換素子の製造方法。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：光電変換素子
• 出願人：株式会社東芝

本発明は、二酸化ケイ素及び窒化ケイ素を含む基材を 研磨 するための化学機械研磨組成物及び方法を提供し、それは、パターン化されたウェハー上の酸化ケイ素（例えばＰＥＴＥＯＳ）に対してＳｉＮの選択的な除去を提供する。

• 公開日：2017/02/16
• 出典：窒化ケイ素の選択的な除去のためのＣＭＰ組成物及び方法
• 出願人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション

一つの 研磨 ディスクによる研磨量をより増やすこと。

• 公開日：2014/10/27
• 出典：研磨ディスクを用いる研磨方法およびこれに用いる物品
• 出願人：スリーエム・イノベイテイブ・プロパテイズ・カンパニー

ｐＨ６以下の水溶液中において正のゼータ電位を示すｐＨ領域がある物質を含む層を 研磨 する用途で使用され、砥粒（Ａ）と砥粒（Ｂ）とｐＨ調整剤を含み、前記砥粒（Ｂ）はｐＨ６以下の水溶液中において負のゼータ電位を有し、かつ前記砥粒（Ｂ）の平均二次粒子径の値が前記砥粒（Ａ）の平均二次粒子径の値よりも小さく、１５ｎｍ以下である砥粒であり、ｐＨが６以下である研磨用組成物。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：研磨用組成物、研磨方法および基板の製造方法
• 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

ＣＭＰ工程における 研磨 装置の振動の発生を抑制できると共に、サファイアを速い研磨速度で研磨できるサファイア用研磨液を提供する。

• 公開日：2016/12/28
• 出典：サファイア用研磨液、貯蔵液及び研磨方法
• 出願人：日立化成株式会社

（ａ）１部の前記化学機械 研磨 濃縮物に対して少なくとも３部の水を加えることにより、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の化学機械研磨濃縮物を希釈して研磨組成物を得ること、（ｂ）基材を前記研磨組成物と接触させること、（ｃ）前記研磨組成物を前記基材に対して動かすこと、（ｄ）前記基材をすり減らして、シリコン酸素含有材料の一部を前記基材から除去すること、及びそれにより前記基材を研磨すること、を含む、シリコン酸素材料を含む基材を化学機械研磨する方法。

• 公開日：2017/09/14
• 出典：コロイダルシリカ化学機械研磨濃縮物
• 出願人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション

電線表面を効率よく 研磨 する。

• 公開日：2017/02/02
• 出典：電線表面の磨き工具、及び電線表面の研磨方法
• 出願人：中国電力株式会社