整数 の意味・用法を知る

（式中、各環Ｚは縮合多環式アレーン環、各Ｒ１及び各Ｒ２は置換基、各Ｒ３はアルキレン基、各Ｒ４は水素原子又はメチル基、各ｋは０〜４の 整数 、各ｍは０以上の整数、各ｎは１以上の整数を示す。

• 公開日：2018/04/12
• 出典：硬化性組成物及びその硬化物
• 出願人：大阪ガスケミカル株式会社

式１’または２’：を有する化合物：式中、ｎおよびｍは１以上の 整数 であり；Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8は、独立して、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、アミノ、エステル、アルデヒド、ヒドロキシル、アルコキシ、チオール、チオアルキル、ハロゲン化物、ハロゲン化アシル、アクリレート、またはビニルエーテルであり；ａ、ｂ、ｃ、およびｄは、独立して、１以上の整数であり；ｅおよびｆは、ゼロ以上の整数であり；ＸおよびＹは、独立して、共有結合、アリール基、縮合アリール基、アルキンまたはアルケンであり；Ａおよ...

• 公開日：2018/03/15
• 出典：分岐アルキル鎖を有するＤＰＰまたは（および）分岐アルキル鎖を有する縮合チオフェン、並びにそれらの半導体コポリマーの分子量を増加させるための設計戦略
• 出願人：コーニングインコーポレイティッド

（式中、各環Ｚは縮合多環式アレーン環、各Ｒ１及び各Ｒ２は置換基、各Ｒ３及びＲ６はアルキレン基、各Ｒ４及びＲ５は水素原子又はメチル基、Ｒ７はアルキル基、Ａｒはアレーン環、Ｘは酸素原子又は硫黄原子、各ｋは０〜４の 整数 、各ｍは０以上の整数、各ｎ及びｐは１以上の整数、ｑは０以上の整数を示す。

• 公開日：2018/04/12
• 出典：硬化性組成物及びその硬化物
• 出願人：大阪ガスケミカル株式会社

...ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、水酸基の水素原子がビニルフェニルメチル基で置換された基、下記式（Ａ）で表される群から選ばれる基、チオール基、又は水酸基であり、ここで、前記Ｒ２〜Ｒ５の少なくとも１つは、前記式（Ａ）で表される群から選ばれる基であり、ｍ２及びｍ３は、各々独立して、０〜８の 整数 であり、ｍ４及びｍ５は、各々独立して、０〜９の整数であり、但し、ｍ２、ｍ３、ｍ４及びｍ５は同時に０となることはなく、ｎは１〜４の整数であり、ｐ２〜ｐ５は、各々独立して、０〜２の整数である。）

• 公開日：2018/05/10
• 出典：新規化合物及びその製造方法
• 出願人：三菱瓦斯化学株式会社

ｘは、０〜４の 整数 である。

• 公開日：2017/12/07
• 出典：熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント配線板
• 出願人：日立化成株式会社

...あり、Ｒ２は各々独立して、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、水酸基又は水酸基の水素原子が酸解離性基で置換された基であり、同一のナフタレン環又はベンゼン環において同一であっても異なっていてもよく、ｎは１〜４の 整数 であり、一般式（１）及び（２）中、ｎが２以上の整数の場合、ｎ個の繰り返し単位の構造式は同一であっても異なっていてもよく、一般式（１）中、ｍ１は各々独立して０〜７の整数であり、但し、少なくとも１つのｍ１は１〜７の整数であり、一般式（２）中、Ｘは各々独立して酸素原子又は硫黄原子であり、ｍ２は各々独立...

• 公開日：2018/01/25
• 出典：化合物、レジスト組成物及びそれを用いるレジストパターン形成方法
• 出願人：三菱瓦斯化学株式会社

...酸、スクシンイミド基、リン酸、硫酸、スルホン酸、ベタイン、カルボン酸、アミノ酸、二酸、ビスリン酸もしくはホスファチジルコリン基であるようなＣ１−１０−Ｒ１３基であるが、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３の複数の基は、同一または異なってもよく；かつｘは１から１０００までの 整数 であり、ｘの複数の基は、同一または異なってもよく；ｙは１から１０００までの整数であり、ｙの複数の基は、同一または異なってもよく；かつｍは１から１０００までの整数であり、ｍの複数の基は、同一または異なってもよい）を特徴とする、請求項８の組成物。

• 公開日：2018/02/08
• 出典：歯内処置用の改善された組成物
• 出願人：デンツプライインターナショナルインコーポレーテッド

前記連結部が、下記一般式（１）で表わされる、請求項１〜４のいずれか１項記載のブロック共重合体。（式中、ｒは１〜３０の 整数 を表し、Ｒ２は求核性官能基と反応し得る構造を表わす）

• 公開日：2017/03/02
• 出典：ブロック共重合体、ミクロ相分離構造膜の製造方法、及び該製造方法により得られたミクロ相分離構造膜
• 出願人：彌田智一

）（ｐは１〜５の 整数 を示す。

• 公開日：2018/03/01
• 出典：ポリアミド化合物
• 出願人：トヨタ紡織株式会社

（式（２）中、ｔは２または３の 整数 を表し、ｒは１〜４の整数を表し、ｋは０〜３の整数を表す。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
• 出願人：昭和電工株式会社