回収 の意味・用法を知る
回収 とは、金属の製造または精製 や固体廃棄物の処理 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社リコー や株式会社東芝 などが関連する技術を365,218件開発しています。
このページでは、 回収 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
回収の意味・用法
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廃棄物廃棄者が望む時間に再生資源の素としてリサイクル可能な一般廃棄物を分別して効率よく 回収 可能とする資源回収システムを提供する。
- 公開日：2017/02/02
- 出典：資源回収システム
- 出願人：有限会社佐賀資源開発
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各種排水に含まれる無機イオンを有効利用し、特に、硫酸イオンが含まれる排水及びカルシウムイオンが含まれる排水を利用して、石膏を効率よく調製して 回収 することができる、排水からの石膏回収方法を提供する。
- 公開日：2016/11/10
- 出典：排水からの石膏回収方法
- 出願人：住友大阪セメント株式会社
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第三タンク６６に 回収 したインクは、第一タンク５０に戻され、再度利用される。
- 公開日：2016/05/30
- 出典：インクジェット記録装置
- 出願人：セーレン株式会社
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無圧の蒸気を利用して被処理物を加熱する加熱システムにおいて、加熱室から排出される排蒸気を 回収 し、加熱室に再び供給することができる再供給型加熱システムを提供する。
- 公開日：2016/03/22
- 出典：無圧排蒸気再供給型加熱システム
- 出願人：スパイラックスサーコリミテッド
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降雨センサ１１６と、雨水 回収 装置１１１と、回収した雨水を養液供給装置の原水タンク４４へ供給する雨水供給経路１１４を設け、回収された雨水を養液供給装置の原水タンク４４へ供給する制御を行う制御装置を設け、降雨センサ１１６の検知に係わらず回収した雨水を原水タンク４４へ供給せず、水位の所定以下の低下に伴って別の水源から原水タンク４４へ水を供給する雨水不使用形態と、降雨センサ１１６の検知に係わらず回収した雨水を原水タンク４４へ供給し、水位が所定以下に低下したときには別の水源から原水タンク４４へ水を供給する雨水優先形態と、水位が所定以下に低下したときに雨水回収装置１１１で回収した雨水と別の水源からの水を共...
- 公開日：2017/06/01
- 出典：栽培施設
- 出願人：井関農機株式会社
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投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に 回収 でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。
- 公開日：2017/04/06
- 出典：露光装置及びデバイス製造方法
- 出願人：株式会社ニコン
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本発明によれば、次の各工程：水不溶性高分子化合物に固体酸触媒を接触させて加熱処理を行った後、上澄み液を 回収 する工程、上澄み液回収後の固体酸触媒に水性媒体を加えて攪拌し、加熱処理した後、さらに上澄み液を回収する工程、該固体酸触媒を水性媒体にて洗浄し、洗浄液を回収する工程、回収した上澄み液と洗浄液を合わせて固体酸触媒に非吸着の画分を得る工程、該固体酸触媒から吸着した成分を溶出し、溶出液を回収して固体酸触媒に吸着した画分を得る工程を含む、水不溶性高分子化合物の分解物の製造方法が提供される。
- 公開日：2017/03/23
- 出典：水不溶性高分子化合物の分解物の連続的製造方法
- 出願人：株式会社海月研究所
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溶媒の 回収 に要する消費エネルギーを低減することができる溶媒回収方法および装置を提供する。
- 公開日：2016/10/20
- 出典：溶媒回収方法および装置
- 出願人：株式会社クボタ
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シート状部材を支持するステージと、拭き取り手段と、前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、溶剤を供給する溶剤供給手段と、拭き取り後の残留物を 回収 する回収手段と、を有し、前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収する拭き取り装置、またはそのような拭き取り装置を備えた積層体の作製装置を特徴とする。
- 公開日：2015/11/24
- 出典：拭き取り装置および積層体の作製装置
- 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
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...転可能に支持されるカッタヘッド１２と、カッタヘッド１２の中心部に嵌入されるカッタ回転軸１３と、カッタ回転軸１３の後端に設けられ、掘削機本体１１とカッタヘッド１２との間において、油圧の給排を可能とするロータリジョイント２５と、ロータリジョイント２５の軸受２５ａ内に供給されて使用済みとなったグリスＧを、 回収 して貯溜するタンク４３と、タンク内４３に回収されたグリスＧの重量を計測する重量計４４と、重量計４４によって計測されたグリスＧの重量が所定重量以上になったときに、ポンプを作動させることにより、タンク４３内に回収されたグリスＧを、タンク４３内から排出させる制御部とを備える。
- 公開日：2017/02/09
- 出典：トンネル掘削機
- 出願人：ＪＩＭテクノロジー株式会社
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製；分離；安定化；その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制（反応工学的手法によるもの→ＢＤ）
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤（触媒として明らかなもの→ＢＡ０１〜８５）
- 炭素環構造
- ハロゲン
- ＯＨ，ＯＭ
- エ−テル，アセタ−ル，ケタ−ル，オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン，キノン
- カルボン酸，その塩，ハライド，無水物
- エステル（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトロ、ニトロソ、アミン（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に付与している）
- カルボン酸アミド（Ｃ０７Ｃ２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- オキシム
- 同位元素の種類（Ｃ０７Ｂ５９／００が付与されている場合に、付与している）
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト；イオン交換樹脂（Ｃ０７１／〜１５，２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ハロゲン化炭化水素（Ｃ０７Ｃ１９／〜２５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 安定化剤（混合物は各成分にタ−ム付与）（Ｃ０７Ｃ１７／〜２５／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 炭素骨格（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 官能基（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アルコ−ル（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 製法（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 目的化合物（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- エステルの製法（Ｃ０７Ｃ６７／〜６９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの（Ｃ０７Ｃ６９／０２５ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル（Ｃ０７Ｃ６９／６６〜６９／７３８ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アミノカルボン酸（Ｃ０７Ｃ２２７／２２９のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトリルの製法（Ｃ０７Ｃ２５３／〜２５５／、２６１／０２ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−含有特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−不含特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- チオ誘導体のもつ官能基（Ｃ０７Ｃ３２５／〜３８１／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ビタミンＤ系化合物（Ｃ０７Ｃ４０１／ のいずれかが付与されている場合は、付与している）
- Ｃ≧４不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物（Ｃ０７Ｃ４０５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
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電子写真におけるクリーニング・その他
- クリーニングの対象（場所）
- クリーニングの対象（除去されるもの）
- ローラによるもの（ブラシローラを除く）
- ブラシによるもの
- 磁気ブラシによるもの
- ブレードによるもの
- ウェブによるもの
- その他の手段によるもの
- 除去後の乾式現像剤の搬送
- 除去後の乾式現像剤の回収
- 除去後の湿式現像剤の搬送・回収
- クリーニング・搬送・回収制御の検知対象
- クリーニング・搬送・回収制御の制御対象
- クリーニング・搬送・回収制御の時期
- クリーニング部材の材料
- クリーニング部材・装置の製造・組立
- クリーニング装置の筐体・配置
- 特に関係する他のプロセス・要素
- 課題・目的・効果
- その他
- 感光体への潤滑剤の塗布
- メモリ除去部材・散乱部材
- 電子写真複写装置による偽造防止
- 記録された画像の消去・除去方法
- 記録された画像の消去・除去装置
- 消去・除去装置の制御の検知対象
- 消去・除去装置の制御対象
- 記録された画像の消去・除去における目的
- その他の装置・方法
