濃度分布 の意味・用法を知る

すなわち、ＥＤＦのファイバ軸からの径方向の距離に対してＥｒ 濃度分布 を測定してみると、コア内におけるＥｒ濃度分布の均一性が悪く、コア中央領域（ファイバ軸を中心とする領域）においてＥｒ濃度が低いディップが存在する。

• 公開日：2018/04/12
• 出典：光ファイバ
• 出願人：住友電気工業株式会社

外側が所定色の円となる図形が存在する真贋判定対象物の画像を取得し（ステップＳ１０１）、取得された画像を所定順序でスキャンして前記所定色の円を最初に検出した基準画像位置を検出し（ステップＳ１０２）、検出した基準画像位置及び前記円の半径をもとに前記円の円中心位置を決定し（ステップＳ１０３）、前記円中心位置を円中心とした半径の異なる同心円で囲まれる複数のドーナツ状データ毎に平均濃度を求め、該平均濃度を半径方向に並べた 濃度分布 を算出し（ステップＳ１０４）、予め求められた真判定の基準濃度分布と前記濃度分布とを比較して前記真贋判定対象物の真贋判定を行う（ステップＳ１０５〜Ｓ１０８）。

• 公開日：2017/09/21
• 出典：真贋判定対象物の真贋判定方法及び真贋判定対象物の真贋判定装置
• 出願人：富士電機株式会社

本発明の一実施形態である化学気相成長方法を説明するための化学気相成長装置の断面模式図である。 実施例１、実施例２、比較例１のＳｉＣ基板表面におけるＳｉＣ成長率分布を示した図である。 実施例１における各種の分布であり、（ａ）はＣ３Ｈ８の 濃度分布 であり、（ｂ）はＣ３Ｈ８の分解により発生したＣ元素の濃度分布であり、（ｃ）はＳｉＨ４の濃度分布であり、（ｄ）はＳｉＨ４の分解により発生したＳｉ元素の濃度分布であり、（ｅ）は炉内の流速分布であり、（ｆ）は炉内の温度分布であり、（ｇ）は上段供給口から供給されたＡｒガスの分布である。 比較例１における各種の分布であり、（ａ）はＣ３Ｈ８の濃度分布であり、（ｂ）はＣ...

• 公開日：2016/03/17
• 出典：化学気相成長方法
• 出願人：昭和電工株式会社

画像に含まれる処理対象となる領域の形状を取得する画像処理装置は、処理対象となる領域の 濃度分布 属性を取得する属性取得部と、濃度分布属性に応じて選択された算出方法により、領域の形状を取得する形状取得部とを備える。

• 公開日：2015/12/17
• 出典：画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法およびプログラム
• 出願人：キヤノン株式会社

...像形成部材として用いられる回転体の副走査方向における基準位置の検出信号を出力する信号出力部と、前記信号出力部により出力された検出信号に基づいて、前記回転体の回転周期の位相を検出する（Ｓ３）制御部と、を備え、前記制御部は、前記複数のテスト画像から、前記回転体の回転周期のすべての位相において一定周期数の 濃度分布 が得られるように、前記回転周期において各テスト画像の形成を開始する位相を決定し（Ｓ２）、前記検出信号により検出した前記回転体の回転周期の位相が、前記決定した各位相に至るタイミングで各テスト画像の形成を開始させる（Ｓ４）。

• 公開日：2016/06/23
• 出典：画像形成装置及び画像形成方法
• 出願人：コニカミノルタ株式会社

窒素の 濃度分布 のピークの位置は第１面から２ｎｍ以上１０ｎｍ未満離れ、ピークにおける半値幅は１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である。

• 公開日：2015/03/30
• 出典：半導体装置及びその製造方法
• 出願人：株式会社東芝

...記ドーパントのドーピング濃度が３×１０１５ｃｍ−３以上１×１０１７ｃｍ−３以下の値となる地点をｘ＝ｄ、前記ドリフト層（２）の表面から前記変調点までの膜厚方向の距離をｄｍｉｎ、前記ＪＦＥＴ領域（３５）の配置ピッチをＬｆｐ、隣接する前記ボディ領域（１４）間に形成される前記ＪＦＥＴ領域（３５）の幅をＬｊ、 濃度分布 を規定する負の値λとした場合、前記耐圧保持層の濃度分布ｇ（ｘ）は、０≦ｘ＜ｄｍｉｎの場合に、ｄｍｉｎ≦ｘ＜ｄの場合に、から計算される理想的なドーピング濃度分布ｈ（ＮＦ、Ｌｆｐ、Ｌｊ、ｘ）を用いて、で表される、請求項６に記載の炭化珪素半導体装置。

• 公開日：2017/03/23
• 出典：炭化珪素半導体装置
• 出願人：三菱電機株式会社

本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被覆膜とを含み、該被覆膜は、１または２以上の層を含み、該層のうち該基材と接する層は、ＴｉＮ層であり、該ＴｉＮ層は、ＴｉＮとともに少なくとも一つの元素を含み、該元素は、該ＴｉＮ層の厚み方向に 濃度分布 を有しており、該濃度分布は、該元素の濃度が該基材側から該被覆膜の表面側にかけて減少する領域を含むことを特徴とする。

• 公開日：2015/12/21
• 出典：表面被覆切削工具
• 出願人：住友電工ハードメタル株式会社

画像処理装置は、原稿読取部５と、原稿読取部５によって取得された画像データについての 濃度分布 を検出する濃度分布検出部１０１と、当該画像データから濃度分布検出部１０１によって検出された濃度分布が予め定められた値以上である領域を抽出する抽出部１０２と、当該抽出された領域に対してＯＣＲ処理を行うＯＣＲ処理部１０３と、ＯＣＲ処理部１０３によって変換されたキャラクターが、ルビの付加が必要として予め定められたキャラクターであるか否かを判定する判定部１０４とを備える。

• 公開日：2014/10/27
• 出典：画像処理装置、画像形成装置、及び画像処理プログラム
• 出願人：京セラドキュメントソリューションズ株式会社

反射光と透過光の両方の使用態様において自然で鮮明な画像を映し出し得るようにすべく、反射性と透過性を有するシート状基材（２）にシート状基材（２）を挟んで重なる表裏の画像（３）、（４）を備えた反射光・透過光用画像シートにおける裏側画像（４）の 濃度分布 を、表側画像（３）の濃度分布中における設定濃度αを超える高濃度部分Ｎ１を設定濃度αに低減したものにする。

• 公開日：2015/03/30
• 出典：反射光・透過光用画像シート、及び、反射光・透過光用画像シートの形成方法
• 出願人：株式会社フォトクラフト社