反射防止膜形成 の意味・用法を知る

微細で寸法精度に優れたリブパターンを形成でき、かつ残渣物をリブパターン上に残すことがないリブ加工用 反射防止膜形成 溶液溶剤、反射防止膜を有するリブ形成用積層体およびリブパターンの形成方法を提供すること。

• 公開日：2000/07/18
• 出典：リブ加工用反射防止膜形成溶液、それを塗布したリブ形成用積層体およびリブパターンの形成方法
• 出願人：東京応化工業株式会社

例えば第１のブロックＧ１には、図３に示すように複数の液処理装置、例えばウェハＷを現像処理する現像装置３０、ウェハＷのレジスト膜の下層に反射防止膜（以下、「下部反射防止膜」という）を形成する下部 反射防止膜形成 装置３１、ウェハＷにレジスト液を塗布して塗布膜としてのレジスト膜を形成するレジスト塗布装置３２、ウェハＷのレジスト膜の上層に反射防止膜（以下、「上部反射防止膜」という）を形成する上部反射防止膜形成装置３３が下から順に４段に重ねられている。

• 公開日：2014/02/20
• 出典：熱処理装置、熱処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

（４）半導体層領域形成工程と 反射防止膜形成 工程 次に、スルーホールの内壁面を覆うフォトレジストマスクを除去した後、ｎ型多結晶シリコン基板５１の受光面に、気相拡散法、塗布拡散法などを用いてｐ型不純物を拡散させることにより、ｐ型多結晶シリコン層５２を形成する。

• 公開日：2009/06/18
• 出典：太陽電池及び太陽電池の製造方法
• 出願人：三洋電機株式会社

そして、主面１ａを下に向けて半導体ウェハ１を回転させながら 反射防止膜形成 液２を主面１ａの全域に塗布して行く。

• 公開日：1998/04/10
• 出典：塗布方法および装置
• 出願人：ルネサスエレクトロニクス株式会社

この塗布、現像装置１は、被処理体である基板例えばウエハＷに夫々薬液を供給して処理を行うレジスト塗布モジュール１Ａ、１Ｂ、 反射防止膜形成 モジュール１Ｃ、１Ｄ、保護膜形成モジュール１Ｅ、１Ｆを備えている。

• 公開日：2021/02/18
• 出典：異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

...ことができるが、装置の製造コストを考えると非現実的であり、複数のユニット及び当該複数のユニット間でウエハＷを搬送する搬送機構を一つのブロック制御部Ｃによって制御することが現実的である。そして、上記の装置１の運用例では、ウエハＷにレジスト膜形成処理と現像処理とを行っているが、例えばレジスト膜形成処理、 反射防止膜形成 処理、現像処理のうちの１つあるいは２つのみを行う運用がなされる場合が有る。レジスト膜形成処理、反射防止膜形成処理、現像処理のうち、行われていない処理に関わるユニットを制御するブロック制御部Ｃを動作停止させてメンテナンスができるようにすること、及び既述したように一つのブロック制御部Ｃで複...

• 公開日：2021/02/12
• 出典：基板処理装置
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

）を形成する上部 反射防止膜形成 装置３３が下からこの順に配置されている。

• 公開日：2021/01/14
• 出典：熱処理方法及び熱処理装置
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

前記１）ステップにおける有機底 反射防止膜形成 ステップは、上述のとおりである。

• 公開日：2020/09/24
• 出典：底反射防止膜形成用の重合体およびこれを含む底反射防止膜形成用の組成物
• 出願人：エスケーエネルギー株式会社

単位ブロックＥ１、Ｅ２の搬送機構Ｆ１、Ｆ２は、搬入用の受け渡しモジュールＴＲＳ１、ＴＲＳ２→温度調整モジュールＳＣＰＬ１、ＳＣＰＬ２→ 反射防止膜形成 モジュール１８→加熱モジュール１３→搬出用の受け渡しモジュールＴＲＳ１、ＴＲＳ２の順にウエハＷを搬送する。

• 公開日：2020/08/31
• 出典：基板処理装置及び基板処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

近年、光学デバイスの普及に伴い、透明材料について、その表面への 反射防止膜形成 による反射防止作用などの光学特性の付与等が要求されている。

• 公開日：2020/06/04
• 出典：感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び反射防止膜
• 出願人：信越化学工業株式会社