液滴状 の意味・用法を知る
液滴状 とは、プリント配線の製造(2) や流動性材料の適用方法、塗布方法 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社フジクラ や株式会社SUMCO などが関連する技術を7,589件開発しています。
このページでは、 液滴状 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
液滴状の意味・用法
-
液滴状 の処理液で基板を処理する基板液処理装置及び基板液処理方法において、基板の表面にパーティクルが付着するのを抑制し、基板の処理を良好に行えるようにすること。
- 公開日:2015/02/05
- 出典:基板液処理装置及び基板液処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
-
インクジェットヘッド1から吐出された 液滴状 のインク2が飛翔中、または基板3に着弾した直後にレーザー光4を液滴状のインク2に照射して液滴状のインク2中の金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子と隣接する粒子同士を結合させ、液滴状のインク2は、組成の異なる金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子を含み、その一部の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子を肥大化させることで、基板3上に印刷されたインクは元々含まれていた微小径の金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子と肥大化した金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子とが混在した状態にする。
- 公開日:2011/10/06
- 出典:回路基板の製造方法、その回路基板、及び回路基板の製造方法
- 出願人:株式会社フジクラ
-
ヘッド1から吐出された 液滴状 のインク2が飛翔中、または基板3に着弾した直後にレーザー光4を照射して液滴状のインク中の金属ナノ粒子を隣接する粒子同士を結合させ、一部の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子を肥大化させることで、基板上に印刷されたインクは元々含まれていた微小径の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子と肥大化した金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子とが混在した状態にする。
- 公開日:2011/09/29
- 出典:回路基板の製造方法、およびその回路基板
- 出願人:株式会社フジクラ
-
本発明が適用されるエアゾール式製品やポンプ式製品としては、洗浄剤,清掃剤,制汗剤,冷却剤,筋肉消炎剤,ヘアスタイリング剤,ヘアトリートメント剤,染毛剤,育毛剤,化粧品,シェービングフォーム,食品, 液滴状 のもの(ビタミンなど),医薬品,医薬部外品,塗料,園芸用剤,忌避剤(殺虫剤),クリーナー,消臭剤,洗濯のり,ウレタンフォーム,消火器,接着剤,潤滑剤などの各種用途のものがある。
- 公開日:2009/01/22
- 出典:内容物放出機構ならびにこれを備えたエアゾール式製品およびポンプ式製品
- 出願人:株式会社三谷バルブ
-
細胞Aを保持可能な保持領域Sを上面の所定位置に有する基板本体10と、保持領域S内に一端側が位置した状態で基板本体10の上面に沿ってレール状に設けられ、 液滴状 の溶液Wを移動可能に支持する電極パターン11と、該電極パターン11に電気的接続され、外部と電気接続可能な電気接続部12とを備え、電極パターン11が、所定間隔を空けた状態で平行配置された第1の電極20と第2の電極21とを有し、電気接続部12を介して外部から第1の電極20と第2の電極21との間に所定周波数の交流電圧が印加されたときに、誘電泳動力により両電極20、21に沿って液滴状の溶液Wを任意の方向に移動させる観察用基板2を提供する。
- 公開日:2006/08/24
- 出典:観察用基板及び液滴供給装置
- 出願人:セイコーインスツル株式会社
-
カーボンサセプタに付着した 液滴状 Siの底部への液だれ、および下方への落下を有効に防止する。
- 公開日:1999/02/23
- 出典:単結晶引上装置
- 出願人:株式会社SUMCO
-
また、更に効果的な方法としては、注がれるゾルが 液滴状 でなく、ゲル化容器の壁面、あるいはゲル成形容器内のゾル液面に差し込んだ棒、あるいは板状の治具に伝わらせてゾルが途切れることなく、ゲル化容器内に注ぐ方法がある。
- 公開日:1998/12/22
- 出典:ガラスの製造方法、ゾルの注入装置、およびゲル成形容器
- 出願人:オリンパス株式会社
-
液滴状 ソルダーレジストインキ濡れ広がりを防止して、部品実装エリアを確保することができるプリント配線板の提供。
- 公開日:2017/04/06
- 出典:プリント配線板およびその製造方法
- 出願人:日本シイエムケイ株式会社
-
(インクジェットヘッド4) インクジェットヘッド4は、後述する複数のノズル(ノズル孔Hn)から記録紙Pに対して 液滴状 のインク9を噴射(吐出)して、画像や文字等の記録(印刷)を行うヘッドである。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置および駆動信号生成システム
- 出願人:エスアイアイ・プリンテック株式会社
-
[インクジェットヘッドおよび供給チューブ] インクジェットヘッド4は、供給チューブ50から供給される 液滴状 のインク9を記録紙Pに噴射する液体噴射ヘッドであり、例えば、エッジシュートタイプのインクジェットヘッドである。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置およびヘッドチップの製造方法
- 出願人:エスアイアイ・プリンテック株式会社
液滴状の問題点 に関わる言及
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
( 分野番号表示 ON )※整理標準化データをもとに当社作成
-
結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長