水素含有量 の意味・用法を知る
水素含有量 とは、物理蒸着 やCVD などの分野において活用されるキーワードであり、JFEスチール株式会社 や日立金属株式会社 などが関連する技術を5,891件開発しています。
このページでは、 水素含有量 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
水素含有量の意味・用法
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試料ガスの 水素含有量 を特定するセンサ装置及び対応する方法を提供する。
- 公開日:2016/07/25
- 出典:試料ガスの水素含有量を特定するセンサ装置及び方法
- 出願人:ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
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TFTのチャネル領域となる酸化物半導体領域41は、 水素含有量 が比較的少ないゲート絶縁膜21の第1の絶縁領域上に形成され、ソース電極51及びドレイン電極52と接触する酸化物半導体領域43は、水素含有量が比較的多いゲート絶縁膜23の第2の絶縁領域上に形成される。
- 公開日:2017/03/02
- 出典:薄膜トランジスタ及びアレイ基板
- 出願人:三菱電機株式会社
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...、表面(35)および放射が通過するための更なる表面(36)が形成されている前記レンズ素子(33)において、該レンズ素子(33)は、前記表面(35)から1mmの距離(d1)までに、少なくとも5x1016分子/cm3、好適には少なくとも5x1017分子/cm3、特に少なくとも10x1017分子/cm3の 水素含有量 ([H2])を有し、水素含有量([H2])が、前記レンズ素子(33)の体積内で、前記表面(35)の水素含有量([H2])の10%以下である最小値にまで低減し、および水素含有量([H2])が、前記表面(35)から8mmの距離(d2)までに、前記表面(35)の水素含有量([H2])の50%以下...
- 公開日:2016/10/13
- 出典:溶融シリカから構成されたブランクに水素を添加する方法、レンズ素子および投影レンズ
- 出願人:カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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基材31と、前記基材上に形成されたダイヤモンドライクカーボンからなる黒色硬質皮膜32とを有する装飾品30であって、前記黒色硬質皮膜がダイヤモンドライクカーボンからなる傾斜層36を含み、前記傾斜層中の 水素含有量 が前記基材から離れるにしたがって増加しており、前記黒色硬質皮膜の波長350〜750nmにおける分光反射率の最大値と最小値との差が5.0%以下であり、前記傾斜層における前記基材側の表面での水素含有量が、0〜24.0atm%であり、前記傾斜層における前記基材側とは反対側の表面での水素含有量が、30.0〜75.0atm%であることを特徴とする装飾品。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:黒色硬質皮膜を有する装飾品
- 出願人:シチズン時計株式会社
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at.%で、Fe:Coの比を10:90〜70:30とし、かつ下記A群元素の1種又は2種以上を0.5〜29.5%、B群元素の1種又は2種以上を0.0〜29.5%を含有し、かつA群元素とB群元素との和を10〜30%とし、 水素含有量 が20ppm未満で、残部Co、Fe及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
- 公開日:2015/12/10
- 出典:磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体
- 出願人:山陽特殊製鋼株式会社
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溶鋼の 水素含有量 に応じた最適な鋳型振動条件で鋳型を振動させ、これにより、溶鋼中の水素起因による拘束性ブレークアウトの発生を防止する。
- 公開日:2017/01/05
- 出典:鋼の連続鋳造方法
- 出願人:JFEスチール株式会社
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ベース基板と、ゲート電極と、活性層と、ソース・トレイン電極と、画素電極と、一つ又は複数の絶縁層とを含み、その中で、少なくとも一つの絶縁層がボトム絶縁層及びトップ絶縁層を含み、前記トップ絶縁層中の 水素含有量 が前記ボトム絶縁層中の水素含有量よりも高いことを特徴とする薄膜トランジスタ及びその製造方法、アレイ基板、ディスプレー装置。
- 公開日:2014/07/03
- 出典:薄膜トランジスタ及びその製造方法、アレイ基板、ディスプレー装置
- 出願人:北京京東方光電科技有限公司
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[解決手段]本発明に係る装飾品は、基材と、上記基材上に形成されたダイヤモンドライクカーボンからなる黒色硬質皮膜とを有する装飾品であって、上記黒色硬質皮膜における上記基材側の表面での 水素含有量 よりも、上記黒色硬質皮膜における上記基材側とは反対側の表面での水素含有量の方が大きく、上記黒色硬質皮膜における上記基材側とは反対側の表面での水素含有量が30.0〜75.0atm%であることを特徴とする。
- 公開日:2017/02/16
- 出典:黒色硬質皮膜を有する装飾品の製造方法
- 出願人:シチズン時計株式会社
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一実施形態による磁気記録媒体は、非磁性基板上の少なくとも1つのグランド層と;グランド層上の磁気記録層と;磁気記録層上のオーバーコートとを含み、オーバーコートは、sp2結合に対するsp3結合の比(sp3/(sp2+sp3))が少なくとも0.5である非晶質炭素膜であり、前記オーバーコートの膜厚方向における、オーバーコートの中心層中の 水素含有量 が0.1原子%〜0.6原子%である。
- 公開日:2014/05/29
- 出典:磁気記録媒体および磁気ヘッド用の超微量の水素を含有する硬質非晶質炭素膜
- 出願人:エイチジーエスティーネザーランドビーブイ
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そして、この水素が上述した膜剥離や電気抵抗値の上昇という問題を誘発させることを確認し、MoTiターゲット材の 水素含有量 を従来よりも低減することにより上記の問題が解消できることを知見し、本発明に到達した。
- 公開日:2013/05/09
- 出典:MoTiターゲット材の製造方法
- 出願人:日立金属株式会社
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
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炭素・炭素化合物
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- 装置
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- 製造、処理、取扱(ドライアイスはLA)
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- 二酸化炭素の固体化(ドライアイスの製造)
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- 原料、前駆体
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物の製造
- 処理、後処理、取扱
- 装置