基板保持 の意味・用法を知る
基板保持 とは、ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 やウエハ等の容器,移送,固着,位置決め等 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社SCREENホールディングス やパナソニック株式会社 などが関連する技術を15,067件開発しています。
このページでは、 基板保持 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
基板保持の意味・用法
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ロードポートの開口部の搬送室側に基板搬送ハンドの先端部から基端部までの長さの空間が確保できない場合であっても、ロードポートの開口部へ 基板保持 部を挿入することの可能な基板搬送ハンドを提案する。
- 公開日:2018/03/22
- 出典:基板移載装置
- 出願人:川崎重工業株式会社
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型及び基板の変形による破損や基板の 基板保持 部からの脱落の防止と、パターンの歪みや欠陥の抑制との両立に有利な技術を提供する。
- 公開日:2017/05/25
- 出典:基板を処理する装置、及び物品の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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基板3上のインプリント領域に供給されたインプリント材を型で成形してインプリント領域上にパターンを形成するステーション(インプリント装置6)を複数有するインプリントクラスター装置10は、複数のステーションそれぞれに設けられた、基板3の保持および温度調整を行う 基板保持 部4と、インプリント領域のサイズと基板3の温度とに基づいて、複数のステーションのうち当該基板3にパターンを形成するステーションの基板保持部4に温度調整の目標値を出力する制御部11と、を有する。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:インプリント装置、及び物品製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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正確且つ具体的に 基板保持 部のコンディションを知ることができる、基板搬送ハンドの診断システムを提供する。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:基板搬送ハンドの診断システム
- 出願人:川崎重工業株式会社
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また、対向部材側壁部512の外周面と第2カップ庇部422の内周縁との間の径方向の距離である第2カップギャップ距離D2は、対向部材側壁部512の内周面と 基板保持 部31の外周面との間の径方向の距離である保持ギャップ距離D0よりも大きい。
- 公開日:2017/09/21
- 出典:基板処理装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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基板保持 部により保持される複数の基板のハンドリングを容易とすることができる。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:基板整列装置、基板処理装置、基板配列装置、基板整列方法、基板処理方法および基板配列方法
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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前記制御部は、前記搬送部に前記処理対象基板を前記第2処理部に搬送させる場合に、前記処理対象基板が前記第2処理部における前記目標位置に配置されるように、前記搬送部が前記処理対象基板を前記第2処理部の 基板保持 部に渡す際の前記処理対象基板の位置を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 公開日:2017/01/26
- 出典:基板処理装置、および、物品製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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基板保持 部の回転開始前後の画像における濃度変動を検知することにより、基板の保持状態の異常を検査する場合において、画像において特に着目する検査領域を自動で決定することで、作業負担の軽減を可能とする。
- 公開日:2017/08/24
- 出典:基板保持状態の異常検査の検査領域の自動決定方法および基板処理装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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フレームに固定されたテープに貼り付けられた基板を、前記テープを介して保持する 基板保持 部と、前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、前記基板保持部と共に回転する前記基板に向けて洗浄液を供給する液供給部と、前記洗浄液から前記フレームを保護するフレームカバーと、前記フレームカバーを前記フレームと共に前記基板保持部に対し固定するフレームカバー固定部とを備え、前記フレームカバーは、前記基板よりも外側かつ前記フレームよりも内側において前記テープに接触することで、前記テープにおける前記洗浄液の濡れ広がりを規制する環状のリップ部を1つ以上有し、最も内側の前記リップ部は、前記テープを介して前記基板保持部に押し付...
- 公開日:2017/05/25
- 出典:洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、剥離方法、プログラム、および情報記憶媒体
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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搬送方向に延び、基板浮上面上に基板を浮上させる浮上ステージ部と、基板浮上面上に浮上した基板を保持する 基板保持 部と、を備え、基板浮上面上に浮上した状態の基板を保持した状態で基板保持部が搬送方向に沿って移動することにより、基板が基板浮上面上に浮上した状態で搬送される基板浮上搬送装置において、浮上ステージ部と基板保持部との間には、基準サイズの基板よりも搬送方向と直交する川幅方向寸法が大きい幅広基板を搬送する場合に、基板浮上面から川幅方向にはみ出す幅広基板のはみ出し領域を浮上させる補助浮上支持部を備える構成とする。
- 公開日:2017/02/09
- 出典:基板浮上搬送装置
- 出願人:東レエンジニアリング株式会社
基板保持の原理 に関わる言及
基板保持の問題点 に関わる言及
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ところが、上記従来の基板液処理装置では、高温の処理液で液処理した直後に処理液よりも低温のリンス液でリンス処理しているために、液処理時とリンス処理時で基板の温度差が大きく、基板が熱変形してしまい基板が歪み、それにより、 基板保持 手段で基板を良好に保持できなくなるとともに、基板の表面から処理液が周囲に飛散して基板処理室の内部を汚損してしまうおそれがあった。
- 公開日: 2012/01/05
- 出典: 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録した記録媒体
- 出願人: 東京エレクトロン株式会社
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基板を保持する 基板保持 手段及び基板を洗浄する洗浄手段は、一定期間使用すると、基板に付着していた汚染物により汚染される。このため、基板洗浄装置は、基板保持手段等を洗浄する必要がある。
- 公開日: 2013/06/10
- 出典: 基板洗浄装置及び基板洗浄方法
- 出願人: 東京エレクトロン株式会社
基板保持の特徴 に関わる言及
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
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- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ