照射 の意味・用法を知る

本発明は、記録材に画像を形成する画像形成部と、光を 照射 する１つの照射部と、前記照射部によって照射され、記録材で反射した光を複数の画素からなる表面画像として撮像する撮像部と、前記撮像部によって撮像された前記表面画像において、第１の方向に並んだ複数の画素の出力値の差分から第１の特徴量を求め、前記第１の方向と交差する第２の方向に並んだ複数の画素の出力値の差分から第２の特徴量を求め、求めた前記第１の特徴量と前記第２の特徴量に基づいて、前記画像形成部の画像形成条件を制御する制御部と、を有することを特徴とする。

• 公開日：2017/06/08
• 出典：画像形成装置及び記録材判別装置
• 出願人：キヤノン株式会社

レーザ光の 照射 にムラが生じることを抑制することが可能なレーザ照射装置を提供することである。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
• 出願人：株式会社日本製鋼所

撮影部５は、シート光 照射 部４が照射したシート光の進行方向とは交差する方向から、原水内のシート光にて照射される照射領域を撮影して撮影画像を生成する。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：粒子観測装置及び粒子観測方法
• 出願人：オルガノ株式会社

波面制御装置は、光が 照射 された媒質から発生する信号を検出する検出手段１０４と、検出手段の出力に基づいて、光の波面を制御する制御手段１０２、１０５と、を有し、制御手段は、媒質内部の第１の測定位置から発生する信号に基づいて光の第１の波面を形成する第１の処理と、第１の波面を有する光が照射された媒質内部の、第１の測定位置とは異なる第２の測定位置から発生する信号に基づいて光の第２の波面を形成する第２の処理と、を行う。

• 公開日：2018/01/18
• 出典：波面制御装置、波面制御方法、情報取得装置、プログラム、および、記憶媒体
• 出願人：キヤノン株式会社

光計測装置は、変調させた光である計測光を被計測体に 照射 する照射部と、外部の光である外光及び前記被計測体が反射した前記計測光の少なくとも一方を受光して、前記計測光及び前記外光を電気信号に変換する受光部と、前記電気信号から前記外光の信号成分を低減することにより、変調させた前記計測光の信号成分である計測信号を分離する分離部と、前記計測信号を解析して前記被計測体の状態を評価する解析部と、を備える。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：光計測装置、光計測方法、及び、プログラム
• 出願人：株式会社リコー

本発明は、吐出部に対する台の相対移動方向の切換位置にそれぞれ 照射 部が配置されている造形装置に比べて、照射部の個数が少ない造形装置の提供を目的とする。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：造形装置
• 出願人：富士ゼロックス株式会社

（１）正荷電基又は負荷電基を有する高分子膜にイオンビームを 照射 する工程、及び（２）前記イオンビームを照射した箇所に、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を有するモノマーをグラフト重合する、あるいは前記イオンビームを照射した箇所に、正荷電基又は負荷電基を化学反応により導入可能な反応基を有するモノマーをグラフト重合し、その後、前記高分子膜の荷電基とは反対符号の正荷電基又は負荷電基を導入する工程、を含む工程によりモザイク荷電層を形成することを特徴とするモザイク荷電膜の製造方法。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：モザイク荷電膜の製造方法及びモザイク荷電膜
• 出願人：国立大学法人山口大学

自律走行装置の進行方向の測距を行いつつ、測距する必要がある範囲外の走査範囲に 照射 される光を、測距手段からの照射方向とは異なる方向の測距に活用することが可能となる自律走行装置を提供する。

• 公開日：2017/06/15
• 出典：自律走行装置及び測距装置
• 出願人：株式会社リコー

被膜１３が形成された板ガラス１０に、該板ガラス１０の表側主面１１または裏側主面１２の何れか一側から光 照射 手段２によって光を照射しつつ、被写界深度Ｄが板ガラス１０の厚みＨ以上であるレンズ８を備えた撮像手段３によって、レンズ８の被写界深度Ｄの内側に板ガラス１０の厚みＨを収めた状態で、板ガラス１０の表側主面１１または裏側主面１２の何れか一側から光の反射光を撮像し、板ガラス１０の検査画像を取得する。

• 公開日：2018/04/05
• 出典：板ガラスの検査方法および板ガラス検査装置
• 出願人：日本電気硝子株式会社

２つの部材を重ね合せ、その重ね合せ面の端縁にレーザ光を 照射 し、その端縁を溶接ラインとして、溶接開始位置から終端に向けてレーザ光を走査させることでその重ね合せ面で、２部材をレーザ溶接する際、スパッタを発生させず、走査の開始位置側での溶かし込み深さ不足を招くこともなく、所望とする溶かし込み深さで溶接する。

• 公開日：2017/09/21
• 出典：レーザ溶接方法、溶接接合体の製造方法、スパークプラグ用の電極の製造方法、及びスパークプラグの製造方法
• 出願人：日本特殊陶業株式会社