塩素 の意味・用法を知る

反応空間内に配置されている活性炭系触媒上でガス相中の一酸化炭素と 塩素 とを反応させてホスゲンを調製するためのホスゲン発生器の運転方法であって、規定可能な運転期間の後、前記ホスゲン発生器を停止時間をかけて停止させることによって、少なくとも一時的に前記ホスゲンの調製を中断し、規定可能な停止時間の後、前記ホスゲン発生器を始動時間をかけて始動させることによって前記ホスゲンの調製を再開する前記運転方法において、前記ホスゲン発生器の始動の開始は、塩素の導入の開始により規定され、前記停止時間内において、ホスゲン発生器を始動させる前では、一酸化炭素の導入によって前記活性炭系触媒は塩素を含まず、前記活性炭系触媒が...

• 登録日：2020/05/15
• 出典：ホスゲン発生器の始動および停止方法
• 出願人：コヴェストロ・ドイチュラント・アクチエンゲゼルシャフト

簡便な構造で 塩素 系殺滅剤の添加量を最適に決定してバラスト水を制御するための装置を提供する。

• 公開日：2017/06/29
• 出典：バラスト水の制御装置及びバラスト水処理システムの制御方法
• 出願人：栗田工業株式会社

従来の入浴剤等の錠剤に比べて水道水に含まれている 塩素 を極めて有効に除去することができる、シャワー用炭酸ガス入浴剤として適切な錠剤及びその製造方法を提供する。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：錠剤の製造方法及び錠剤
• 出願人：株式会社ホットアルバム炭酸泉タブレット

...置のプラズマ発生部の一例の平面図である。 成膜装置のプラズマ発生部に設けられるファラデーシールドの一部を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係るシリコン窒化膜の成膜方法の一例を示した図である。図９（ａ）は、窒化工程の一例を示した図である。図９（ｂ）は、非吸着サイト形成工程の一例を示した図である。 塩素 と水素の電気陰性度の差を説明するための図である。図１０（ａ）は、代表的な元素の電気陰性度を示した図である。図１０（ｂ）は、塩素及び水素の電気陰性度を含む所定の元素の電気陰性度を示した一覧表である。図１０（ｃ）は、所定の原子間の結合エネルギーと電気陰性度の差を示した一覧表である。 本発明の実施形態...

• 公開日：2018/01/18
• 出典：シリコン窒化膜の成膜方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

塩素 およびダイオキシン類を含む焼却灰を、大気雰囲気下において従来よりも低い温度で容易に無害処理してセメント原料等として再利用することが可能になる塩素含有焼却灰の処理方法を提供する。

• 公開日：2017/08/31
• 出典：塩素含有焼却灰の処理方法
• 出願人：三菱マテリアル株式会社

単一モード光ファイバーであって、シリカと１．５重量％以上の 塩素 と０．６重量％未満のフッ素とを含む、屈折率Δ１ＭＡＸを有するコアと、前記コアを囲む、屈折率Δ２ＭＩＮを有するクラッド領域とを含み、Δ１ＭＡＸ＞Δ２ＭＩＮであり、前記コアが約０．１５％以上かつ約０．５％以下の最大相対屈折率Δ１ＭＡＸを有し、１５５０ｎｍにおいて単一モードである、単一モード光ファイバー。

• 登録日：2019/12/20
• 出典：高塩素含有量の低減衰光ファイバー
• 出願人：コーニングインコーポレイティッド

以下の反応式に従う一酸化炭素及び 塩素 からの、１時間当たり１０トン未満のホスゲン（ＣＯＣｌ２）の製造方法であって、ＣＯ（ｇ）＋Ｃｌ２（ｇ）−＞ＣＯＣｌ２（ｇ）（１）活性炭触媒の存在下に、５０〜１５０℃の温度で、大気圧下または過圧下に、ＣＯ及びＣｌ２の反応によってホスゲンを製造し、ＣＯが、固体酸化物電解セル（ＳＯＥＣ）スタックシステム中で６５０〜８５０℃の運転温度でＣＯ２から電気分解によりその場で製造され、ホスゲン製造のためのＣＯ２供給原材はメタンを含まず、そのＣＯ２供給原材は０．５％未満のＨ２及び０．５％未満のＨ２Ｏを含有する、前記方法。

• 登録日：2019/11/22
• 出典：ホスゲンの安全な製造のための方法
• 出願人：ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット

塩化水素の酸素による触媒気相酸化によって 塩素 を製造するための、化学的安定性の高い触媒組成物の提供。

• 公開日：2016/09/15
• 出典：気相酸化による塩素製造のための触媒および方法
• 出願人：バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

現在入手可能な濾過媒体よりも安価で、より効率的で、及び／又はより高処理容量の、クロラミン及び／又は 塩素 を除去する濾過媒体を提供する

• 登録日：2019/11/08
• 出典：水溶液からの塩素及び／又はクロラミンの除去
• 出願人：スリーエムイノヴェイティヴプロパティーズカンパニー

）で表される含 塩素 アルケンからなる群から選択される少なくとも一種の含塩素原料化合物とフッ素化剤との反応工程を含み、反応器出口成分の2-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペン（HCFO-1233xf）に対して、反応器入り口に新たに供給する前記一般式（１）又は（２）で表される含塩素原料化合物のモル比が1.2未満である、製造方法。

• 公開日：2017/10/19
• 出典：２，３，３，３－テトラフルオロプロペンの製造方法
• 出願人：ダイキン工業株式会社