微細パターン の意味・用法を知る
微細パターン とは、半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) や半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、大日本印刷株式会社 や旭硝子株式会社 などが関連する技術を8,884件開発しています。
このページでは、 微細パターン を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
微細パターンの意味・用法
-
透光基板10の表層部に、光の波長以下のピッチで配置され、且つ、ランダムに配置された複数の曲線を含む 微細パターン 10aが設けられ、構造複屈折を呈する偏光解消板100。
- 公開日:2017/01/12
- 出典:偏光解消板、それを用いた光学機器及び液晶表示装置、並びに偏光解消板の製造方法
- 出願人:デクセリアルズ株式会社
-
ミリサイズのパターン上に、サブミクロンサイズの 微細パターン を有する二段構造体を一回の転写で形成することができるインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
- 公開日:2017/11/02
- 出典:インプリント用モールド及びその製造方法、並びにこのインプリント用モールドを用いた構造体の製造方法
- 出願人:凸版印刷株式会社
-
凹凸表面貼付用フィルムを用いた表面凹凸被処理物上への 微細パターン 転写方法を提供する。
- 公開日:2017/04/13
- 出典:凹凸表面貼付用フィルムを用いた表面凹凸被処理物への微細パターン転写方法
- 出願人:株式会社アイセロ
-
蛍光光源用発光素子の製造方法は、蛍光基板の表面若しくは機能材料層の表面に感光性材料層を形成するステップと、コヒーレント光源の出力光を2以上に分岐した光を所定の干渉角度で交差させて、干渉縞の長手方向が所定の角度で交差する干渉光を発生し、当該干渉光を用いて、感光性材料層の干渉露光を行うステップと、干渉露光後の感光性材料層における干渉光の照射エリア若しくは非照射エリアを除去して、感光性材料層に 微細パターン を形成するステップと、感光性材料層の微細パターンを用いて、蛍光基板若しくは機能材料層をエッチングしてフォトニック構造を得るステップと、を含む。
- 公開日:2016/06/20
- 出典:蛍光光源用発光素子の製造方法
- 出願人:ウシオ電機株式会社
-
積層体(10)は、基板(11)と、基板の上面側に凹凸の 微細パターン (12)を構成する熱反応型レジスト材料から成るレジスト材料層(18)と、前記レジスト材料層の表面に形成されたネガ型熱反応型レジスト材料から成る被覆層(13)と、を有し、被覆層は、レジスト材料層の膜厚と同等あるいはそれよりも薄い膜厚で形成されていることを特徴とする。
- 公開日:2016/09/05
- 出典:積層体の製造方法、及びモールドの製造方法
- 出願人:旭化成メディカル株式会社
-
基板上構造体の製造方法は、基板の表面若しくは機能材料層の表面に感光性材料層を形成するステップと、コヒーレント光源の出力光を2以上に分岐した光を所定の干渉角度で交差させて、干渉縞の長手方向が所定の角度で交差する干渉光を発生し、当該干渉光を用いて、感光性材料層の干渉露光を行うステップと、干渉露光後の感光性材料層における干渉光の照射エリア若しくは非照射エリアを除去して、感光性材料層に 微細パターン を形成するステップと、感光性材料層の微細パターンを用いて、基板若しくは機能材料層をエッチングして微細パターンを得るステップと、を含む。
- 公開日:2016/06/20
- 出典:基板上構造体の製造方法
- 出願人:ウシオ電機株式会社
-
微細パターン の構造体10は、誤報対策として、人体検知器1に外部から光が照射された際に、構成部品を増やすことなく、外部からの光の反射を抑制して誘虫性を低減する。
- 公開日:2017/06/29
- 出典:人体検知器
- 出願人:株式会社チノー
-
表示装置は、光源から表示面に向かう光路に沿って順に配置された、偏光フィルム、第1絶縁基板、第2絶縁基板及び偏光フィルムを備え、前記偏光フィルム同士は平行又は垂直な偏光軸を有し、第1絶縁基板及び第2絶縁基板は絶縁性の透明基板を備え、前記第1絶縁基板及び第2絶縁基板の少なくとも一方は、前記透明基板上に形成された不透明な下層配線DLと、光路における下層配線DLの前段又は後段において、透明な絶縁膜を介して下層配線DLと対向する 微細パターン 34と、を備える。
- 公開日:2017/02/02
- 出典:表示装置
- 出願人:三菱電機株式会社
-
微細パターン 2を表面1aに有する表面層1と、表面層1の裏面1bを支持する支持層5と、を備え、表面層1が、少なくとも炭素数16以上の直鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリレートを重合させることによって得られる側鎖結晶性ポリマーと、紫外線硬化性官能基を有する化合物とを反応させることによって得られる紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなり、前記側鎖結晶性ポリマーが、反応性フッ素化合物をさらに重合させることによって得られる共重合体からなる、インプリント用モールド10およびその製造方法である。モールド10を用いて微細構造を製造する方法である。
- 公開日:2016/09/23
- 出典:インプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法
- 出願人:ニッタ株式会社
-
微細パターン を形成した時でも優れたパターンラフネスを維持可能な熱反応型レジスト材料、及びそれを用いたモールドの製造方法、並びにモールドを提供することを目的とする。
- 公開日:2016/04/21
- 出典:熱反応型レジスト材料、熱反応型レジスト薄膜、及びそれを用いたモールドの製造方法
- 出願人:旭化成メディカル株式会社
微細パターンの問題点 に関わる言及
-
液体組成物Bの衝突により硬化性組成液Aに 微細パターン が形成されるので、少なくとも硬化性組成液Aが硬化性であればよく、液体組成物Bは硬化性又は非硬化性のいずれであってもよい。液体組成物Bが硬化性を有する場合には、硬化性組成液Aと共にあるいは硬化性組成液Aとは別に液体組成物Bを硬化させることができる。
- 公開日: 2008/03/21
- 出典: 微細加工方法
- 出願人: 富士フイルム株式会社
-
液滴Bの衝突により硬化性組成液Aに 微細パターン が形成されるので、少なくとも硬化性組成液Aが硬化性であればよく、液滴Bは硬化性又は非硬化性のいずれであってもよい。液滴Bが硬化性を有する場合には、硬化性組成液Aと共にあるいは硬化性組成液Aとは別に硬化させるようにすることができる。
- 公開日: 2008/03/21
- 出典: 微細加工装置
- 出願人: 富士フイルム株式会社
-
解決しようとする問題点は、上述したように、感度及び密着性に優れ、適切なパターン形状や 微細パターン を得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2009/11/26
- 出典: 新規化合物、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
-
解決しようとする問題点は、上述したように、撥インク性とアルカリ現像性に優れ、感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等の特性を保持したままで適切なパターン形状や 微細パターン を効率よく得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2009/01/29
- 出典: 含フッ素共重合体、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
微細パターンの特徴 に関わる言及
微細パターンの使用状況 に関わる言及
-
マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な 微細パターン を形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
- 公開日: 2007/11/08
- 出典: 近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法
- 出願人: キヤノン株式会社
-
一方、アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有するアルカリ現像性樹脂及び光重合開始剤を含有するものである。このアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、紫外線又は電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、光硬化性インキ、感光性印刷版、プリント配線版、各種フォトレジスト等に用いられている。最近、電子機器の軽薄短小化や高機能化の進展に伴い、 微細パターン を精度良く形成することができるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれている。
- 公開日: 2012/12/10
- 出典: エポキシ化合物、及びこれを含有する重合性組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
( 分野番号表示 ON )※整理標準化データをもとに当社作成
-
半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜
-
曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤、配合剤
- 材料の状態、形態
- 挿入物等(補強材、芯材、表面材、ライニング対象部材、接合対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状、構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(1)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(2)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形システム
- 予備成形品及びその製造
- 予備成形品の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 曲げ、直線化成形操作およびそのための装置
- 曲げ、直線化成形の付属操作および付属装置
- 管端部の成形型
- 管端部の成形操作
- 管端部の成形の付属操作
- 曲げ、直線化成形品の後処理・後加工
- 表面成形の区分(1)
- 表面成形の区分(2)
- 表面成形された面の形状
- 予備成形品及びその製造
- 予備成形材料の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 表面成形の操作
- 付属装置
- 成形品の後処理、後加工
-
プラスチック等の成形用の型
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤・配合剤
- 材料の状態・形態
- 挿入物等(挿入物,補強材,芯材,表面材,ライニング対象部材,接合の対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状,外観に特徴ある成形品
- 一般形状・構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 型全般の区分(1)
- 型全般の区分(2)
- 型の全体的装置構成
- 型の製造
- 型の構成
- 型締め、型開閉
- 成形品の取出し
- 加熱、冷却
- ベント、空気抜き
- インサート物、表面材の位置決め、保持
- 型の取付け、交換
- 補助操作
- タイヤ加硫プレス
- タイヤ用型、コア
- タイヤ成形用中心機構
- 型の開閉、型締め
- タイヤの加硫、冷却
- タイヤの搬出入