原料溶液 と関連性が強い法人一覧

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株式会社渡辺商行 CVD気相成長(金属層を除く)絶縁膜の形成 気化器 技術一覧を見る
株式会社FLOSFIA CVD気相成長(金属層を除く)結晶、結晶のための後処理 インダクタの製造方法 技術一覧を見る
日立金属株式会社 半導体装置を構成する物質の液相成長発光ダイオードLED素子(パッケージ以外) LED用エピタキシャルウェハの製造方法 技術一覧を見る
住友電気工業株式会社 重金属無機化合物(I)超電導導体及びその製造方法半導体装置を構成する物質の液相成長 酸化物超電導薄膜とその製造方法、および酸化物超電導薄膜線材 技術一覧を見る
セイコーエプソン株式会社 圧電、電歪、磁歪装置インクジェット(粒子形成、飛翔制御)絶縁膜の形成 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射装置及び圧電素子の製造方法並びに圧電体膜形成用組成物の製造方法 技術一覧を見る
株式会社豊田中央研究所 ナノ構造物触媒触媒による排ガス処理 排ガス浄化用触媒担体の製造方法 技術一覧を見る
独立行政法人産業技術総合研究所 結晶、結晶のための後処理重金属無機化合物(I)ナノ構造物 炭化珪素単結晶の製造方法 技術一覧を見る
三菱マテリアル株式会社 重金属無機化合物(II)無機絶縁材料重金属無機化合物(I) CSD塗布膜除去用組成物及びこれを用いたCSD塗布膜除去方法並びに強誘電体薄膜とその製造方法 技術一覧を見る
トヨタ自動車株式会社 触媒ナノ構造物触媒による排ガス処理 排ガス浄化用触媒担体の製造方法 技術一覧を見る
古河電気工業株式会社 CVD電池の電極及び活物質造粒 微粒子製造方法、リチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法、正極活物質及びこれを用いたリチウムイオン二次電池並びに微粒子製造用原料エマルション 技術一覧を見る
京セラ株式会社 光起電力装置光起電力装置半導体装置を構成する物質の液相成長 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法 技術一覧を見る
シャープ株式会社 光起電力装置光起電力装置CVD 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法 技術一覧を見る
東日本電信電話株式会社 結晶、結晶のための後処理重金属無機化合物(II)圧電、電歪、磁歪装置 結晶成長方法およびその装置 技術一覧を見る
株式会社フジクラ CVD超電導導体及びその製造方法結晶、結晶のための後処理 透明導電性基板の製造装置 技術一覧を見る
JFEエンジニアリング株式会社 再生式熱交換装置;蓄熱プラント、その他熱効果発生材料有機低分子化合物及びその製造 過冷却解除方法及び過冷却解除装置、貯留槽を備える装置並びに、包接水和物の存在比率を増加させる方法及びそのための装置 技術一覧を見る
東芝三菱電機産業システム株式会社 ノズル及び噴霧装置CVD絶縁膜の形成 成膜装置 技術一覧を見る
日本碍子株式会社 珪酸塩及びセ゛オライト、モレキュラーシーブ半透膜を用いた分離ナノ構造物 単結晶の製造方法 技術一覧を見る
アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 CVD気相成長(金属層を除く)半導体メモリ 薄膜形成装置、及び薄膜形成方法 技術一覧を見る
昭栄化学工業株式会社 1,3-ジアゾール系化合物触媒第1-3族元素を含む化合物及びその製造 多孔性金属錯体の製造方法 技術一覧を見る
株式会社IHI 微生物・酵素関連装置原子力プラント酵素,微生物の固定化,処理 正極活物質、正極及びナトリウムイオン電池、並びに、正極活物質の製造方法 技術一覧を見る
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