化学的エッチング処理 の意味・用法を知る

ワークにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置に備えられるアルミニウム合金で形成された下部電極であって、この下部電極の平坦な表面は、 化学的エッチング処理 のみにより生起させられた、Ｒａで 1μm ≦Ｒａ≦6 μm である粗さの凹凸を有し、下部電極表面 (アルミニウム合金表面) とウエハ表面との表面同士の接触面積を小さくして、スティッキングを防止する。

• 公開日：2005/10/20
• 出典：プラズマ処理装置用下部電極
• 出願人：株式会社神戸製鋼所

請求項１記載のＡｌＮメタライズ基板において、前記メタライズ層の最表面は、 化学的エッチング処理 により酸化物成分が除去されていることを特徴とするＡｌＮメタライズ基板。

• 公開日：1996/01/30
• 出典：ＡｌＮメタライズ基板
• 出願人：株式会社東芝

これに対して、特許文献１、２に記載された方法では、熱処理によってシリサイド層を形成した後、プラズマ処理や 化学的エッチング処理 等を施すことによってシリサイド層表面の析出層、さらには、シリサイド層の表面側の一部を除去することを行っている。

• 公開日：2013/03/28
• 出典：半導体素子の製造方法
• 出願人：セイコーエプソン株式会社

このように機械的粗面化処理を行った後、アルミニウム板の平滑化、均斉化等を目的として、アルミニウム表面をｐＨ１１以上、好ましくはｐＨ１３以上のアルカリ溶液を用いて 化学的エッチング処理 を行う。

• 公開日：2000/07/04
• 出典：平版印刷版の製造方法
• 出願人：富士フイルムホールディングス株式会社

アルミニウム板もしくはアルミニウム合金板の表面に粗面化処理を施してなる平版印刷版用支持体であって、電気化学的粗面化処理に続いて 化学的エッチング処理 を施して生成されるピットを電子顕微鏡で観測した時、あるピットの周囲に平坦な部分を介さず直接接しているピットの数が平均値で４〜８個であり、かつ直接接しているピットの数が３個以下であるピットの割合が２０％以下、および直接接しているピットの数が１０個以上であるピットの割合が２０％以下であることを特徴とする平版印刷版用支持体。

• 公開日：1998/05/26
• 出典：平版印刷版用支持体
• 出願人：富士フイルムホールディングス株式会社

アルミニウム板もしくはアルミニウム合金板を順に、（１）特定のブラシ毛及び研磨材を用いての機械的粗面化処理、（２）第１の 化学的エッチング処理 、（３）後記電解粗面化処理と同一組成の酸性溶液を用いてのスマット除去、（４）酸性溶液中での第１の電解粗面化処理、（５）酸性溶液中での陰極電解処理、（６）酸性溶液中での第２の電解粗面化処理、（７）第２の化学的エッチング処理、（８）硫酸を主体とする酸性溶液によるスマット除去、（９）陽極酸化被膜形成を行うことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。

• 公開日：1998/05/12
• 出典：平版印刷版用支持体の製造方法
• 出願人：富士フイルムホールディングス株式会社

支持基材の表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、オゾン処理、アルカリ、酸等による 化学的エッチング処理 などを施してもよい。

• 公開日：2020/03/26
• 出典：フィブロイン溶液、フィブロインナノ薄膜、ナノ薄膜シート及びその製造方法、並びに、転写方法
• 出願人：日立化成株式会社

本発明で利用可能な化学的粗面化処理あるいは物理的粗面化処理としては、前述のメッキ処理（特に化学メッキ処理）、 化学的エッチング処理 （化学薬品を用いて基体表面を粗面化する処理）、陽極酸化処理、レーザ処理などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

• 公開日：2020/02/13
• 出典：表面の疎水性もしくは親水性が高められた基体
• 出願人：仲山貴金属鍍金株式会社

例えば、シリコン単結晶の育成工程で混入する炭素を評価したい場合は、該当のシリコン単結晶からウェーハを切断し、切断ダメージを取り除くために 化学的エッチング処理 を行うことにより準備できる。

• 公開日：2020/01/16
• 出典：シリコン単結晶中の炭素濃度評価方法
• 出願人：信越半導体株式会社

これらの粗面化処理の中で、 化学的エッチング処理 が好ましい。

• 公開日：2020/01/16
• 出典：積層体およびフレキシブルデバイスの製造方法
• 出願人：ユニチカ株式会社