干渉物 の意味・用法を知る
干渉物 とは、数値制御 やエアバッグ などの分野において活用されるキーワードであり、トヨタ自動車株式会社 や豊田合成株式会社 などが関連する技術を2,340件開発しています。
このページでは、 干渉物 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
干渉物の意味・用法
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分析物イオンと 干渉物 イオンとを区別するために高分解能質量分析器を使用することは別として、イオンストリーム中のスペクトル干渉の効果を軽減する別のやり方は、質量分析段階の上流で干渉物イオンを選択的に排除することである
- 公開日:2017/07/06
- 出典:試料中のセレンおよびケイ素の検出および定量化のためのシステムおよび方法
- 出願人:ペルキネルマーヘルスサイエンシーズ,インコーポレイテッド
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干渉物 の接近を検出して、干渉物がバックアッププレートに固着されている場合でも、干渉物がコンベアフレームに接触して損傷させないようにする。
- 公開日:2015/12/17
- 出典:検出装置、検出方法、基板搬送装置、基板処理装置
- 出願人:ヤマハ発動機株式会社
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水で満たされた開口部の 干渉物 の周りに硬化材を密実に充填することができ、硬化材の流出を阻止することのできる開口部閉塞方法、開口部閉塞構造および閉塞部材を提供する。
- 公開日:2016/01/21
- 出典:開口部閉塞方法、開口部閉塞構造および閉塞部材
- 出願人:清水建設株式会社
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第二に、外部の 干渉物 と、例えば自身の送信機といった試験用の無線デバイス内部の他の信号との間の相互変調は、受信機チャネル内に収まる相互変調積を生成し得る。
- 公開日:2015/10/15
- 出典:改良された選択性試験
- 出願人:テレフオンアクチーボラゲツトエルエムエリクソン
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物品搬送台車と 干渉物 との干渉を未然に防止できる物品搬送設備を提供する。
- 公開日:2013/11/21
- 出典:物品搬送設備
- 出願人:株式会社ダイフク
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計測対象領域に存在する 干渉物 の数量が多い場合でも、走行車と干渉物との干渉を極力回避することが可能な走行車制御システムを提供する。
- 公開日:2014/11/13
- 出典:走行車制御システム
- 出願人:株式会社ダイフク
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レイアウト条件が複雑化した場合でも、設計意図を反映した配管ルート形状を素早く作成する機能を提供することにある。 干渉物 形状記憶手段の干渉物形状がルート探索空間パラメータ記憶手段のルート探索空間に及ぼすルーティングの難易度を数値化した空間の重み情報であるスカラー場を出力するルーティング難易度算出機能と、出力されたスカラー場を用いてルート始点終点記憶手段のルートの始点から終点までのルート探索空間におけるルート形状を算出し、ルートの通過点列を出力するルート形状生成機能を有する配管又は配線支援装置。
- 公開日:2016/01/07
- 出典:配管又は配線支援装置
- 出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
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単孔用ツール14aと、複孔用ツール14bと、ツールのいずれかを孔2に対して位置決めする位置決め装置12と、各孔2の中心位置と 干渉物 4の位置とを記憶する記憶装置18とを備える。(A)各孔2の中心位置と干渉物位置を表示し、(B)指定した孔2の検査順が干渉物位置を通過する場合に、その前後を別の列として扱い、(C)検査順の各列に含まれる孔数mが、複孔用ツール14bで同時に検査する孔数kより小さい場合に、単孔用ツール14aの使用と、検査順に基づく孔2の順を決定し、(D)m≧kの場合に、複孔用ツール14bの使用と、検査順に基づくk個毎の孔2の順を決定し、かつkより少ない最後の1又は複数の孔を複孔用ツール1...
- 公開日:2013/05/13
- 出典:多点検査装置と方法
- 出願人:株式会社IHI
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緊急停止に際し、ワークや把持部が 干渉物 に対して悪影響を与えるような衝撃を与えたり、干渉物を他の物体との間に挟み込んだりすることなく、停止することができる搬送装置を提供する。
- 公開日:2013/08/19
- 出典:搬送装置
- 出願人:本田技研工業株式会社
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別の例示的な方法は、概して、装置によってデータフレームを送信するために使用される第1の送信電力の第1の指示とともに制御または管理メッセージを装置から受信することと、第1の送信電力に少なくとも部分的に基づいて、装置が支配的 干渉物 であると判断することとを含む。
- 公開日:2014/04/10
- 出典:TVホワイトスペースにおけるより良好な周波数再使用と支配的干渉物の判断とのために送信電力を管理すること
- 出願人:クゥアルコム・インコーポレイテッド
干渉物の問題点 に関わる言及
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マニプレータ・ロボット
- 用途 <FW>
- マニプレータの種類、タイプ
- 手首のタイプ
- 基台
- コラム
- 腕
- 第1の腕の動作形態
- 第2の腕の動作形態
- 関節
- 本体機構の目的<FW>
- 把持装置の全体構成
- 狭持装置単体の形態
- 指部材の動作形態
- 指部材の開閉機構
- 狭持装置の当接部
- 狭持装置の目的<FW>
- 吸着装置単体の形態
- 吸着部の構造
- 吸着装置の目的<FW>
- 把持装置交換
- 物品離脱手段
- 駆動源<FW>
- 伝動装置(狭持装置は除く)<FW>
- 制御装置の具体的構成<特徴のあるもの>
- 操縦桿
- 教示装置、操作盤
- 検出の対象<FW>
- 視覚装置、画像化装置<FW>
- センサの方式<FW>
- センサに特徴のあるもの<FW>
- センサの配置<FW>
- 教示(プログラム作成)<FW>
- 位置制御<FW>
- 速度、力、ハイブリッド制御
- その他の各種制御<FW>
- 具体的な制御方法<FW>
- 安全<FW>
- 制御目的(安全以外)(明細書明記)<FW>
- ワークの状態
- 自走/自律型のタイプ
- 自走/自律型の制御
- 自走/自律型のその他の特徴、構成<FW>
- マニュアルマニプレータの構成、目的
- マイクロマニプレータの構成、目的
- グローブボックスの構成、目的
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜