寸法補正 の意味・用法を知る
寸法補正 とは、ホトレジスト感材への露光・位置合せ や電子ビーム露光 などの分野において活用されるキーワードであり、ルネサスエレクトロニクス株式会社 やソニー株式会社 などが関連する技術を579件開発しています。
このページでは、 寸法補正 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
寸法補正の意味・用法
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ナノインプリントモールドの製造方法は、基板の上に中間膜を介して凸状の基礎マスク部をパターン形成する基礎マスクパターン形成工程と、凸状の基礎マスク部に対して凸状の基礎マスク部の寸法を補正するための 寸法補正 用の膜部を形成する寸法補正用膜部形成工程と、を有するように構成される。
- 公開日:2014/06/19
- 出典:ナノインプリントモールドの製造方法
- 出願人:大日本印刷株式会社
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寸法補正 用画像データにより表されたデータ上の寸法補正画像における、複数の目印相互間の距離に基づいて寸法補正データの1つである第1の寸法補正データを生成する第1の演算モードと、寸法補正画像データにより表わされるデータ上の寸法補正画像における各目印と用紙の縁との間の距離に基づいて寸法補正データの1つである第2の寸法補正データを生成する第2の演算モードとの双方の演算モードを有する。
- 公開日:2014/01/23
- 出典:画像形成装置および画像読取装置
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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つまり、従来技術の 寸法補正 方法は部材若しくは部品に損傷を生ぜしめ、極端な場合には部材若しくは部品を破壊してしまうことになる。
- 登録日:2011/06/24
- 出典:プラスチックから成る殊にリング状の部材の内法寸法の補正のための方法
- 出願人:ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
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上記従来技術では、マスク製造でのスループット向上や複雑なパタンへの 寸法補正 については何ら考慮がされていない。
- 公開日:1994/06/24
- 出典:ホトマスク及び半導体装置の製造方法
- 出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社
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嵩張らず簡易にH形鋼のウエーブの位置を短時間に検出することができ、切粉などの影響を受けない単一の測定子による 寸法補正 装置を得ること。
- 公開日:1994/07/26
- 出典:形鋼加工機の寸法補正装置
- 出願人:タケダ機械株式会社
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本発明の課題は可変成形型電子ビーム描画装置における高分解能ビーム 寸法補正 方法を高速かつ低コストで提供し、高精度の電子ビーム露光を実現することである。
- 公開日:2006/12/14
- 出典:電子ビーム描画装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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マスク上に少なくとも一対の 寸法補正 マークパターン2〜5からなる寸法補正マーク1を形成するとともに、前記寸法補正マーク1をウェハに設けたレジスト膜上に転写し、前記マスク上の一対の寸法補正マークパターン2〜5の端部の間隔Sm1を測定するとともに、前記レジスト膜上に転写して現像した一対の転写寸法補正マークパターン7〜10の端部の間隔Sr1を測定し、前記間隔Sm1と間隔Sr1との差異によりレジストパターンにおけるピーリングの発生を検出する。
- 公開日:2003/11/21
- 出典:レジストパターンの検査方法
- 出願人:富士通株式会社
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描画パターンの 寸法補正 によるパターン面積密度の変化に応じて露光量の補正を行い、露光寸法余裕度を拡大できると共に同時に近接効果補正も満足させることができ、高精度なパターン補正が可能になるマスクパターンの作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置を提供する。
- 公開日:1999/01/29
- 出典:マスクパターンの作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置
- 出願人:ソニー株式会社
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そのときBMIによる 寸法補正 と、体重/質量比較を決定するアルゴリズムを用いることにより、傾斜覆いされる目的部の全長に沿って傾斜圧縮を引き起こす寸法が決定される。
- 公開日:2021/01/07
- 出典:圧縮衣料及び製造方法
- 出願人:スキンズ・インターナショナル・トレーディング・アー・ゲー
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具体的な方法としては、フィルム基板同士を位置合わせすると共に、フィルム基板の寸法差を計測する工程と、計測されたフィルム基板の寸法差に応じて、フィルム基板の少なくとも一方の温度を、本圧着時の温度による膨張、収縮を鑑みて調整して、 寸法補正 し接続する工程を備えるものである。
- 公開日:2020/02/27
- 出典:フレキシブル基板の実装方法及び実装装置
- 出願人:凸版印刷株式会社
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜
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プラスチック等の成形材料の処理、取扱一般
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤・配合剤
- 材料の状態・形態
- 挿入物等(挿入物,補強材,芯材,表面材,ライニング対象部材,接合の対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状・構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 成形材料の処理、取扱一般の区分
- 一般事項
- 適用成形技術
- 混合、混練
- 造粒
- 予備成形品の製造
- コンディショニング
- プラスチック廃棄物からの回収
- 貯蔵、供給、搬送
- 成形品の後処理、後加工
- バリ取
- その他の処理、取扱
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プラスチック等の成形用の型
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤・配合剤
- 材料の状態・形態
- 挿入物等(挿入物,補強材,芯材,表面材,ライニング対象部材,接合の対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状,外観に特徴ある成形品
- 一般形状・構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
- ホッパー
- 成形装置、成形操作のその他の特徴
- 検出量又は監視量
- 検出手段の特徴
- 調整制御量(制御の対象)
- 型全般の区分(1)
- 型全般の区分(2)
- 型の全体的装置構成
- 型の製造
- 型の構成
- 型締め、型開閉
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- ベント、空気抜き
- インサート物、表面材の位置決め、保持
- 型の取付け、交換
- 補助操作
- タイヤ加硫プレス
- タイヤ用型、コア
- タイヤ成形用中心機構
- 型の開閉、型締め
- タイヤの加硫、冷却
- タイヤの搬出入
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曲げ・直線化成形、管端部の成形、表面成形
- 樹脂材料等(主成形材料)
- 添加剤、配合剤
- 材料の状態、形態
- 挿入物等(補強材、芯材、表面材、ライニング対象部材、接合対象物)
- 機能物品(光学特性→用途物品)
- 表面の性状、外観に特徴ある成形品
- 一般形状、構造物品(用途物品優先)
- 用途物品
- 装置又は装置部材の材料の特徴
- 加熱冷却手段の具体的な特徴
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- 成形装置、成形操作のその他の特徴
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- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(1)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形の区分(2)
- 曲げ、直線化成形、管端部の成形システム
- 予備成形品及びその製造
- 予備成形品の前処理・コンディショニング
- 予備成形品等の供給
- 曲げ、直線化成形操作およびそのための装置
- 曲げ、直線化成形の付属操作および付属装置
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- 管端部の成形操作
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- 付属装置
- 成形品の後処理、後加工