形成方法 の意味・用法を知る
形成方法 とは、半導体集積回路装置の内部配線 や半導体の電極 などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 やセイコーエプソン株式会社 などが関連する技術を263,098件開発しています。
このページでは、 形成方法 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
形成方法の意味・用法
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応力腐食に対する耐食性の高い構造の配管支持構造及びその 形成方法 を提供する。
- 公開日:2017/07/27
- 出典:配管支持構造及びその形成方法
- 出願人:三菱重工業株式会社
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バルク金属と同等の導電性を有する導電パターンを、フォトリソ法を用いる場合よりも容易かつ低コストで形成することを可能とする、導電パターンの 形成方法 および電子デバイスの製造方法を提供する。
- 公開日:2017/11/24
- 出典:導電パターンの形成方法および電子デバイスの製造方法
- 出願人:DIC株式会社
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簡単な工程で形状制御してナノロッドを形成することができるナノロッドの 形成方法 を提供する。
- 公開日:2018/02/15
- 出典:ナノロッドの形成方法及び半導体素子の製造方法
- 出願人:日亜化学工業株式会社
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防食用の下地塗膜の 形成方法 において、防食性を向上させることである。
- 公開日:2017/12/21
- 出典:下地塗膜の形成方法
- 出願人:株式会社IHI
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より低温で、かつ、プラズマを使用しないCVDやALD等の成膜プロセスに好適なチタン含有膜形成用前駆体、及び該前駆体を使用したチタン含有膜の 形成方法 を提供する。
- 公開日:2017/06/01
- 出典:チタン含有膜形成用前駆体、及びチタン含有膜の形成方法
- 出願人:レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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p型有機半導体層及びn型有機半導体層の双方にコンタクト電極として働く、新規なコンタクト電極の構造及びその 形成方法 を提供する。
- 公開日:2016/09/01
- 出典:コンタクト電極およびその形成方法
- 出願人:国立大学法人東京大学
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作製工程が簡素で微細パターンが形成できる銀ナノワイヤパターンの 形成方法 を提供することを目的とする。
- 公開日:2016/08/22
- 出典:銀ナノワイヤパターンを有する部材およびその製造方法
- 出願人:アルプス電気株式会社
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H2O蒸気ガスを反応ガスとして、SiO2膜上へスパッタ法によりEuドープZnOを成膜した後に、ポストアニールすることを特徴とする EuドープZnO蛍光体膜の 形成方法 。
- 公開日:2018/02/15
- 出典:EuドープZnO高効率蛍光体膜の形成方法
- 出願人:東日本電信電話株式会社
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スパッタリング法による不連続金属薄膜の形成において、安定的且つ容易に、また、量産化に対応した広い面積の基材に対しても、高い成膜精度での成膜を可能とする不連続金属膜の 形成方法 を提供する。
- 公開日:2017/01/19
- 出典:不連続金属膜の形成方法
- 出願人:CBC株式会社
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さらに、フレキシブル基材のように歪みやすい基材であっても、歪み補正を行うことができる親撥パターン 形成方法 を提供する。
- 公開日:2016/06/23
- 出典:光架橋剤による電極印刷用親撥パターン形成方法
- 出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
形成方法の原理 に関わる言及
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この緊張力伝達構造の 形成方法 によれば、緊張力伝達部材の外周から補助筋を嵌め込むだけで緊張力伝達部材に補助筋を取り付けることができるので、非常に簡単に緊張力伝達構造を形成することができる。
- 公開日: 2007/12/13
- 出典: 緊張力伝達部材、緊張力伝達構造および緊張力伝達構造の形成方法
- 出願人: 住友電工スチールワイヤー株式会社
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給電部直下での分極反転を防止すると共に、周期分極反転用電極のパターン形状が正確に反映された、分極反転部分の形状が均一な分極反転構造を基板の厚みに依らずに実現できる周期分極反転用電極、周期分極反転構造の 形成方法 及び周期分極反転素子を提供する。
- 公開日: 2013/08/19
- 出典: 周期分極反転用電極、周期分極反転構造の形成方法及び周期分極反転素子
- 出願人: 株式会社島津製作所
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液晶の欠陥構造である転傾の接近等に起因して生じる液晶流動を利用し、物体の微少移動を容易に行うことができる液晶欠陥の移動に起因する流動を利用した物体移動機構および物体移動方法、並びに液晶欠陥を利用した液晶流動形成機構および液晶流動 形成方法 を提供する。
- 公開日: 2007/03/22
- 出典: 液晶欠陥を利用した液晶流動形成機構および液晶流動形成方法、並びに、液晶流動を利用した物体移動機構および物体移動方法
- 出願人: 公立大学法人高知工科大学
形成方法の問題点 に関わる言及
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印刷版胴のプレート印刷版の取り付けを簡便かつ短時間で精度よく行うことができ、生産効率が向上し、既存の装置にも流用可能な印刷版胴、缶の印刷装置及び印刷版胴の 形成方法 を提供する。
- 公開日: 2009/10/08
- 出典: 印刷版胴、缶の印刷装置及び印刷版胴の形成方法
- 出願人: ユニバーサル製缶株式会社
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塗膜形成直後から親水性が高く、優れた耐汚染性を発現する塗膜を得ることができる耐汚染性塗料組成物および塗膜 形成方法 ならびに耐汚染性有機溶剤型塗料組成物を提供する。
- 公開日: 2003/01/21
- 出典: 耐汚染性塗膜形成方法および耐汚染性塗膜ならびに耐汚染性有機溶剤型塗料組成物
- 出願人: 日本ペイントホールディングス株式会社
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既設の基材の汚れの影響で表面の透明性、意匠性や親水性が損なわれることのない光触媒性親水性被膜の 形成方法 ならびに基材の汚れを除去するための洗浄剤および光触媒性親水性被膜形成材料を提供する。
- 公開日: 1998/12/22
- 出典: 光触媒性親水性被膜の形成方法ならびに光触媒性親水性被膜形成用基材洗浄剤および光触媒性親水性被膜形成材料
- 出願人: TOTO株式会社
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未架橋粘着剤層と架橋粘着剤層の 形成方法 には特に制限があるわけではないが、最も簡便な方法は、公知の方法によって架橋型粘着剤層を塗布し、架橋させた後、二層目の粘着剤層を塗布すれば良い。二層目の粘着剤層は未架橋型粘着剤層となるものであるが、これは、一層目の粘着剤層と同じ粘着剤であっても異なったものであっても良い。又、二層目の粘着剤層は非架橋型であっても良い。
- 公開日: 1999/05/21
- 出典: リソグラフィー用ペリクル
- 出願人: 信越化学工業株式会社
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酸素濃度が高い雰囲気下でも、不活性ガスで置換した雰囲気下と同様に高い硬化性や密着性を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた電子線による硬化皮膜の 形成方法 および硬化物の提供。
- 公開日: 2000/04/18
- 出典: 活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法および硬化物
- 出願人: 東洋インキSCホールディングス株式会社
形成方法の特徴 に関わる言及
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流体管と接続体とを接続する作業を容易に行うことができる流体管と接続体との接続構造、流体管の接続端部、同接続端部を備えた流体管及び流体管の接続端部の 形成方法 を提供する。
- 公開日: 2005/01/20
- 出典: 流体管と接続体との接続構造
- 出願人: 未来工業株式会社
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金属管の端部内周面を損傷させることなく金属管と接続体とを簡易な作業で接続することができる金属管と接続体との接続構造、金属管の接続端部、同接続端部を備えた金属管及び金属管の接続端部の 形成方法 を提供する。
- 公開日: 2004/11/04
- 出典: 金属管と接続体との接続構造
- 出願人: 未来工業株式会社
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使用するうちに塗膜の意匠が変化するため、使用者に飽きがこず、長期間にわたって使用することができる複層塗膜、その 形成方法 、このような複層塗膜の意匠の変化を正確に予測する方法、及び、このような複層塗膜の構成を決定する方法を提供する。
- 公開日: 2004/07/02
- 出典: 意匠が経年変化する複層塗膜、その形成方法、複層塗膜の構成を決定する方法、及び、塗膜の経年変化を予測する方法
- 出願人: 日本ペイントホールディングス株式会社
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流体管を接続体に接続するための接続部を管本体の端部に作用する負荷を最小限に抑えて形成することができる流体管の接続部形成具及び同流体管の接続部形成具を使用した接続部 形成方法 を提供する。
- 公開日: 2004/01/08
- 出典: 流体管の接続部形成具及び同流体管の接続部形成具を使用した接続部形成方法
- 出願人: 未来工業株式会社
形成方法の使用状況 に関わる言及
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紙、布の特性や柔軟性を失うことなく密着性及び含浸性が良く、不燃性、貯蔵安定性、耐候性、耐水性に優れた不燃性塗料、不燃性塗膜の 形成方法 及び不燃性塗膜を提供すること。
- 公開日: 2012/04/19
- 出典: 不燃性塗料、不燃性塗膜の形成方法及び不燃性塗膜
- 出願人: 大日本塗料株式会社
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低温かつ短時間で比抵抗の小さい導電性被膜を形成することができ、耐熱性の低い基材にも良好に導電性被膜を形成することができる導電性組成物および該導電性組成物を用いた導電性被膜の 形成方法 ならびに導電性被膜の提供。
- 公開日: 2009/07/16
- 出典: 導電性組成物、導電性被膜の形成方法および導電性被膜
- 出願人: 横浜ゴム株式会社
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このように、上記の吐出装置を、カラーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ 形成方法 、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、各製造方法における信頼性を向上させることができる。
- 公開日: 2003/09/24
- 出典: 吐出装置用ヘッドユニットおよびこれを備えた吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機EL装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、PDP装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ELの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
- 出願人: セイコーエプソン株式会社
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マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な微細パターンを形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の 形成方法 、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
- 公開日: 2007/11/08
- 出典: 近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法
- 出願人: キヤノン株式会社
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- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ