水素原子 と関連性が強い法人一覧

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東京応化工業株式会社 フォトリソグラフィー用材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)ホトレジスト感材への露光・位置合せ レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 技術一覧を見る
富士フイルム株式会社 染料フォトリソグラフィー用材料インキ、鉛筆の芯、クレヨン 水系顔料分散液、インクジェット用インク、画像記録方法、及び水系顔料分散液の製造方法 技術一覧を見る
住友化学株式会社 農薬・動植物の保存フォトリソグラフィー用材料染料 有害節足動物防除剤 技術一覧を見る
富士フイルムホールディングス株式会社 ホトレジストの材料フォトリソグラフィー用材料染料 微粒子分散物、これを用いたインク、及びインクジェット記録方法 技術一覧を見る
信越化学工業株式会社 フォトリソグラフィー用材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)付加系(共)重合体、後処理、化学変成 付加硬化型シリコーンゴム組成物及びエアーバッグ 技術一覧を見る
花王株式会社 化粧料セメント、コンクリート、人造石、その養生セメント、コンクリート、人造石、その養正 毛髪処理方法 技術一覧を見る
コニカミノルタ株式会社 銀塩写真法またはそのための処理液銀塩写真感光材料非銀塩感光材料および非銀塩写真法 電子写真感光体 技術一覧を見る
日産化学工業株式会社 農薬・動植物の保存有機低分子化合物及びその製造複数複素環系化合物 生体物質の付着抑制能を有するイオンコンプレックス材料及びその製造方法 技術一覧を見る
三菱化学株式会社 染料インキ、鉛筆の芯、クレヨン化合物または医薬の治療活性 皮膚外用剤 技術一覧を見る
日本化薬株式会社 染料インキ、鉛筆の芯、クレヨンインクジェット(インク供給、その他) アゾ化合物及びそれらを含有する染料系偏光膜並びに偏光板 技術一覧を見る
三井化学株式会社 高分子組成物有機低分子化合物及びその製造付加系(共)重合体、後処理、化学変成 新規な末端分岐型ポリオレフィン系重合体およびその用途 技術一覧を見る
キヤノン株式会社 インクジェット(インク供給、その他)インキ、鉛筆の芯、クレヨン電子写真における感光体 混合物、トナーおよび分散体 技術一覧を見る
旭硝子株式会社 有機低分子化合物及びその製造付加系(共)重合体、後処理、化学変成触媒を使用する低分子有機合成反応 ピラゾール誘導体の製造方法 技術一覧を見る
DIC株式会社 付加系(共)重合体、後処理、化学変成液晶物質有機低分子化合物及びその製造 重合体を用いた透過膜及びその積層体 技術一覧を見る
チバホールディングインコーポレイテッド 高分子組成物化粧料染料 コポリマー及び個人ケア用組成物中におけるその使用 技術一覧を見る
JSR株式会社 フォトリソグラフィー用材料付加系(共)重合体、後処理、化学変成ホトレジスト感材への露光・位置合せ 化合物 技術一覧を見る
第一三共株式会社 化合物または医薬の治療活性他の有機化合物及び無機化合物含有医薬非環式または炭素環式化合物含有医薬 シクロアルキル基で置換されたイミダゾール誘導体 技術一覧を見る
宇部興産株式会社 二次電池(その他の蓄電池)農薬・動植物の保存有機低分子化合物及びその製造 アルミ電解コンデンサ用電解液及びそれを用いたアルミ電解コンデンサ 技術一覧を見る
日本曹達株式会社 農薬・動植物の保存複数複素環系化合物有機低分子化合物及びその製造 2-アミノ置換ベンズアルデヒド化合物を製造する方法 技術一覧を見る
武田薬品工業株式会社 化合物または医薬の治療活性他の有機化合物及び無機化合物含有医薬非環式または炭素環式化合物含有医薬 複素環化合物 技術一覧を見る
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