研磨 の意味・用法を知る

被 研磨 体Ｓの研磨に用いられるクッションパッド１０は、異なる硬度を持つ複数のパッド１１，１２を複層的に備え、複数のパッド１１，１２が、駆動側に位置する第１パッド１１と、第１パッド１１の研磨側に着脱可能に取り付けられる第２パッド１２であって、その研磨側に貼着された研磨材１２２を有する第２パッド１２と、を含み、第２パッド１２が第１パッド１１よりも軟らかい硬度を有する。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：クッションパッド及びそれを用いたロボットアーム
• 出願人：キョーラク株式会社

そして、このようなシリカ系複合粒子は、非晶質のシリカ粒子Ａの表面に、結晶質の酸化物層Ｂを有するために、 研磨 速度を向上させることができ、かつ、シリカ粒子に前処理をすることにより、焼成時に粒子同士の焼結が抑制され研磨スラリー中での分散性を向上させることができ、さらに、酸化セリウムを含まない、あるいは酸化セリウムの使用量を大幅に低減することができるので、安価であって研磨性能の高い研磨材を提供する

• 登録日：2020/07/06
• 出典：シリカ系複合微粒子分散液及びシリカ系複合微粒子分散液を含む研磨用スラリー
• 出願人：日揮触媒化成株式会社

ストッパ材料に対する絶縁材料の 研磨 選択性を向上させることができる研磨剤を提供する。

• 公開日：2017/11/02
• 出典：研磨剤、研磨剤セット及び基体の研磨方法
• 出願人：日立化成株式会社

搬送部は、第１洗浄ユニットと第２洗浄ユニットとの間に配置され、 研磨 前の基板を複数の洗浄モジュールの配列方向に沿って搬送するスライドステージを有している。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：基板処理装置
• 出願人：株式会社荏原製作所

この第２層は、その外表面が 研磨 面と非研磨面とから成り、前記研磨面が前記複数の凸部の各々に対向する位置に配されるように形成される、この研磨面は、前記ゴルフクラブシャフトの厚み方向において前記複数の凸部の各々に対向する位置に配される。

• 公開日：2017/08/24
• 出典：新規な外観を呈する管状の積層構造体及びゴルフクラブシャフト
• 出願人：グローブライド株式会社

ポリカルボン酸及びポリカルボン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いても、４価金属元素の水酸化物の粒子の凝集を抑制しつつ、絶縁材料を高い 研磨 速度で研磨できると共に、ストッパ材料の研磨速度を充分に抑制することができる研磨液を提供する。

• 公開日：2017/12/14
• 出典：研磨液、研磨液セット及び基体の研磨方法
• 出願人：日立化成株式会社

裏面にリング状補強部を備えるウエーハの凹部を 研磨 するに際し、生産性と加工性を向上させることができるウエーハの加工方法を提供すること。

• 公開日：2018/04/12
• 出典：ウエーハの加工方法
• 出願人：株式会社ディスコ

前記ステンレス鋼加工品の表面を、湿式 研磨 で研磨する研磨工程を有する、請求項１又は２記載のステンレス鋼加工品の製造方法。

• 公開日：2017/10/05
• 出典：耐食性に優れたステンレス鋼加工品及びその製造方法
• 出願人：新日鐵住金ステンレス株式会社

本発明は、表面粗さ、スクラッチ性を悪化させること無く、 研磨 速度に優れた研磨を達成することが出来る研磨用シリカ添加剤、及びそれを含有してなる研磨スラリーを提供する。

• 公開日：2017/10/12
• 出典：研磨用シリカ及びそれを用いた方法
• 出願人：デンカ株式会社

例えばＣＭＰ、特にはＳＴＩにおける酸化ケイ素面を含む被 研磨 面のＣＭＰにおいて、二酸化ケイ素膜のような酸化ケイ素膜に対する十分に高い研磨速度を維持しながら、窒化ケイ素膜に対する研磨速度を低く抑え、高い選択比と良好な平坦性を達成することができる研磨剤、研磨方法、および研磨用添加液を提供する。

• 公開日：2018/03/22
• 出典：研磨剤と研磨方法、および研磨用添加液
• 出願人：旭硝子株式会社