塩基性水溶液 と関連性が強い法人一覧

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住友化学株式会社 珪酸塩及びセ゛オライト、モレキュラーシーブ触媒1,3-ジアゾール系化合物 光学フィルム製造用ロール金型の洗浄方法 技術一覧を見る
株式会社トクヤマ ナノ構造物マイクロマシン濾過材 オイルミスト除去フィルター 技術一覧を見る
富士ゼロックス株式会社 燃料電池(本体)混成電池 電力変換用マイクロ流体素子 技術一覧を見る
三菱瓦斯化学株式会社 食品の保存(凍結・冷却・乾燥を除く)吸収による気体分離固体収着剤及びろ過助剤 酸素吸収剤の保存方法 技術一覧を見る
大阪瓦斯株式会社 空気の供給瞬間湯沸器・持ち運び用給湯器とその制御流体加熱器の細部 一酸化炭素転化触媒の製造方法 技術一覧を見る
三井化学株式会社 廃ガス処理吸収による気体分離有機低分子化合物及びその製造 2,5-ジアミノ-1-アルキルまたはアルコキシベンゼン類の製造方法 技術一覧を見る
シャープ株式会社 研削機械のドレッシング及び付属装置水、廃水又は下水の加熱処理重金属無機化合物(I) シリコン含有廃液処理方法 技術一覧を見る
セントラル硝子株式会社 有機低分子化合物及びその製造 フルオロメチル-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの精製方法 技術一覧を見る
富士通株式会社 ホトレジストの材料ホトレジスト感材への露光・位置合せ半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) ネガ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 技術一覧を見る
住友ゴム工業株式会社 高分子組成物付加系(共)重合体、後処理、化学変成後処理による化学的変性 変性ジエン系ゴム組成物 技術一覧を見る
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 ホトレジストの材料感光性樹脂・フォトレジストの処理フォトリソグラフィー用材料 ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 技術一覧を見る
シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー 有機低分子化合物及びその製造エポキシ系化合物触媒を使用する低分子有機合成反応 汚染物質の含有量を低減させた有機ヒドロペルオキシドの調製方法 技術一覧を見る
三登化学工業株式会社 繊維製品の化学的、物理的処理複合繊維生理用ナプキン 超極細繊維体の製造方法 技術一覧を見る
岡畑産業株式会社 繊維製品の化学的、物理的処理複合繊維生理用ナプキン 超極細繊維体の製造方法 技術一覧を見る
味の素株式会社 プリン,テリジン系化合物複数複素環系化合物有機低分子化合物及びその製造 ヌクレオシド誘導体の精製法 技術一覧を見る
花王株式会社 高分子物質の処理方法電子写真における現像剤 樹脂粒子分散液の製造方法及び静電荷像現像用トナーの製造方法 技術一覧を見る
新日鐵住金株式会社 炭化水素油の製造、分解及び精製石油精製,液体炭化水素混合物の製造 燃料油の中和方法 技術一覧を見る
三菱マテリアル電子化成株式会社 重金属無機化合物(I) 酸化ゲルマニウムの製造方法 技術一覧を見る
星光PMC株式会社 紙(4) 製紙用樹脂組成物、サイズ助剤、製紙方法及び紙 技術一覧を見る
DIC株式会社 紙(4) 製紙用樹脂組成物、サイズ助剤、製紙方法及び紙 技術一覧を見る
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