成膜装置 の意味・用法を知る

ここで、本明細書において、制御装置とは、単独の制御装置だけでなく、複数の制御装置が協働して 成膜装置 の制御を実行する制御装置群をも意味する。このため、制御装置は、単独の制御装置から構成される必要はなく、複数の制御装置が分散配置され、それらが協働して成膜装置を制御するように構成されていてもよい。

• 公開日： 2009/09/10
• 出典： エアロゾル生成器及びそれを備える成膜装置
• 出願人： ブラザー工業株式会社

本明細書において、制御装置とは、単独の制御装置だけでなく、複数の制御装置が協働して 成膜装置 の制御を実行する制御装置群をも意味する。このため、制御装置は、単独の制御装置から構成される必要はなく、複数の制御装置が分散配置され、それらが協働して成膜装置を制御するように構成されていてもよい。

• 公開日： 2009/02/12
• 出典： エアロゾル生成装置およびエアロゾル生成方法
• 出願人： ブラザー工業株式会社

基板の表面や裏面を汚さず、基板と背板とを積み重ねたまま装着可能な着脱装置、当該着脱装置を備えて構成される着脱システム、並びに、当該着脱システムを備えた 成膜装置 の提供。

• 公開日： 2005/06/23
• 出典： 着脱装置、着脱システム、並びに、成膜装置
• 出願人： 株式会社カネカ

上述した各実施の形態に係る基板処理装置の検査方法が適用される基板処理装置は、エッチング処理装置であったが、該基板処理装置の検査方法が適用される基板処理装置はこれに限られず、例えば、塗布現像装置、基板洗浄装置、熱処理装置、蝕刻装置、 成膜装置 等であってもよい。

• 公開日： 2006/07/06
• 出典： 基板処理装置の検査方法及び検査プログラム
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

同様の問題は薄膜を成膜する場合に限らず、帯状の基板を利用する基板処理装置全般に生じうるものである。ここで基板処理装置の例としては、スパッタリング装置、蒸着装置、ＣＶＤ装置、メッキ装置、塗布装置等の 成膜装置 やエッチング装置、洗浄装置等が挙げられる。

• 公開日： 2000/07/25
• 出典： 基板処理装置及び基板処理方法
• 出願人： キヤノン株式会社

例えば、上記実施形態では、 成膜装置 としてＣＶＤ装置を例示したが、成膜装置はＣＶＤ装置に限らず、膜を堆積する装置であれば適用できる。例えば、ＡＬＤ装置やスパッタ装置にも適用することができる。

• 公開日： 2010/03/18
• 出典： 石英ヒーター及び成膜装置
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

液体吐出装置は、液体を吐出することができれば特に限定されず、例えば、プリンタ、カラーフィルタ製造装置、染色装置、微細加工装置、半導体製造装置、表面加工装置、三次元造形機、液体気化装置、有機ＥＬ製造装置、ディスプレイ製造装置、 成膜装置 、および、ＤＮＡチップ製造装置などのインクジェット技術を応用した各種の装置であっても良いが、製造される堆積物が視覚的にキラキラと輝くことから、プリンタであることが好ましい。

• 公開日： 2013/05/23
• 出典： 堆積物製造方法及び液体吐出装置
• 出願人： セイコーエプソン株式会社

また、上記実施形態においては基板処理装置の一例として、プラズマ処理装置を説明したが、これに限られるものではなく、熱ＣＶＤ装置やその他の蒸着装置であってもよい。また、エッチング装置、 成膜装置 等であってもよく、要は基板を処理する装置であれば装置の用途や構成に限定されることはない。

• 公開日： 2013/12/26
• 出典： 基板載置台及び基板処理装置
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

紫外光照射処理は、薄膜が成膜された基板を紫外光照射処理装置に搬入し実施することができる。なお、成膜を実施するCVD装置等に紫外光照射装置をつけることにより単一装置で成膜と紫外光照射処理を実施することも可能であるが、構造的には紫外光照射装置は 成膜装置 と分けた方が好ましい。

• 公開日： 2006/08/03
• 出典： 紫外光照射機構を備えた半導体製造装置及び紫外光照射による半導体基板の処理方法
• 出願人： 日本エー・エス・エム株式会社

以上説明では有機ＥＬ表示装置を製造する有機ＥＬ表示装置製造装置の例を説明したが、有機ＥＬ表示装置と同じ背景にある蒸着処理をする 成膜装置 および成膜方法にも適用できる。

• 公開日： 2013/10/10
• 出典： 成膜装置及び成膜方法
• 出願人： 株式会社日立ハイテクサイエンス

なお、ここで使った製造装置である真空蒸着装置、集束イオンビーム装置は、金属膜が形成出来る 成膜装置 、金属膜が加工できる装置であれば、特段の限定はない。真空蒸着装置としては、抵抗加熱式装置、電子ビーム加熱式装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置などを利用してもよい。また、集束イオンビーム装置の代わりにイオンミリング装置を利用してもよい。ただしイオンミリング装置を使う場合は、所望の形状を加工するため、レジスト塗布、露光など複数の工程が追加される。

• 公開日： 2011/09/22
• 出典： 位相板およびこれを用いた位相差電子顕微鏡
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社

成膜装置 は、有機機能材料と溶媒と酸化防止剤とを含む液状体組成物を生成する組成物調整装置Ｓと、組成物調整装置Ｓで生成した液状体組成物からなる液滴を基板Ｐに吐出する液滴吐出装置ＩＪとを備えている。

• 公開日： 2004/03/18
• 出典： 組成物、成膜方法及び成膜装置、電気光学装置及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、デバイス及びその製造方法、電子機器
• 出願人： セイコーエプソン株式会社

荷電粒子加速器や 成膜装置 等の高電圧を必要とする機器に使用することが可能な高電圧発生方法及びその装置を提供する。高電圧発生装置、高電圧発生部を有する高電圧発生装置を使用して高電圧を発生させる際に、高真空場を絶縁体として利用する。高電圧発生装置、及び高電圧発生部を有する機器のコンパクト化、低コスト化を実現できる。

• 公開日： 2007/06/21
• 出典： 高電圧発生法及び高電圧発生装置
• 出願人： 独立行政法人産業技術総合研究所

また、上記実施形態では、 成膜装置 として、マイクロ波プラズマ成膜装置を例示したが、マイクロ波プラズマ成膜装置に限られることもなく、他のプラズマ成膜装置を使用することもできる。

• 公開日： 2009/10/22
• 出典： 成膜装置、成膜方法及び半導体集積回路装置の製造方法
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

膜厚が厚い場合でも、結晶性に優れ、機能性薄膜としての特性を十分に発揮させることができる機能性薄膜を得ることができる機能性薄膜の成膜方法および 成膜装置 を提供する。

• 公開日： 2013/06/20
• 出典： 機能性薄膜の成膜方法および成膜装置
• 出願人： 住友電気工業株式会社