濃度分布 の意味・用法を知る

本発明の一実施形態である化学気相成長方法を説明するための化学気相成長装置の断面模式図である。 実施例１、実施例２、比較例１のＳｉＣ基板表面におけるＳｉＣ成長率分布を示した図である。 実施例１における各種の分布であり、（ａ）はＣ３Ｈ８の 濃度分布 であり、（ｂ）はＣ３Ｈ８の分解により発生したＣ元素の濃度分布であり、（ｃ）はＳｉＨ４の濃度分布であり、（ｄ）はＳｉＨ４の分解により発生したＳｉ元素の濃度分布であり、（ｅ）は炉内の流速分布であり、（ｆ）は炉内の温度分布であり、（ｇ）は上段供給口から供給されたＡｒガスの分布である。 比較例１における各種の分布であり、（ａ）はＣ３Ｈ８の濃度分布であり、（ｂ）はＣ...

• 公開日：2016/03/17
• 出典：化学気相成長方法
• 出願人：昭和電工株式会社

画像に含まれる処理対象となる領域の形状を取得する画像処理装置は、処理対象となる領域の 濃度分布 属性を取得する属性取得部と、濃度分布属性に応じて選択された算出方法により、領域の形状を取得する形状取得部とを備える。

• 公開日：2015/12/17
• 出典：画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法およびプログラム
• 出願人：キヤノン株式会社

...像形成部材として用いられる回転体の副走査方向における基準位置の検出信号を出力する信号出力部と、前記信号出力部により出力された検出信号に基づいて、前記回転体の回転周期の位相を検出する（Ｓ３）制御部と、を備え、前記制御部は、前記複数のテスト画像から、前記回転体の回転周期のすべての位相において一定周期数の 濃度分布 が得られるように、前記回転周期において各テスト画像の形成を開始する位相を決定し（Ｓ２）、前記検出信号により検出した前記回転体の回転周期の位相が、前記決定した各位相に至るタイミングで各テスト画像の形成を開始させる（Ｓ４）。

• 公開日：2016/06/23
• 出典：画像形成装置及び画像形成方法
• 出願人：コニカミノルタ株式会社

窒素の 濃度分布 のピークの位置は第１面から２ｎｍ以上１０ｎｍ未満離れ、ピークにおける半値幅は１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満である。

• 公開日：2015/03/30
• 出典：半導体装置及びその製造方法
• 出願人：株式会社東芝

...軸方向とし、前記ドリフト層の表面をｘ＝０［μｍ］、前記ドリフト層表面から深さｄ［μｍ］の地点をｘ＝ｄ［μｍ］、前記ドリフト層の表面から前記変調点までの膜厚方向の距離をｄｍｉｎ［μｍ］、前記ボディ領域の配置ピッチをＬｆｐ［μｍ］、隣接する前記ボディ領域間に形成される前記ＪＦＥＴ領域の幅をＬｊ［μｍ］、 濃度分布 を規定する負の値λ［ｍ５Ｃ２／Ｖ２Ｆ２］とした場合、前記耐圧保持層の濃度分布ｇ（ｘ）［ｃｍ−３］は、０≦ｘ＜ｄｍｉｎの場合に、ｄｍｉｎ≦ｘ＜ｄの場合に、から計算される理想的なドーピング濃度分布ｈ（ＮＦ、Ｌｆｐ、Ｌｊ、ｘ）［ｃｍ−３］を用いて、で表される、炭化珪素半導体装置。

• 登録日：2016/12/16
• 出典：炭化珪素半導体装置
• 出願人：三菱電機株式会社

基材と該基材上に形成された被覆膜とを含み、前記被覆膜は、１または２以上の層を含み、前記層のうち前記基材と接する層は、ＴｉＮ層であり、前記ＴｉＮ層は、ＴｉＮとともにＣを含み、前記Ｃは、前記ＴｉＮ層の厚み方向に 濃度分布 を有しており、前記濃度分布は、前記Ｃの濃度が前記基材側から前記被覆膜の表面側にかけて減少する領域を含み、前記濃度分布において、前記Ｃの最大濃度と最小濃度の差は、１０原子％以上である、表面被覆切削工具。

• 登録日：2016/11/18
• 出典：表面被覆切削工具
• 出願人：住友電工ハードメタル株式会社

画像処理装置は、原稿読取部５と、原稿読取部５によって取得された画像データについての 濃度分布 を検出する濃度分布検出部１０１と、当該画像データから濃度分布検出部１０１によって検出された濃度分布が予め定められた値以上である領域を抽出する抽出部１０２と、当該抽出された領域に対してＯＣＲ処理を行うＯＣＲ処理部１０３と、ＯＣＲ処理部１０３によって変換されたキャラクターが、ルビの付加が必要として予め定められたキャラクターであるか否かを判定する判定部１０４とを備える。

• 公開日：2014/10/27
• 出典：画像処理装置、画像形成装置、及び画像処理プログラム
• 出願人：京セラドキュメントソリューションズ株式会社

反射性と透過性とを有するシート状基材に該シート状基材を挟んで重なる表側画像と裏側画像を備えた反射光・透過光用画像シートであって、前記裏側画像は、前記表側画像を表裏反転した内容でシート状基材を挟んで前記表側画像に重なるものであり、前記裏側画像の 濃度分布 を、前記表側画像の濃度分布中における設定濃度を超える高濃度部分を前記設定濃度又はそれに近い濃度に低減して透過光による使用態様でコントラストが強くなるのを抑止できる濃度分布にしてある反射光・透過光用画像シート。

• 登録日：2016/09/02
• 出典：反射光・透過光用画像シート、及び、反射光・透過光用画像シートの形成方法
• 出願人：株式会社フォトクラフト社

上記の２通りの制御プログラムによって取得されるスペクトルデータは、組成成分の 濃度分布 など分光測定の目的に応じたマッピングデータとして構築され、必要に応じてモニター等に表示される。

• 公開日：2016/10/13
• 出典：顕微分光装置
• 出願人：日本分光株式会社

図２１（ａ）は、第８実施形態に係る固体撮像装置のマイクロレンズの構成例を示す平面図、図２１（ｂ）は、図２０の第１の 濃度分布 層の構成例を示す平面図、図２１（ｃ）は、図２０の第２の濃度分布層の構成例を示す平面図、図２１（ｄ）は、図２０の第４の濃度分布層の構成例を示す平面図である。

• 公開日：2014/02/03
• 出典：固体撮像装置
• 出願人：株式会社東芝