照射 の意味・用法を知る

筺体表面に形成された開口部と、前記開口部の側方に配置され、格子状に配列された複数の光源と、前記開口部上に提示された手の位置情報を取得するセンサと、前記位置情報に基づいて、手に 照射 する照射用光源を前記複数の光源の中から選択し、前記照射用光源の光量を制御する光量制御部と、前記照射用光源からの光が照射された手の指部分に含まれる血管の画像を撮影する撮像部と、を有することを特徴とする血管画像撮影装置を提供する。

• 公開日：2017/08/31
• 出典：血管画像撮影装置および個人認証システム
• 出願人：ルネサスエレクトロニクス株式会社

また、衝撃波 照射 部４２は、熱照射部４１による加熱の後で、足場材料に対して衝撃波を照射する。

• 公開日：2017/06/29
• 出典：細胞剥離装置および細胞剥離方法
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

ここで、右側の路面描画ユニットによって 照射 される第１光と、左側の路面描画ユニットによって照射される第２光と、が補色の関係に設定されている。

• 公開日：2017/06/15
• 出典：車両用ヘッドランプ構造及び車両用ヘッドランプの制御方法
• 出願人：トヨタ自動車株式会社

患者に対して治療ビームを 照射 することにより治療を行う放射線治療に用いられる動体追跡装置において、基準呼吸位相における治療対象部位の位置と、連続する複数の呼吸位相における治療対象部位を含む領域の２次元のＸ線画像データ群からなる３次元Ｘ線画像データとを記憶部から取得するＸ線画像情報取得部と、前記記憶部から取得した３次元Ｘ線画像データに対して画像レジストレーションを実行することにより、異なる呼吸位相間での治療対象部位を含む２次元のＸ線画像の変形量を算出するＸ線画像変形量算出部と、前記記憶部から取得した基準呼吸位相における治療対象部位の位置と、前記Ｘ線画像変形量算出部により算出した異なる呼吸位相間での...

• 公開日：2017/03/30
• 出典：放射線治療用動体追跡装置、放射線治療用照射領域決定装置および放射線治療装置
• 出願人：独立行政法人放射線医学総合研究所

第３光源８１が発した光は、導光体８２の端面８４からアウターレンズ２２に向けて 照射 され、アウターレンズ２２の内面によって反射される。

• 公開日：2016/11/17
• 出典：車両用灯具
• 出願人：株式会社豊田自動織機

この光吸収性樹脂２０ａは、紫外線を 照射 することにより硬化するものであって、光を吸収する材料であるチタンブラック及びカーボンブラック等の黒色材料が含まれている。

• 公開日：2016/08/08
• 出典：アポダイズドフィルタ及びその製造方法
• 出願人：旭硝子株式会社

互いに基底量子準位の異なる２つの量子ドットが結合した結合量子ドットが複数集合した結合量子ドット集団で３準位ランダム系を形成し、第１の励起光で全体を励起子基底状態にしたのち、第２の励起光の 照射 によるラマン散乱光の光子数を検出し、単一励起ディッケ状態を実現したのち、第３の励起光を照射して単一励起ディッケ状態から励起子基底状態への遷移に伴う単一光子を生成する。

• 公開日：2016/06/30
• 出典：単一光子発生装置及び単一光子発生方法
• 出願人：富士通株式会社

情報記録や情報再生に寄与しない不要透過光を適切に処理し、不要透過光が予期せぬ部位に 照射 されて種々の不都合が生じる虞を良好に回避し得るホログラム記録再生装置を提供する。

• 公開日：2016/06/23
• 出典：ホログラム記録再生装置
• 出願人：日本放送協会

ビーム 照射 対象確認装置１は、エネルギー切替部１１によって少なくとも２種類のＸ線を垂直Ｘ線照射部１３により照射するＸ線切替照射処理部６ａと、前記垂直Ｘ線照射部１３から照射されたＸ線を検出する垂直Ｘ線検出部１４と、前記垂直Ｘ線検出部１４により取得した少なくとも２種類のＸ線の検出情報に基づいて治療前確認画像２０Ｂ，２０Ｃを作成する治療前確認画像作成処理部７と、治療計画段階で得られた基準画像２０Ａを取得する基準画像取得部３と、前記治療前確認画像２０Ｂ，２０Ｃと前記基準画像２０Ａとを比較する比較処理部８ａと、前記比較処理部８ａにより得られた比較結果を出力する結果出力部４とを有する。

• 公開日：2016/01/07
• 出典：ビーム照射対象確認装置、ビーム照射対象確認プログラム、および阻止能比算出プログラム
• 出願人：独立行政法人放射線医学総合研究所

マルチ荷電粒子ビーム描画方法は、トラッキング制御を行いながら、各ビームの描画位置にマルチ荷電粒子ビームのうちＯＮビームのそれぞれ対応するビームを 照射 する工程と、トラッキング制御を継続しながら、各ビームの描画位置を次の各ビームの描画位置にシフトする工程と、トラッキング制御を継続しながら、シフトされた各ビームの描画位置に対応するビームを照射する工程と、ビームを照射した後、トラッキング制御用のビーム偏向をリセットする工程と、を備え、トラッキング制御の開始からリセットまでのかかる各工程を１つの組として繰り返し、少なくとも１回の組におけるトラッキング開始からリセットまでのトラッキング時間が他の組における...

• 公開日：2015/12/17
• 出典：マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
• 出願人：株式会社ニューフレアテクノロジー