寸法補正 の意味・用法を知る

ナノインプリントモールドの製造方法は、基板の上に中間膜を介して凸状の基礎マスク部をパターン形成する基礎マスクパターン形成工程と、凸状の基礎マスク部に対して凸状の基礎マスク部の寸法を補正するための 寸法補正 用の膜部を形成する寸法補正用膜部形成工程と、を有するように構成される。

• 公開日：2014/06/19
• 出典：ナノインプリントモールドの製造方法
• 出願人：大日本印刷株式会社

寸法補正 用画像データにより表されたデータ上の寸法補正画像における、複数の目印相互間の距離に基づいて寸法補正データの１つである第１の寸法補正データを生成する第１の演算モードと、寸法補正画像データにより表わされるデータ上の寸法補正画像における各目印と用紙の縁との間の距離に基づいて寸法補正データの１つである第２の寸法補正データを生成する第２の演算モードとの双方の演算モードを有する。

• 公開日：2014/01/23
• 出典：画像形成装置および画像読取装置
• 出願人：富士ゼロックス株式会社

リング状の部材（１４）内に振動発生装置（２０，３０，３２）の 寸法補正 区分（２４）を入り込ませることによって、リング状の部材の内径寸法は高い精度で経済的に規定される。

• 公開日：2009/01/08
• 出典：プラスチックから成る殊にリング状の部材の内法寸法の補正のための方法
• 出願人：ローべルトボツシユゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング

上記従来技術では、マスク製造でのスループット向上や複雑なパタンへの 寸法補正 については何ら考慮がされていない。

• 公開日：1994/06/24
• 出典：ホトマスク及び半導体装置の製造方法
• 出願人：株式会社日立製作所

嵩張らず簡易にＨ形鋼のウエーブの位置を短時間に検出することができ、切粉などの影響を受けない単一の測定子による 寸法補正 装置を得ること。

• 公開日：1994/07/26
• 出典：形鋼加工機の寸法補正装置
• 出願人：タケダ機械株式会社

本発明の課題は可変成形型電子ビーム描画装置における高分解能ビーム 寸法補正 方法を高速かつ低コストで提供し、高精度の電子ビーム露光を実現することである。

• 公開日：2006/12/14
• 出典：電子ビーム描画装置
• 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

マスク上に少なくとも一対の 寸法補正 マークパターン２〜５からなる寸法補正マーク１を形成するとともに、前記寸法補正マーク１をウェハに設けたレジスト膜上に転写し、前記マスク上の一対の寸法補正マークパターン２〜５の端部の間隔Ｓm1を測定するとともに、前記レジスト膜上に転写して現像した一対の転写寸法補正マークパターン７〜１０の端部の間隔Ｓr1を測定し、前記間隔Ｓm1と間隔Ｓr1との差異によりレジストパターンにおけるピーリングの発生を検出する。

• 公開日：2003/11/21
• 出典：レジストパターンの検査方法
• 出願人：富士通株式会社

代表的シールはピストンリングであるが、円形シリンダとピストン間の隙間補正を、ピストンリングの自動的な 寸法補正 で行っている。

• 公開日：2018/04/26
• 出典：揺動回転型ベーンアクチュエータ
• 出願人：渡部富治

このようなレプリカモールドの製造において、ドライエッチングで形成した凹凸構造にＡＬＤ法（原子層堆積法）により薄膜を形成して 寸法補正 を行うことにより、同一のマスターモールドから複数種のレプリカモールドを製造する方法が提案されている（特許文献１等）。

• 公開日：2018/03/01
• 出典：インプリント用のモールド
• 出願人：大日本印刷株式会社

半透過膜の 寸法補正 量の透過率およびＮＡ依存性。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスクブランクス
• 出願人：株式会社エスケーエレクトロニクス