処理条件 の意味・用法を知る
処理条件 とは、ファクシミリ一般 や付属装置、全体制御 などの分野において活用されるキーワードであり、富士ゼロックス株式会社 や東京エレクトロン株式会社 などが関連する技術を47,338件開発しています。
このページでは、 処理条件 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
処理条件の意味・用法
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...60μmの総厚みの被覆で、超硬合金、サーメット、セラミック、鋼、又は立方晶窒化ホウ素を含む基材を被覆するステップを含む、被覆切削工具インサートを製造する方法であって、前記α‐Al2O3層の堆積プロセスが、少なくとも、第1の結晶学的方向に沿って好ましい成長を有するα‐Al2O3層を堆積するための第1の 処理条件 の下で前記α‐Al2O3層の第1の厚み部分の堆積を実行するステップと、上述の前記第1の結晶学的方向に対して実質的に垂直な第2の結晶学的方向に沿って好ましい成長を有するα‐Al2O3層の堆積に役立つ第2の処理条件の下で前記α‐Al2O3層の第2の厚み部分の堆積を実行するために堆積条件を変更する...
- 公開日:2017/03/02
- 出典:アルミナ被覆切削工具
- 出願人:サンドビックインテレクチュアルプロパティーアーゲー
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なお、試験片については各 処理条件 で処理した後に、耐食性を評価する試験対象箇所を除いてマスキングした。
- 公開日:2017/05/18
- 出典:ステンレス鋼部品の処理方法
- 出願人:株式会社IHI
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処理条件 算出手段は、学習履歴ファイルから更新された処理条件と少なくとも一部の処理条件が記憶された学習履歴ファイルと、更新された処理条件と、処理変化モデルとに基づいて、目標とする処理結果に近い処理条件を算出する。
- 公開日:2016/08/08
- 出典:処理システム及び処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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高周波の反射を抑えた適切な 処理条件 を自動的に生成すること。
- 公開日:2016/12/15
- 出典:プラズマ処理装置の処理条件生成方法及びプラズマ処理装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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第2の工程は、下層膜のエッチングの途中で、第1の 処理条件 から、下層膜に対するフォトレジストの選択比が第1の選択比よりも低い第2の選択比となる第2の処理条件に切り換え、フォトレジストをマスクとして、プラズマにより下層膜をさらにエッチングする工程である。
- 公開日:2016/09/15
- 出典:プラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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端末装置から無線通信により 処理条件 を画像処理装置に送った後でも、ユーザによる処理条件の変更が可能となる画像処理装置等を提供する。
- 公開日:2016/01/28
- 出典:画像処理システム
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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熱処理装置の制御部50は、 処理条件 および装置状況に関する適用条件を記憶するレシピ記憶部52と、処理変化モデルを記憶するモデル記憶部51と、処理結果に関する情報を受信する処理情報受信手段と、処理条件を特定する処理条件特定手段と、特定された処理条件で半導体ウエハに処理を実行する処理実行手段と、実行した処理における装置状況が、特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別手段と、装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、処理変化モデルとに基づいて、目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理...
- 公開日:2016/10/13
- 出典:処理システム、処理方法、及び、プログラム
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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熱処理装置の制御部50は、 処理条件 を記憶するレシピ記憶部52と、学習履歴ファイルを記憶する学習履歴ファイル記憶部53と、処理変化モデルを記憶するモデル記憶部51と、処理結果に関する情報を受信する処理情報受信部と、処理条件を特定する処理条件特定手段と、処理結果が許容範囲内か否かを判別する処理結果判別手段と、同一の処理条件が記憶された学習履歴ファイルが作成された時から、装置コンディションが変化しているか否かにより、学習履歴ファイルを使用するか否かを判別する使用判別手段と、記憶された学習履歴ファイルから特定した学習履歴ファイルを決定する学習履歴ファイル決定手段と、特定された処理条件と、決定された学習...
- 公開日:2016/10/13
- 出典:処理システム、処理方法、及び、プログラム
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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複数の第1の素子データ、あるいは、第1の素子データに整相加算処理を行って生成した複数の第1の受信データから、2以上のデータを選択して重ね合わせ処理を行うデータ処理ステップと、撮像領域内に着目領域を設定する着目領域設定ステップと、着目領域設定ステップにより着目領域が設定された際に、設定された着目領域の情報に基づいて、データ処理ステップにおける 処理条件 を変更する処理条件変更ステップとを有する。
- 公開日:2015/10/22
- 出典:音響波処理装置、音響波処理装置の信号処理方法およびプログラム
- 出願人:富士フイルム株式会社
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複数のスロットを有する基板保持具内に少なくともモニタ基板を載置した状態で基板に処理を施す基板処理方法であって、モニタ基板を第1の枚数含んで実施された第1の処理における、第1の 処理条件 と、モニタ基板に関する第1の処理結果とを取得する、第1取得ステップと、モニタ基板を第1の枚数より多い第2の枚数含んで実施された第2の処理における、第2の処理条件と、モニタ基板に関する第2の処理結果とを取得する、第2取得ステップと、第1の処理条件と第2の処理条件との間の処理条件差を算出する、第1算出ステップと、第1の処理結果と、第2の処理結果と、処理条件差と、処理条件と処理結果との間の関係を示すプロセスモデルとに基づ...
- 公開日:2015/10/08
- 出典:基板処理方法、プログラム、制御装置、基板処理装置及び基板処理システム
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
処理条件の原理 に関わる言及
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さらに、背圧調整弁として、流量調整弁と、圧力調整弁とを併用すると好ましい。この構成によると、流量調整弁を用いて、連続または半連続処理装置内での処理速度を調整するとともに、圧力調整弁により、連続または半連続処理装置内での処理圧力を調整することができるので、より厳密な 処理条件 で、処理を行うことができる。
- 公開日: 2007/03/22
- 出典: 連続または半連続処理装置および連続または半連続処理方法
- 出願人: 公立大学法人大阪府立大学
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そして、ある基板処理手順が指定されると、回転式基板処理装置は、この指定された基板処理手順における基板搬送順序に基づいて、該当する処理機器に基板を順次搬送し、搬送された各処理機器において、基板処理手順における基板 処理条件 に基づいて、基板を処理する。
- 公開日: 1997/01/07
- 出典: 回転式基板処理装置
- 出願人: 株式会社SCREENホールディングス
処理条件の問題点 に関わる言及
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すなわち、この最適化処理では、PEB処理及び現像処理の前後の検査結果の違いに応じて、現像処理、PEB処理、液浸露光処理の順番で、処理状態を選択し、問題が有ると判断された処理の 処理条件 を最適化する。
- 公開日: 2013/11/21
- 出典: 基板処理方法、基板処理装置、露光装置、測定検査装置、処理装置、コンピュータ・システム、プログラム及び情報記録媒体
- 出願人: 株式会社ニコン
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無電解めっき処理に際しては、めっき液の液温、めっき時間等の 処理条件 は、樹脂基材の種類、めっき液の種類等に応じて常法に従えば良い。無電解めっき被膜の形成後は、必要に応じて各種電気めっきを施すことも可能である。
- 公開日: 2003/01/15
- 出典: 樹脂基材表面への無電解めっき用触媒付与方法
- 出願人: 奥野製薬工業株式会社
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処理温度については、通常、室温で行うことができる。処理時間については、処理対象とする廃液の量、濃度や抽出剤の濃度等の 処理条件 によって異なるので、処理条件に応じて適宜決めればよい。
- 公開日: 2003/03/18
- 出典: 化学めっき廃液の処理方法
- 出願人: 吉玉精鍍株式会社
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しかしながらロータリーキルン熱分解炉に代表される既存の外熱式熱分解炉を用いた廃棄物熱分解方法の抱える課題として、廃棄物の供給速度や粒度等の 処理条件 が変化した場合に、熱分解炉内での熱分解進行度が変化して熱分解炉出口の熱分解生成物の収率や性状が変動することが挙げられる。
- 公開日: 2007/04/26
- 出典: 廃棄物の熱分解進行度の検知方法及び装置、並びに、廃棄物の熱分解方法及び装置
- 出願人: 新日鐵住金株式会社
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水素化分解処理を行うための反応器の形式、 処理条件 は前述の水素化脱酸素処理と同様であるので、重複を避ける観点から説明を割愛する。なお、水素化脱酸素処理において言及した反応熱による反応器内の温度の過度の上昇については、水素化分解処理及び後述する水素化異性化処理については該当しない。
- 公開日: 2012/09/27
- 出典: 炭化水素燃料の製造方法
- 出願人: JX日鉱日石エネルギー株式会社
処理条件の特徴 に関わる言及
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このように、携帯端末から送信されてきた処理対象データを画像処理装置で処理する場合、携帯端末と画像処理装置との接続を確立して、データを携帯端末から画像処理装置へ送信する必要がある。また、処理対象データに対する 処理条件 を画像処理装置で設定する必要もある。
- 公開日: 2009/12/17
- 出典: 画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラム
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
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自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像 処理条件 の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像制御方法を提供する。
- 公開日: 2006/10/05
- 出典: 感光性平版印刷版自動現像装置の現像制御方法及びその自動現像装置
- 出願人: 富士フイルム株式会社
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このようにして、主制御装置から個別制御装置に対してレシピ番号を指定することにより、各個別制御装置における処理手順および 処理条件 が定まり、基板に対して一連の適切な処理を施すことができる。
- 公開日: 2000/07/14
- 出典: 基板処理システム、および基板処理システムの処理レシピデータを記録した記録媒体
- 出願人: 株式会社SCREENホールディングス
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電導度基準補充方式において、自動現像機の現像部を簡易で安価な構成としながら、電解質と現像抑制剤を含有する現像 処理条件 の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法を提供する。
- 公開日: 2005/10/27
- 出典: 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法
- 出願人: 富士フイルム株式会社
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自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像 処理条件 の変化に対する現像液感度の変動を最小限に抑えることができる、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。
- 公開日: 2006/09/07
- 出典: 感光性平版印刷版の自動現像方法及びその自動現像装置
- 出願人: 富士フイルム株式会社
処理条件の使用状況 に関わる言及
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このような選別方法によれば、使用済みの水素化処理用触媒から水素化処理活性が高い再生水素化処理用触媒を安定して製造することが可能となる再生 処理条件 を、容易に選別することができる。
- 公開日: 2013/06/20
- 出典: 予備硫化済み再生水素化処理用触媒の製造方法、再生水素化処理用触媒の製造方法、水素化処理用触媒の再生処理条件の選別方法、及び石油製品の製造方法
- 出願人: JX日鉱日石エネルギー株式会社
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比較的実機に近い 処理条件 で生地等の試料を処理することができ、しかも、その処理において、試料にしわがつかず、処理むらも生じない、優れた処理試験を行うことのできるポット処理方法と、それに用いるポット処理装置を提供する。
- 公開日: 2008/04/17
- 出典: ポット処理方法およびそれに用いるポット処理装置
- 出願人: 株式会社日阪製作所
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この結果、画像の特徴から決定した画像 処理条件 を用いて画像処理する際に、画像処理条件を高精度に求めて設定することが可能な画像処理方法および画像処理装置ならびに画像処理プログラムを実現できる。
- 公開日: 2006/05/18
- 出典: 画像処理方法および画像処理装置ならびに画像処理プログラム
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
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付属装置、全体制御
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気相成長(金属層を除く)
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- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
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