濃度分布 の意味・用法を知る
濃度分布の意味・用法
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すなわち、EDFのファイバ軸からの径方向の距離に対してEr 濃度分布 を測定してみると、コア内におけるEr濃度分布の均一性が悪く、コア中央領域(ファイバ軸を中心とする領域)においてEr濃度が低いディップが存在する。
- 公開日:2018/04/12
- 出典:光ファイバ
- 出願人:住友電気工業株式会社
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外側が所定色の円となる図形が存在する真贋判定対象物の画像を取得し(ステップS101)、取得された画像を所定順序でスキャンして前記所定色の円を最初に検出した基準画像位置を検出し(ステップS102)、検出した基準画像位置及び前記円の半径をもとに前記円の円中心位置を決定し(ステップS103)、前記円中心位置を円中心とした半径の異なる同心円で囲まれる複数のドーナツ状データ毎に平均濃度を求め、該平均濃度を半径方向に並べた 濃度分布 を算出し(ステップS104)、予め求められた真判定の基準濃度分布と前記濃度分布とを比較して前記真贋判定対象物の真贋判定を行う(ステップS105〜S108)。
- 公開日:2017/09/21
- 出典:真贋判定対象物の真贋判定方法及び真贋判定対象物の真贋判定装置
- 出願人:富士電機株式会社
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本発明の一実施形態である化学気相成長方法を説明するための化学気相成長装置の断面模式図である。 実施例1、実施例2、比較例1のSiC基板表面におけるSiC成長率分布を示した図である。 実施例1における各種の分布であり、(a)はC3H8の 濃度分布 であり、(b)はC3H8の分解により発生したC元素の濃度分布であり、(c)はSiH4の濃度分布であり、(d)はSiH4の分解により発生したSi元素の濃度分布であり、(e)は炉内の流速分布であり、(f)は炉内の温度分布であり、(g)は上段供給口から供給されたArガスの分布である。 比較例1における各種の分布であり、(a)はC3H8の濃度分布であり、(b)はC...
- 公開日:2016/03/17
- 出典:化学気相成長方法
- 出願人:昭和電工株式会社
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画像に含まれる処理対象となる領域の形状を取得する画像処理装置は、処理対象となる領域の 濃度分布 属性を取得する属性取得部と、濃度分布属性に応じて選択された算出方法により、領域の形状を取得する形状取得部とを備える。
- 公開日:2015/12/17
- 出典:画像処理装置、画像処理システム、画像処理方法およびプログラム
- 出願人:キヤノン株式会社
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...像形成部材として用いられる回転体の副走査方向における基準位置の検出信号を出力する信号出力部と、前記信号出力部により出力された検出信号に基づいて、前記回転体の回転周期の位相を検出する(S3)制御部と、を備え、前記制御部は、前記複数のテスト画像から、前記回転体の回転周期のすべての位相において一定周期数の 濃度分布 が得られるように、前記回転周期において各テスト画像の形成を開始する位相を決定し(S2)、前記検出信号により検出した前記回転体の回転周期の位相が、前記決定した各位相に至るタイミングで各テスト画像の形成を開始させる(S4)。
- 公開日:2016/06/23
- 出典:画像形成装置及び画像形成方法
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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窒素の 濃度分布 のピークの位置は第1面から2nm以上10nm未満離れ、ピークにおける半値幅は10nm以上20nm未満である。
- 公開日:2015/03/30
- 出典:半導体装置及びその製造方法
- 出願人:株式会社東芝
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...記ドーパントのドーピング濃度が3×1015cm−3以上1×1017cm−3以下の値となる地点をx=d、前記ドリフト層(2)の表面から前記変調点までの膜厚方向の距離をdmin、前記JFET領域(35)の配置ピッチをLfp、隣接する前記ボディ領域(14)間に形成される前記JFET領域(35)の幅をLj、 濃度分布 を規定する負の値λとした場合、前記耐圧保持層の濃度分布g(x)は、0≦x<dminの場合に、dmin≦x<dの場合に、から計算される理想的なドーピング濃度分布h(NF、Lfp、Lj、x)を用いて、で表される、請求項6に記載の炭化珪素半導体装置。
- 公開日:2017/03/23
- 出典:炭化珪素半導体装置
- 出願人:三菱電機株式会社
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本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被覆膜とを含み、該被覆膜は、1または2以上の層を含み、該層のうち該基材と接する層は、TiN層であり、該TiN層は、TiNとともに少なくとも一つの元素を含み、該元素は、該TiN層の厚み方向に 濃度分布 を有しており、該濃度分布は、該元素の濃度が該基材側から該被覆膜の表面側にかけて減少する領域を含むことを特徴とする。
- 公開日:2015/12/21
- 出典:表面被覆切削工具
- 出願人:住友電工ハードメタル株式会社
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画像処理装置は、原稿読取部5と、原稿読取部5によって取得された画像データについての 濃度分布 を検出する濃度分布検出部101と、当該画像データから濃度分布検出部101によって検出された濃度分布が予め定められた値以上である領域を抽出する抽出部102と、当該抽出された領域に対してOCR処理を行うOCR処理部103と、OCR処理部103によって変換されたキャラクターが、ルビの付加が必要として予め定められたキャラクターであるか否かを判定する判定部104とを備える。
- 公開日:2014/10/27
- 出典:画像処理装置、画像形成装置、及び画像処理プログラム
- 出願人:京セラドキュメントソリューションズ株式会社
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反射光と透過光の両方の使用態様において自然で鮮明な画像を映し出し得るようにすべく、反射性と透過性を有するシート状基材(2)にシート状基材(2)を挟んで重なる表裏の画像(3)、(4)を備えた反射光・透過光用画像シートにおける裏側画像(4)の 濃度分布 を、表側画像(3)の濃度分布中における設定濃度αを超える高濃度部分N1を設定濃度αに低減したものにする。
- 公開日:2015/03/30
- 出典:反射光・透過光用画像シート、及び、反射光・透過光用画像シートの形成方法
- 出願人:株式会社フォトクラフト社
濃度分布の問題点 に関わる言及
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くぼ地における汚染物質の 濃度分布 を少ない計算時間で計算できるくぼ地における汚染環境予測装置、くぼ地における汚染環境予測方法および当該予測方法を実行させるためのプログラムを提供することにある。
- 公開日: 2008/07/03
- 出典: くぼ地における汚染環境予測装置、くぼ地における汚染環境予測方法および当該予測方法を実行させるためのプログラム
- 出願人: 東日本電信電話株式会社
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従来の内視鏡洗浄消毒装置は、消毒液タンク内に供給された濃縮液と希釈液とを攪拌していない。そのため、消毒液タンク内で調製された直後の消毒液は、 濃度分布 が不均一になるという問題があった。
- 公開日: 2009/11/12
- 出典: 内視鏡洗浄消毒装置及び内視鏡洗浄消毒装置の消毒液調製方法
- 出願人: 富士フイルム株式会社
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従来、ウェハ上の成膜膜厚分布が不均一であるという課題に対しては、ウェハ面内温度分布、ウェハ上ガス流速分布、ウェハ上ガス 濃度分布 など、いくつか原因が考えられている。
- 公開日: 2002/09/25
- 出典: 半導体装置の製造方法
- 出願人: 株式会社日立国際電気
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重合体粒子に占める共重合体の 濃度分布 は、基本的に前段重合部及び後段重合部のそれぞれにおける粒子の滞留時間分布と、触媒活性の減衰速度により決定されると考えられる。
- 公開日: 2001/03/21
- 出典: プロピレン系ブロック共重合体のゲル含量の推定方法及びプロピレン系ブロック共重合体の製造方法
- 出願人: 日本ポリプロ株式会社
濃度分布の特徴 に関わる言及
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流体に噴霧された薬剤 濃度分布 を所望の濃度分布にすることが可能な脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法を提供することを目的とする。
- 公開日: 2011/09/15
- 出典: 脱硝装置の制御装置、これを備えた脱硝装置、およびこれを備えたボイラプラント、ならびに脱硝装置の制御方法
- 出願人: 三菱重工業株式会社
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細胞から放出されたヌクレオチド関連化学物質について、細胞組織上の 濃度分布 を検出する細胞放出物質検出装置、細胞放出物質検出方法および細胞放出物質検出用固定化酵素基板を提供すること。
- 公開日: 2013/02/28
- 出典: 細胞放出物質検出装置、細胞放出物質検出方法および細胞放出物質検出用固定化酵素基板
- 出願人: 国立大学法人豊橋技術科学大学
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濃度分布 とは、所定の方向の位置に対する濃度の分布のことで、露光装置の発光部の主走査方向の濃度分布は、露光装置の1発光部に対応する主走査方向の濃度の分布のことである。
- 公開日: 1998/09/08
- 出典: 露光装置、露光装置の発光部の主走査方向の濃度分布を得る方法及び露光装置の生産方法
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
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グラデーション 濃度分布 を有するNDフィルタの製造において、量産性の向上を図ることが可能となるNDフィルタの製造装置、NDフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供する。
- 公開日: 2005/12/15
- 出典: NDフィルタの製造方法
- 出願人: キヤノン電子株式会社
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グラデーション 濃度分布 を有するNDフィルタの製造において、更なる精度の向上を図ることが可能となるNDフィルタの製造装置、NDフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供する。
- 公開日: 2005/12/15
- 出典: NDフィルタの製造方法
- 出願人: キヤノン電子株式会社
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