寸法補正 の意味・用法を知る

ナノインプリントモールドの製造方法は、基板の上に中間膜を介して凸状の基礎マスク部をパターン形成する基礎マスクパターン形成工程と、凸状の基礎マスク部に対して凸状の基礎マスク部の寸法を補正するための 寸法補正 用の膜部を形成する寸法補正用膜部形成工程と、を有するように構成される。

• 公開日：2014/06/19
• 出典：ナノインプリントモールドの製造方法
• 出願人：大日本印刷株式会社

寸法補正 用画像データにより表されたデータ上の寸法補正画像における、複数の目印相互間の距離に基づいて寸法補正データの１つである第１の寸法補正データを生成する第１の演算モードと、寸法補正画像データにより表わされるデータ上の寸法補正画像における各目印と用紙の縁との間の距離に基づいて寸法補正データの１つである第２の寸法補正データを生成する第２の演算モードとの双方の演算モードを有する。

• 公開日：2014/01/23
• 出典：画像形成装置および画像読取装置
• 出願人：富士ゼロックス株式会社

つまり、従来技術の 寸法補正 方法は部材若しくは部品に損傷を生ぜしめ、極端な場合には部材若しくは部品を破壊してしまうことになる。

• 登録日：2011/06/24
• 出典：プラスチックから成る殊にリング状の部材の内法寸法の補正のための方法
• 出願人：ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング

上記従来技術では、マスク製造でのスループット向上や複雑なパタンへの 寸法補正 については何ら考慮がされていない。

• 公開日：1994/06/24
• 出典：ホトマスク及び半導体装置の製造方法
• 出願人：ルネサスエレクトロニクス株式会社

嵩張らず簡易にＨ形鋼のウエーブの位置を短時間に検出することができ、切粉などの影響を受けない単一の測定子による 寸法補正 装置を得ること。

• 公開日：1994/07/26
• 出典：形鋼加工機の寸法補正装置
• 出願人：タケダ機械株式会社

本発明の課題は可変成形型電子ビーム描画装置における高分解能ビーム 寸法補正 方法を高速かつ低コストで提供し、高精度の電子ビーム露光を実現することである。

• 公開日：2006/12/14
• 出典：電子ビーム描画装置
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス

マスク上に少なくとも一対の 寸法補正 マークパターン２〜５からなる寸法補正マーク１を形成するとともに、前記寸法補正マーク１をウェハに設けたレジスト膜上に転写し、前記マスク上の一対の寸法補正マークパターン２〜５の端部の間隔Ｓm1を測定するとともに、前記レジスト膜上に転写して現像した一対の転写寸法補正マークパターン７〜１０の端部の間隔Ｓr1を測定し、前記間隔Ｓm1と間隔Ｓr1との差異によりレジストパターンにおけるピーリングの発生を検出する。

• 公開日：2003/11/21
• 出典：レジストパターンの検査方法
• 出願人：富士通株式会社

描画パターンの 寸法補正 によるパターン面積密度の変化に応じて露光量の補正を行い、露光寸法余裕度を拡大できると共に同時に近接効果補正も満足させることができ、高精度なパターン補正が可能になるマスクパターンの作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置を提供する。

• 公開日：1999/01/29
• 出典：マスクパターンの作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置
• 出願人：ソニー株式会社

上記範囲であれば、マスクの 寸法補正 がより精緻に行なわれるとともに、被転写体上に得られるパターン精度をより所望値に近づけられる。

• 公開日：2019/07/04
• 出典：パターン描画方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法
• 出願人：ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社

このため、視野内の座標と対応した 寸法補正 が必要である。

• 公開日：2019/04/25
• 出典：荷電粒子線装置
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス