含窒素化合物 の意味・用法を知る

コハク酸及び／又はその誘導体（以下両者をまとめて「コハク酸類」と記すことがある）を水素化することによりガンマブチロラクトンを製造する方法において、前記水素化反応時の反応混合物に含まれる 含窒素化合物 の合計含有量が窒素原子換算で１質量ｐｐｍ以上、５０００質量ｐｐｍ未満であることを特徴とするガンマブチロラクトンの製造方法。

• 公開日：2015/11/05
• 出典：ガンマブチロラクトンの製造方法
• 出願人：三菱レイヨン株式会社

本発明はガンマブチロラクトン及び 含窒素化合物 を含有するガンマブチロラクトン組成物であって、前記ガンマブチロラクトンの含有量が９９．０質量％以上であり、前記含窒素化合物の合計含有量が窒素原子換算で０．１質量ｐｐｍ〜１０００質量ｐｐｍであることを特徴とするガンマブチロラクトン組成物。

• 公開日：2015/09/24
• 出典：ガンマブチロラクトン組成物及びその製造方法
• 出願人：三菱レイヨン株式会社

下記一般式（１）：（一般式（１）中、Ａｒは、それぞれ独立して置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環または置換もしくは無置換の含窒素芳香族複素環であり、Ｘ２およびＹ２は、それぞれ独立して置換もしくは無置換の含窒素芳香族複素環を表す）で表される 含窒素化合物 （Ａ）と、 下記一般式（２）：（一般式（２）中、Ａｒは、それぞれ独立して置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環または置換もしくは無置換の含窒素芳香族複素環であり、Ｘ３、Ｙ３、およびＺ３は、それぞれ独立して置換もしくは無置換の含窒素芳香族複素環を表す）で表される含窒素化合物（Ｂ）と、を含む位相差上昇剤を有する、位相差フィルム。

• 公開日：2017/04/13
• 出典：位相差フィルムおよび、それを用いた偏光板、表示装置
• 出願人：コニカミノルタ株式会社

［解決手段］特定の 含窒素化合物 と、スルホ基を含むアニオン性界面活性剤と、水とを含む組成物と、それを現像後の乾燥したレジストパターンに適用する工程を含むパターン形成方法。

• 公開日：2017/07/27
• 出典：レジストパターン処理用組成物およびそれを用いたパターン形成方法
• 出願人：アーゼット・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

炭素数が８以上の第１ 含窒素化合物 、及び炭素数が７以下の第２含窒素化合物が配合され、金属粒子を含有してなる金属インク組成物であって、前記第１含窒素化合物の配合量に対する前記第２含窒素化合物の配合量の割合が０モル％より大きく、１８モル％未満であり、樹脂成分の含有量が０．５質量％未満であり、２５℃、せん断速度０．１〜１０００ｓ−１における粘度が１Ｐａ・ｓ以上である金属インク組成物。

• 公開日：2016/11/10
• 出典：金属インク組成物及び配線板
• 出願人：トッパン・フォームズ株式会社

ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体、およびジオールを主原料として得られるポリエステル樹脂に、銅を含む化合物ならびに、含窒素複素環構造または３級アミン構造を有する 含窒素化合物 を配合してなるポリエステル樹脂組成物。

• 公開日：2017/08/10
• 出典：ポリエステル樹脂組成物およびその製造方法
• 出願人：東レ株式会社

曝気処理なしで、水中の 含窒素化合物 中の窒素の酸化処理、および、水中の硝酸イオンや亜硝酸イオンの還元処理を同時に並行して行うことが可能な含窒素化合物含有水の処理装置、および、含窒素化合物含有水の処理方法を提供する。

• 公開日：2016/06/30
• 出典：有機態窒素化合物を含む含窒素化合物含有水の処理装置、および、有機態窒素化合物を含む含窒素化合物含有水の処理方法
• 出願人：国立大学法人東京大学

炭素化物上に 含窒素化合物 が均一に分布した炭素材料複合体及びその製造方法、並びに、電極反応において高い酸素還元活性を有する窒素含有炭素材料及びその製造方法を提供することを目的とする。

• 公開日：2016/03/22
• 出典：炭素材料複合体、窒素含有炭素材料、及びそれらの製造方法
• 出願人：旭化成メディカル株式会社

酸解離定数が９．０以下の 含窒素化合物 を用いた昇温脱離−質量分析法及び赤外分光法を組み合わせた分析により、固体酸中のブレンステッド酸点及びルイス酸点の、量及び酸強度分布を算出する、固体酸の分析方法。

• 公開日：2016/11/10
• 出典：粘土鉱物の分析方法、品質管理方法およびそれを用いる粘土鉱物の製造方法
• 出願人：日本ポリプロ株式会社

キチン又はキトサン、及び 含窒素化合物 の水酸化物のプロトン性極性溶液（Ａ）を含む混合物に対して、 ｉ）機械的撹拌処理、 ｉｉ）超音波処理、 ｉｉｉ）５０ＭＰａ以上の高圧処理、及び ｉｖ）２ｍｍ以下の空隙を通過させる処理からなる群より選ばれる少なくとも一種の処理を行う工程を含むキチン又はキトサンナノファイバーの製造方法。

• 公開日：2015/11/05
• 出典：キチン又はキトサンのナノファイバー
• 出願人：大阪瓦斯株式会社