流量比 の意味・用法を知る

流量比 を制御するためのシステムを提供する

• 公開日：2016/05/12
• 出典：流量比を制御するためのシステムおよび方法
• 出願人：ジエネラル・エレクトリツク・カンパニー

次に、表面に開口部を有するマスクＭを形成した炭化ケイ素基板Ｋを基台に載置し、当該炭化ケイ素基板Ｋを２００℃以上に加熱した後、処理チャンバ内にＳＦ６ガス、ＳｉＦ４ガス及びＯ２ガスをそれぞれ前記設定した第１ 流量比 となるように同時に供給してプラズマ化するとともに、基台にバイアス電力を与え、炭化ケイ素基板Ｋのエッチングと、保護膜Ｈの形成とを並行して行い、保護膜Ｈによって保護しつつ、炭化ケイ素基板Ｋのエッチングを進行させ、炭化ケイ素基板Ｋにテーパ形状の凹部を形成する。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：プラズマエッチング方法
• 出願人：ＳＰＰテクノロジーズ株式会社

一方、出湯温度を目標値に調整する制御を行っている場合には、脈動中の温度変動が大きくなる点、入水温度が高い場合などのスケール抑制が不要なときも脈動運転をしてしまう点、水質に関係なく一定の 流量比 を維持してしまう点などが課題であった。

• 登録日：2019/04/19
• 出典：熱交換装置およびヒートポンプ式給湯器
• 出願人：三菱電機株式会社

流量演算器１８０は、 流量比 演算器１６０で定められた燃料流量比を用いて、複数の予混合ノズル群５４Ａ，５４Ｂ毎に供給する燃料流量を求める。

• 公開日：2017/02/09
• 出典：燃料流量設定方法、この方法を実行する装置、この装置を備えるガスタービンプラント
• 出願人：三菱日立パワーシステムズ株式会社

複数の燃料系統を流れる燃料の 流量比 を算出する流量比算出装置１４０は、燃焼器での燃焼状態を表すことができる第一パラメータ及び第二パラメータの値を受け付け、二つのパラメータと流量比との予め定められた関係を用いて、受け付けた二つのパラメータの値に対する流量比を算出する算出器１４０ｐ，１４０ｔを備える。

• 公開日：2016/03/22
• 出典：流量比算出装置、これを備えている制御装置、この制御装置を備えているガスタービンプラント、流量比算出方法、及び燃料系統の制御方法
• 出願人：三菱日立パワーシステムズ株式会社

燃焼器での燃焼状態を表すことができる第一パラメータと複数の燃料系統を流れる燃料の 流量比 との予め定められた関係を用いて、第一パラメータの値に応じた流量比を求める流量比演算器１４１ｐと、ガスタービンの負荷変化時における流量比の補正値を求める補正値演算器１４２ｐと、ガスタービンの負荷の相関値の変動を検知する変動検知器１４４と、変動検知器１４４で負荷相関値の変動が検知されると、流量比演算器１４１ｐで求められた流量比を補正値演算器１４２ｐで求められた補正値で補正する補正器１５１と、を備える。

• 公開日：2016/03/22
• 出典：流量比算出装置、これを備えている制御装置、この制御装置を備えているガスタービンプラント、流量比算出方法、及び燃料系統の制御方法
• 出願人：三菱日立パワーシステムズ株式会社

...膜上に酸化物半導体膜を形成し、前記酸化物半導体膜を加工することにより、前記ゲート絶縁膜上に活性層を形成し、前記活性層上に、前記活性層のチャネル長が１〜５０μｍとなるようにソース電極及びドレイン電極を形成する半導体装置の製造方法であって、前記条件は、前記基板の加熱温度が１００℃以上で且つ前記酸素ガスの 流量比 が７０％以上である条件、または、前記基板の加熱温度が１７０℃以上で且つ前記酸素ガスの流量比が３０％以上である条件であり、前記酸化物半導体膜をＸ線回折によって測定した回転角２θは３１°近傍にピークを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。

• 公開日：2013/10/28
• 出典：半導体装置の製造方法
• 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

このような構成において、制御部４２は、混合水栓１０の上流側にある２つの通路５６，５８の 流量比 に基づいて操作レバー２２の操作量を推定する形で調温制御を実行する。

• 公開日：2015/11/02
• 出典：混合水栓用制御ユニットおよび混合水栓用温度調節装置
• 出願人：株式会社ＬＩＸＩＬ

各流路を通して圧力降下を最小にしつつ各流路に相対流量を送出する 流量比 コントローラシステムを提供する。

• 公開日：2016/03/17
• 出典：４チャンネルガス送出システム、多チャンネルガス送出システム、および制御バルブを制御する方法
• 出願人：イーエヌアイ，アディビジョンオブアステックアメリカ，インコーポレイティド

反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの 流量比 （ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。

• 公開日：2020/03/26
• 出典：ガラス積層体
• 出願人：日東電工株式会社