座標 の意味・用法を知る

前記下限感度は前記可視色空間における青色領域の 座標 に対応付けられ、前記上限感度は前記可視色空間における赤色領域の座標に対応付けられる請求項６に記載の撮像装置。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：撮像装置、データ生成装置および画像処理装置
• 出願人：株式会社ニコン

座標 対応付け手段による座標間の対応付けを説明するための図である。

• 公開日：2014/12/04
• 出典：ショベル
• 出願人：住友建機株式会社

第１範囲の 座標 を維持し、且つ第２範囲の座標を基準範囲に維持した状態で、第３範囲の座標を移動するように処理する第３処理を行う。

• 公開日：2017/08/17
• 出典：医用画像処理装置及びその作動方法並びに内視鏡システム
• 出願人：富士フイルム株式会社

制御部６０は、電位差ΔＶに基づいて定められる還元電極１２０の電位ＥＣＡと、還元電極１２０と酸素発生用電極１３０との間に流れる電流値Ｉの絶対値の対数値ｌｏｇ｜Ｉ｜との関係において、略直線関係が得られる領域（ターフェル領域）における直線を外挿した基準線からの、 座標 （ｌｏｇ｜Ｉ（実測値）｜、電位ＥＣＡ（実測値））のかい離Δが許容上限値Δｍａｘを超えないように電力制御部２０を制御する。

• 公開日：2017/03/02
• 出典：電気化学還元装置および、芳香族化合物の水素化体の製造方法
• 出願人：ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社

...ンテーションフラットと直交する方向に延びる軸をＸ軸、前記原点から前記オリエンテーションフラットの方向に延びる軸をＹ軸、前記原点を通過し前記Ｘ軸及び前記Ｙ軸と直交する軸をＺ軸とする三次元 座標 軸を設定し、前記半導体ウェハの表面形状を測定して該半導体ウェハの表面形状を前記三次元座標軸における（Ｘ，Ｙ，Ｚ）座標として記憶する第２ステップと、前記半導体ウェハに形成された傾斜面を観察又は測定し、前記傾斜面に露呈した加工ダメージが消失する位置を前記三次元座標軸における（Ｘ，Ｙ）座標として記憶する第３ステップと、前記半導体ウェハの表面形状を示す前記（Ｘ，Ｙ，Ｚ）座標と前記加工ダメージが消失する位置を示す前記（...

• 公開日：2017/02/09
• 出典：半導体ウェハの加工ダメージ評価方法
• 出願人：濱田重工株式会社

第２実施形態のタブレットで使用される 座標 データの概要を説明するための第２の概念図。

• 公開日：2016/03/07
• 出典：電子機器、セキュリティ処理方法およびプログラム
• 出願人：株式会社東芝

制御部は、 座標 取得部で取得した座標に基づき対象物ＯＢの位置を測定する処理を実行する位置測定処理部と、方向検出部で検出した測定ヘッドの方向に対応付けされたコマンドを受け付けて実行するコマンド処理部と、を備える。

• 公開日：2015/12/24
• 出典：位置計測装置及び位置計測方法
• 出願人：株式会社ミツトヨ

画像処理部１３０は、第１及び第２の画像歪を補正するために、画像データを構成する画素の 座標 値に関して座標の変換処理を実施し、第１の補正量に基づき変換する第１の変換動作と、第１変換動作により変換された座標値を第２の補正量に基づき変換する第２の変換動作とを実行する。

• 公開日：2015/11/12
• 出典：撮像装置、画像処理方法及び制御プログラム
• 出願人：オリンパス株式会社

座標 設定画面の一例を示す図である。

• 公開日：2015/08/06
• 出典：更新監視方法、更新監視プログラム及び更新監視装置
• 出願人：前田建設工業株式会社

続いて、レーザ散乱法によって、基準点Ｐからの複数の領域３のそれぞれにおける欠陥２の位置（例えば、 座標 ）を求める。

• 公開日：2015/10/05
• 出典：半導体装置の製造方法
• 出願人：株式会社東芝