研磨 の意味・用法を知る

粗 研磨 における研磨速度を大きく損ねることなく、研磨後の短波長うねりを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。

• 公開日：2017/06/22
• 出典：磁気ディスク基板用研磨液組成物
• 出願人：花王株式会社

粗 研磨 における研磨速度を大きく損ねることなく、さらに、粗研磨後のロールオフを大きく悪化させることなく、粗研磨後の基板表面の長波長うねりを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。

• 公開日：2017/06/08
• 出典：磁気ディスク基板用研磨液組成物
• 出願人：花王株式会社

粗 研磨 における研磨速度の低下を抑制し、粗研磨後の基板表面のＰＥＤの除去率を向上できる磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。

• 公開日：2017/06/08
• 出典：磁気ディスク基板用研磨液組成物
• 出願人：花王株式会社

研磨 方法は、基板Ｗの周方向における膜厚の分布を取得し、膜厚の分布に基づいて、最も大きい、または最も小さい膜厚を有する第１の領域を決定し、研磨パッド２を保持した研磨テーブル３を回転させ、研磨ヘッド１で基板を回転させながら、基板Ｗの表面を研磨パッド２に押し付け、第１の領域を、基板Ｗの表面内の第２の領域の除去レートとは異なる除去レートで研磨する。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：研磨方法
• 出願人：株式会社荏原製作所

サファイアを速い 研磨 速度で研磨することができる研磨液を提供すること。

• 公開日：2017/01/12
• 出典：研磨液、貯蔵液及び研磨方法
• 出願人：日立化成株式会社

より詳細には、本発明は、絶縁材料として用いられる物質を 研磨 するためのスラリー及びその製造方法、並びに、研磨方法に関する。

• 公開日：2016/12/28
• 出典：スラリー及びその製造方法、並びに、研磨方法
• 出願人：日立化成株式会社

研磨 後の被研磨材の表面の欠陥を抑制し、且つ良好な研磨速度で研磨可能な研磨用組成物を得る。

• 公開日：2016/11/04
• 出典：研磨用組成物
• 出願人：ニッタ・ハース株式会社

有機膜 研磨 に用いられるＣＭＰ用スラリー組成物及びこれを利用する半導体装置の製造方法が提供される。

• 公開日：2015/02/02
• 出典：有機膜研磨に用いられるＣＭＰ用スラリー組成物を利用してＣＭＰ工程を行う方法及びこれを利用する半導体装置の製造方法
• 出願人：サムソンエレクトロニクスカンパニーリミテッド

第二の 研磨 速度は、研磨速度調整によって調整された第一の研磨速度である。

• 公開日：2016/12/08
• 出典：基板研磨中の研磨速度の制限的調整
• 出願人：アプライドマテリアルズ，インコーポレイティド

図６（Ｓ１）は、 研磨 、洗浄、エッチング工程を行った第一の基板２の一部分を示す図である。

• 公開日：2015/09/24
• 出典：電子部品
• 出願人：セイコーインスツル株式会社