処理液 の意味・用法を知る

上記超音波振動子には超音波発振器が接続される。この超音波発振器は所定の周波数の電力を出力し、その電力を上記超音波振動子に印加する。それによって、上記超音波振動子が超音波振動するから、その超音波振動に上記振動板が連動し、この振動板によって上記本体内に供給された 処理液 に超音波振動が付与されるようになっている。

• 公開日： 2002/01/18
• 出典： 超音波振動体の製造方法、超音波振動体及び超音波洗浄装置
• 出願人： 芝浦メカトロニクス株式会社

予備吐出期間の前後の期間の吐出履歴に基づいて、当該予備吐出期間に記録液又は 処理液 が吐出される吐出口を選択することに限定されない。例えば、吐出履歴に関わらず、全吐出口から予備吐出に係る記録液又は処理液を吐出させてもよい。

• 公開日： 2011/10/20
• 出典： 液体吐出装置、及び、プログラム
• 出願人： ブラザー工業株式会社

槽内の 処理液 に補充剤を投入する場合には、駆動手段によりシャッターを移動して処理剤投入口を開け、搬送手段を駆動して貯留部の補充剤を搬送して排出口より規定量排出する。排出口から排出した補充剤は処理剤投入口へ投入され、槽内の処理液に対して補充剤の補充が行われる。

• 公開日： 2000/07/14
• 出典： 感光材料処理用処理剤補充装置
• 出願人： 富士フイルムホールディングス株式会社

また、閉鎖型処理カップに対する 処理液 の排出路に流量絞り弁を備えたものでは、閉鎖型処理カップ内の処理液の圧力をより高い状態で調整でき、圧力と流速の少なくとも一方の周期的な変化とともに、効果的に被処理部材への気泡の滞留を少なくして、気泡の滞留による処理欠陥を少なくできる効果がある。

• 公開日： 2002/12/18
• 出典： 化学的処理装置
• 出願人： 三菱電機株式会社

被処理物を 処理液 で処理する場合、被処理物を処理槽に供給し、その被処理物に対して処理液を噴射することで、上記被処理物を処理するようにしている。処理液は使用に伴ない劣化する。したがって、処理液は所定期間使用したならば新しい処理液に交換される。

• 公開日： 2000/08/11
• 出典： 処理装置及び処理方法
• 出願人： 芝浦メカトロニクス株式会社

処理液 の流動によって、被処理物を攪拌しながら流動させて、被処理物が処理液に浮き易いか沈み易いかにかかわらず、可及的に確実に被処理物に対して処理できる物品処理装置および物品処理方法を提供する。

• 公開日： 2004/11/11
• 出典： 物品処理装置
• 出願人： 細田工業株式会社

また、被処理物の分離促進により、移送路と接触する被処理物の面を反転させることができるため、 処理液 がまんべんなく行き渡り、被処理物の処理にムラが生じることがない、という利点も有している。

• 公開日： 2000/05/26
• 出典： 液中被処理物移送装置
• 出願人： 富士フイルム株式会社

上記方法によれば、流体の噴出によって回転ドラム内の 処理液 が撹拌され、また流体が被処理物に当たって被処理物自体に動作が与えられるから、少ない量の処理液であっても被処理物の処理が均一になって、被処理物の処理性を向上させることができる。

• 公開日： 2010/02/04
• 出典： 生地状の被処理物の染色装置および染色方法
• 出願人： 株式会社日阪製作所

従来の気泡接触方式と比べ、より短い処理時間で被 処理液 を大量に処理することができるオゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システム、及び水、廃水または下水のオゾン処理方法を提供する。

• 公開日： 2003/04/02
• 出典： オゾン処理装置とそれを使用した水、廃水または下水処理システム
• 出願人： 本山誠一

また、基板の表面に洗浄 処理液 を供給するための洗浄処理液供給手段と、基板の表面にリンス処理液を供給するためのリンス処理液供給手段と、基板から飛散した洗浄処理液とリンス処理液を排出するための処理液排出手段をさらに有することにした。

• 公開日： 2012/05/17
• 出典： めっき処理装置及びめっき処理方法並びにめっき処理プログラムを記録した記録媒体
• 出願人： 東京エレクトロン株式会社

すなわち、この 処理液 吐出装置は、主処理液吐出装置の制御によって処理液の吐出を行うものであり、主処理液吐出装置の塗布部を共用することで吐出した処理液の塗布を行うものである。

• 公開日： 2005/09/02
• 出典： 処理液吐出装置、半導体製造装置および半導体装置の製造方法
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社

搬送と搬送停止が繰り返される記録媒体に対して 処理液 を適確に塗布することができ、しかも装置の小型化および記録時間の短縮化を図ることができる記録装置、記録媒体の処理装置、および記録媒体の処理方法を提供すること。

• 公開日： 2007/11/22
• 出典： 記録装置、記録媒体の処理装置、および記録媒体の処理方法
• 出願人： キヤノン株式会社

複数の処理部に対して 処理液 を供給することができ、かつ、処理部の基板処理能力が著しく低下することを抑制できる処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。

• 公開日： 2014/05/19
• 出典： 処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置
• 出願人： 株式会社ＳＣＲＥＥＮセミコンダクターソリューションズ

金属表面に対して、短時間で容易に反射防止性能を有する黒化層を形成することが可能な黒化 処理液 、当該黒化処理液を用いた黒化処理方法、及び当該黒化処理方法を用いた黒化層の密着性に優れる黒化処理品を提供する。

• 公開日： 2008/06/26
• 出典： 金属黒化処理液、当該金属黒化処理液を用いた金属黒化処理方法、当該金属黒化処理方法を用いた黒化処理品
• 出願人： 株式会社ＪＣＵ

このうち、 処理液 の活性化のひとつの手段として発色現像液の発色現像主薬の濃度を高濃度化することが挙げられるが、実用されている発色現像液の組成では、溶解度の関係から発色現像主薬を高濃度化して現像速度を大きくするには限界がある。

• 公開日： 1997/05/27
• 出典： ハロゲン化銀写真感光材料用発色現像処理剤及びこれらを用いるハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法
• 出願人： コニカミノルタ株式会社

ところで、被処理物に対する処理の種類やそのときに用いられる 処理液 の種類によっては、その処理液を被処理物に対して所定の角度で傾斜させて噴射させた方が処理効果を向上させることができる場合がある。

• 公開日： 1998/05/29
• 出典： スピン処理装置
• 出願人： 芝浦メカトロニクス株式会社

なお、 処理液 は使用に伴い経時的に劣化するから、その劣化に応じて所望する処理を行なうための処理時間が長くなる。処理液の劣化度合と所望する処理を行なうために要する処理時間との関係は、比例関係にあり、その関係は実験的に求めることが可能である。

• 公開日： 2005/10/20
• 出典： 基板の処理装置及び処理方法
• 出願人： 芝浦メカトロニクス株式会社