塩素 の意味・用法を知る

］を得て、次に、段階（ｉｉｉ）で、ハロゲン化剤の存在下に溶媒中、式（Ｉｂ）のハロケトン：［式中、Ｒ２およびＲ３は上記で定義の通りであり、Ｘは 塩素 または臭素である。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：置換されたフェニルイソオキサゾリン誘導体の製造方法
• 出願人：バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト

簡便に使用・製造できる 塩素 中和剤、それを用いた投入型塩素中和剤、塩素中和装置及び塩素中和方法を提供する。

• 公開日：2018/03/29
• 出典：塩素中和剤、それを用いた投入型塩素中和剤、塩素中和装置及び塩素中和方法
• 出願人：国立大学法人三重大学

被処理物に 塩素 系助剤を添加する塩素系助剤添加工程をさらに含む請求項１または２記載の放射性セシウム分離濃縮方法。

• 公開日：2017/11/16
• 出典：放射性セシウム分離濃縮方法及び放射性セシウム分離濃縮装置
• 出願人：株式会社クボタ

図８（ａ）は、図７（ａ）の 塩素 アパタイトチューブ断面のＡ点を含む直線に沿ってＥＤＸ測定を行った結果を示す図である。

• 公開日：2017/12/21
• 出典：アパタイト結晶の製造方法
• 出願人：株式会社小糸製作所

反応空間内に配置されている活性炭系触媒上でガス相中の一酸化炭素と 塩素 とを反応させてホスゲンを調製するためのホスゲン発生器の運転方法であって、規定可能な運転期間の後、前記ホスゲン発生器を停止時間をかけて停止させることによって、少なくとも一時的に前記ホスゲンの調製を中断し、規定可能な停止時間の後、前記ホスゲン発生器を始動時間をかけて始動させることによって前記ホスゲンの調製を再開する前記運転方法において、前記ホスゲン発生器の始動の開始は、塩素の導入の開始により規定され、前記停止時間内において、ホスゲン発生器を始動させる前では、一酸化炭素の導入によって前記活性炭系触媒は塩素を含まず、前記活性炭系触媒が...

• 登録日：2020/05/15
• 出典：ホスゲン発生器の始動および停止方法
• 出願人：バイエルマテリアルサイエンスアクチェンゲゼルシャフト

簡便な構造で 塩素 系殺滅剤の添加量を最適に決定してバラスト水を制御するための装置を提供する。

• 公開日：2017/06/29
• 出典：バラスト水の制御装置及びバラスト水処理システムの制御方法
• 出願人：栗田工業株式会社

従来の入浴剤等の錠剤に比べて水道水に含まれている 塩素 を極めて有効に除去することができる、シャワー用炭酸ガス入浴剤として適切な錠剤及びその製造方法を提供する。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：錠剤の製造方法及び錠剤
• 出願人：株式会社ホットアルバム炭酸泉タブレット

...置のプラズマ発生部の一例の平面図である。 成膜装置のプラズマ発生部に設けられるファラデーシールドの一部を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係るシリコン窒化膜の成膜方法の一例を示した図である。図９（ａ）は、窒化工程の一例を示した図である。図９（ｂ）は、非吸着サイト形成工程の一例を示した図である。 塩素 と水素の電気陰性度の差を説明するための図である。図１０（ａ）は、代表的な元素の電気陰性度を示した図である。図１０（ｂ）は、塩素及び水素の電気陰性度を含む所定の元素の電気陰性度を示した一覧表である。図１０（ｃ）は、所定の原子間の結合エネルギーと電気陰性度の差を示した一覧表である。 本発明の実施形態...

• 公開日：2018/01/18
• 出典：シリコン窒化膜の成膜方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

塩素 およびダイオキシン類を含む焼却灰を、大気雰囲気下において従来よりも低い温度で容易に無害処理してセメント原料等として再利用することが可能になる塩素含有焼却灰の処理方法を提供する。

• 公開日：2017/08/31
• 出典：塩素含有焼却灰の処理方法
• 出願人：三菱マテリアル株式会社

シリカと１．５重量％を超える 塩素 と０．５重量％未満のＦとを含むコアを有する光ファイバーであって、当該コアが、屈折率Δ１ＭＡＸを有し、当該コアを囲む内側クラッド領域が屈折率Δ２ＭＩＮを有し、この場合、Δ１ＭＡＸ＞Δ２ＭＩＮである、光ファイバー。

• 公開日：2017/09/14
• 出典：高塩素含有量の低減衰光ファイバー
• 出願人：コーニングインコーポレイティッド