基板面内 の意味・用法を知る

これら熱可塑性樹脂層及び中間層除去工程において、感光性樹脂組成物層を現像することなく処理を行うことができ、感光性樹脂組成物層の現像においても、 基板面内 均一にむらのない現像上がりの画素パターンが得られた。

• 公開日： 1997/11/11
• 出典： 処理液組成物およびそれを用いた着色画像の製造方法
• 出願人： 富士フイルムホールディングス株式会社

このように液晶表示素子を形成することにより、 基板面内 の表示ムラもなく、また、ロット間の表示ムラも無くなり、品質の安定した表示が良好な液晶表示素子を得ることができた。

• 公開日： 1997/05/06
• 出典： カラーフィルタ基板及びそれを用いた液晶表示素子
• 出願人： 東芝電子エンジニアリング株式会社

一般にＣＭＰ工程では、被研磨膜が形成された基板を研磨パッドに押し当てて加圧し、被研磨膜と研磨パッドとの間に研磨剤を供給しながら、基板と研磨パッドとを相対的に動かすことで研磨を進行させる。ここで研磨剤や研磨パッドは、被研磨膜の研磨速度、平坦性、研磨選択性、研磨傷数、 基板面内 の均一性等の研磨特性を決定する重要な因子である。特に、研磨剤に含まれる砥粒の種類や濃度、研磨パッドの材質や硬度等を変更することで、これらの研磨特性は、大きく変化する。

• 公開日： 2010/07/08
• 出典： 基板の研磨方法
• 出願人： 日立化成株式会社

一般にＣＭＰ工程では、被研磨膜が形成された基板を研磨パッドに押し当てて加圧し、被研磨膜と研磨パッドとの間に研磨剤を供給しながら、基板と研磨パッドとを相対的に動かすことで研磨を進行させる。ここで研磨剤や研磨パッドは、被研磨膜の研磨速度、平坦性、研磨選択性、研磨傷数、 基板面内 の均一性等の研磨特性を決定する重要な因子である。特に、研磨剤に含まれる砥粒の種類や濃度、研磨パッドの材質や硬度等を変更することで、これらの研磨特性は大きく変化する。

• 公開日： 2010/07/08
• 出典： 基板の研磨方法
• 出願人： 日立化成株式会社

塗布液をスピン塗布法により塗布して膜を形成する際に、 基板面内 の任意の位置の膜厚を制御できるとともに、基板面内の膜厚ばらつきを低減することができる塗布処理装置を提供する。

• 公開日： 2012/12/06
• 出典： 塗布処理装置、塗布現像処理システム、並びに塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

主記録層の 基板面内 方向の交換結合を低減することで、良好な熱安定性と記録再生特性をともに有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。

• 公開日： 2009/04/23
• 出典： 垂直磁気記録媒体および磁気記録再生装置
• 出願人： 昭和電工株式会社

上記態様の発光素子において、発光層からの発光の偏光の光学利得が、 基板面内 でｃ軸に垂直な方向より、ｃ軸を基板面に投影した方向の方が強く、発光層からの発光が出射される発光端面がｃ軸を基板面に投影した方向と平行であってもよい。

• 公開日： 2010/03/11
• 出典： 発光素子用基板および発光素子
• 出願人： 学校法人金沢工業大学