処理装置 の意味・用法を知る
処理装置 とは、ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 やウエハ等の容器,移送,固着,位置決め等 などの分野において活用されるキーワードであり、ルネサスエレクトロニクス株式会社 や東京エレクトロン株式会社 などが関連する技術を12,890件開発しています。
このページでは、 処理装置 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
処理装置の意味・用法
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手書き情報 処理装置 は、視聴者が記載した手書き情報を順次ベクトルデータ化して収集するとともに、発話者又は視聴者を撮影する動画像データ記憶部102、所定のキーワードを指定すると、前記ベクトルデータに含まれるキーワードを強調表示データに変更する表示変更部106、発話者の発話進行中に、前記動画像データのリアルタイム再生表示と対比閲覧可能に、ベクトルデータを順次時系列に表示し、さらに、逐次強調表示データを表示する表示部107を持つ。
- 公開日:2017/05/25
- 出典:手書き情報処理装置
- 出願人:株式会社フォトロン
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管理部315は、検知部312が利用者を検知すると、その利用者のために 処理装置 3に備わる複数の資源を確保し、全ての資源を確保した後、受付部313が利用者の操作を受付けたときに、確保されたそれらの資源のうち、その操作により選択される処理に不要なものを解放する。
- 公開日:2017/12/21
- 出典:処理装置、処理システムおよびプログラム
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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クライアント装置に接続されたビデオストリーム 処理装置 を備えたシステム内でビデオストリームを後処理する際、シェーダ(shader)を使用し、ビデオストリーム処理装置とクライアント装置との間で処理を分割する。
- 公開日:2016/06/20
- 出典:ビデオストリームの後処理のための方法及び装置
- 出願人:アクシスアクチボラグ
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人の頸部にセンサを装着して測定した測定パラメータに基づいて算出した判定用パラメータの値が適正範囲内のときの当該判定用パラメータを用いて嚥下に関する事項を判定する際の当該適正範囲を特定する処理部を備え、前記処理部は、複数回測定した前記測定パラメータに基づいてそれぞれ算出した複数の前記判定用パラメータを統計処理して得た処理結果に基づいて前記適正範囲の最小値とする第1閾値を特定し、前記判定用パラメータの値が前記第1閾値以上の範囲を前記適正範囲として特定する 処理装置 。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:処理装置、判定装置および適正範囲特定方法
- 出願人:長野県
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前記被写体像の特性が異なる複数の画像データを生成する撮像装置と、前記撮像装置が生成した前記画像データに画像処理を施す 処理装置 と、を備え、前記統合部、前記信号処理部および前記表示画像生成部は、前記処理装置に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の画像処理システム。
- 公開日:2017/12/28
- 出典:画像処理システムおよび画像処理装置
- 出願人:オリンパス株式会社
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3次元画像データを併用して検査を行う場合において関心領域を明確に把握して透視あるいは撮影することができるX線画像 処理装置 を提供することを目的とする。
- 公開日:2017/11/24
- 出典:X線画像処理装置
- 出願人:株式会社島津製作所
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作業具を有する作業機及び前記作業機が取り付けられた旋回体を備えた作業機械に適用される作業機械の画像表示システムであり、前記作業機の姿勢及び位置の少なくとも一方を検出する位置検出部と、前記作業機械から作業対象までの距離の情報を求める距離検出装置と、前記位置検出部によって得られた前記作業具の位置の情報と、前記距離検出装置が求めた前記距離の情報から得られた前記作業対象の位置の情報とを用いて、前記作業具と対向する前記作業対象上において、前記作業具の一部に対応する部分を含み、かつ前記旋回体が旋回する方向に沿って延びる第1画像を生成して、表示装置に表示させる 処理装置 と、を含む。
- 公開日:2018/03/08
- 出典:作業機械の画像表示システム
- 出願人:株式会社小松製作所
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処理装置 が持つデフォルトの設定に対してユーザが希望する設定変更を加える場合よりもユーザの操作負担を軽減すると共に、端末上で処理の設定を行いその設定の情報を処理装置に送って実行させる場合よりも端末上でのユーザの設定操作の負担を軽減する。
- 公開日:2018/01/25
- 出典:処理システム、処理装置、端末及びプログラム
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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第2の通信ユニット39は、暗号化に必要な通信相手別の暗号鍵情報40を所定の上限個数まで記憶可能な記憶部39eを有し、暗号通信を行う場合に、記憶部39eに記憶されている第1の 処理装置 2に対応した暗号鍵情報40Aに含まれる暗号鍵42Aに基づいて暗号化および復号化の少なくとも一方を行い、暗号通信が終了した後で、記憶部39eに記憶されている第1の処理装置2に対応した暗号鍵情報40を記憶部39eから削除する処理を行う。
- 公開日:2017/09/07
- 出典:通信処理システム、処理装置、およびコンピュータプログラム
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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各々が周期的に起動される複数のタスクが並列的に実行されるマルチタスク処理を行う 処理装置 において、より適切に異常を検出する。
- 公開日:2017/04/20
- 出典:処理装置、交通信号装置及び情報表示装置
- 出願人:コイト電工株式会社
処理装置の原理 に関わる言及
処理装置の問題点 に関わる言及
処理装置の特徴 に関わる言及
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
- ノズル・整流・遮蔽・排気口
- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
- 冷却
- 加熱(照射)・温度制御
- 基板支持
- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ