形成装置 の意味・用法を知る
形成装置 とは、物理蒸着 や気相成長(金属層を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社リコー やキヤノン株式会社 などが関連する技術を20,392件開発しています。
このページでは、 形成装置 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
形成装置の意味・用法
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細胞立体物 形成装置 は、生物学的試料を含んで、混合されることでハイドロゲルが形成される溶液を、液滴にして吐出する少なくとも2つの液滴吐出ノズルと、空気を放出する空気ノズルと、該空気ノズルから立体物に空気を放出して該流量を測定する流量測定部と、該流量測定部から出力される流量信号に基づいて、前記空気ノズルと前記立体物との隙間寸法を計測する計測制御部と、を備える。
- 公開日:2017/09/28
- 出典:細胞立体物形成装置
- 出願人:株式会社日進製作所
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集束音場 形成装置 において、プラント等の配管中の気体の流れを阻害せず、かつ、設置によりプラント等の設備が複雑化することを抑制する。
- 公開日:2017/08/31
- 出典:定在波音場形成装置
- 出願人:学校法人日本大学
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エンジン1の吸排気弁3、4を開閉動するバルブ機構5と、冷間始動時にバルブ機構5での排気弁4の開閉タイミングを変更して排気行程の途中で排気弁4を強制的に閉じて排ガスを気筒2内に閉じ込める内部EGR 形成装置 6とを備えたものである。
- 公開日:2017/09/28
- 出典:エンジン暖機装置
- 出願人:いすゞ自動車株式会社
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ワイヤ送給抵抗を増大させることのないワイヤバッファ 形成装置 を提供する。
- 公開日:2017/08/10
- 出典:ワイヤバッファ形成装置およびワイヤ送給装置
- 出願人:株式会社ダイヘン
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外来異物となるスキャフォールドを含むことなく細胞集合体に対して、有意な外部刺激を与えることによって、強度及び生体適合性の高い組織体を形成する組織体 形成装置 を提供する。
- 公開日:2016/01/07
- 出典:組織体形成装置及び組織体形成キット
- 出願人:国立大学法人佐賀大学
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最小の製造技術費用で、供給時だけでなく顕微鏡検査時にも浸漬液漏れがほぼ完全に排除されるという点で、倒立顕微鏡における浸漬膜 形成装置 を発展させること。
- 公開日:2015/01/29
- 出典:浸漬膜形成装置
- 出願人:カールツァイスマイクロイメージングゲーエムベーハー
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処理部8は、中央に前後に伸延する基板搬送装置9を配置するとともに、基板搬送装置9の両側に密着層 形成装置 10、触媒層形成装置11、第1無電解めっき層形成装置12、第2無電解めっき層形成装置13、電解めっき層形成装置14を並べて配置する。
- 公開日:2017/01/12
- 出典:めっき処理方法及びめっき処理部品並びにめっき処理システム
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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対向して配置された第1の光源群と第2の光源群とを用いて、第1の光源群と第2の光源群とが発した複数の光を合成して出射する照明光 形成装置 を提供すること。
- 公開日:2017/11/16
- 出典:画像投射装置
- 出願人:株式会社リコー
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汎用性があって装置構成が簡易であり、凝集装置としても好適に利用可能な集束音場 形成装置 を提供する。
- 公開日:2016/08/18
- 出典:集束音場形成装置
- 出願人:学校法人日本大学
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それぞれの照射可能領域AL,ARを複数の要素に分解して任意の要素を変更することによって任意の光学像を形成する、少なくとも一対の二次元画像 形成装置 10L,10Rを有し、少なくとも1つの二次元画像形成装置10Lの照射可能領域ALは、他の二次元画像形成装置10Rの照射可能領域ARとは異なる、車両用灯具システム1が提供される。
- 公開日:2017/03/02
- 出典:車両用灯具システム
- 出願人:株式会社小糸製作所
形成装置の問題点 に関わる言及
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ
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付属装置、全体制御
- プリンタの用途
- 印字ヘッドの種類
- 印字機能
- 印字媒体
- 構成部材,付属装置に共通した目的,手段
- プリンタ全体の形
- プリンタの筐体,被覆部の構造
- オプション部材
- ユニットの構造,ユニット化
- 通信部材,配線部材
- 原稿の取り扱い
- 印字前処理
- 印字後処理
- 秘密保持
- 清掃
- 冷却
- 静電気の除去,ノイズの除去
- 印字データ以外の情報の入出力,固定表示
- フレーム
- プリンタ台,机,脚
- 防振,防音,消音
- 目視機構
- 線引き
- 修正,抹消,消去
- 制御の目的
- 制御の対象
- 制御のための検知,計数の対象
- 書式に関する記載のあるもの
- 印字モードに関する記載のあるもの
- プリンタに与えられる制御コマンド
- プリンタからホストに通知される信号
- プリンタ,サーバ,ホストの接続形態,制御
- プリントサーバによる制御
- エミュレーション,データの翻訳
- 節電制御
- 異常予防,対策
- その他の制御
- 付加情報の印字
- 自己診断,テスト印字,印字品質検査
- 紙残量,紙端部の検出
- 左右マージン,上下マージン
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電子写真における制御・保安
- 装置状態の検出・検知・測定・計測・計数
- 原稿の検出・検知・測定・計測
- 転写紙の検出・検知・測定・計測
- サプライの検出
- 検出器の種類、構造、配置等
- 画質条件制御の対象
- 画質制御の対象となる画像の種類
- 画質制御の手段・方法
- タイミング・同期制御の対象
- タイミング・同期制御の手段・方法
- 制御する時期
- 動作・休止期間の制御
- 準備動作
- 監視・管理、電源操作・遠隔制御
- 異常時の処理
- 複写モードの選択/誤選択時の処理
- 複写モードの自動設定・自動切換え
- 標準モードの設定・選択
- 画像編集
- 入力操作・表示パネル
- 表示内容(検出、モード選択とペア)
- 故障,異常の点検・検査/自己診断
- 保守・交換・調整
- 環境調節の目的
- 環境調節の手段・方法
- 環境調節の適用箇所
- その他
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜