処理室 の意味・用法を知る
処理室 とは、気相成長(金属層を除く) やCVD などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社日立国際電気 や東京エレクトロン株式会社 などが関連する技術を6,259件開発しています。
このページでは、 処理室 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
処理室の意味・用法
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プラズマを形成するための電界を容器内部の 処理室 内に供給しつつ処理室内のウエハ上に加熱するための光を効率良く照射できるプラズマ処理装置を提供する。
- 公開日:2017/02/02
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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エッチング後、第2の水蒸気を 処理室 内に供給して基板を洗浄することにより基板表面のフッ素を除去する。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:エッチング方法及びエッチング装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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このため、 処理室 内部でフッ素ラジカルを再活性化する必要がない。
- 公開日:2018/02/01
- 出典:フッ素ラジカルの失活防止方法
- 出願人:岩谷産業株式会社
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基板を保持する基板ホルダが設けられており前記基板が処理される 処理室 と、前記処理室に隣接しており前記処理室との間で基板が搬入出される予備室と、前記処理室及び前記予備室の間に設けられ、それらを連通する開口部を開閉するゲートバルブとを備え、前記ゲートバルブは、前記開口部を開閉するための弁体と、前記開口部を閉塞する閉塞位置及び前記開口部を開放する開放位置の間で前記弁体を移動させる駆動機構とを備え、前記駆動機構は、前記開放位置から前記閉塞位置への弁体移動速度を、前記閉塞位置から前記開放位置への弁体移動速度よりも低速としている真空処理装置。
- 公開日:2018/01/18
- 出典:ゲートバルブ、真空処理装置及び真空処理装置の制御方法
- 出願人:日新電機株式会社
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処理室 と、前記処理室に形成され前記処理室内にガス状物質を吸入させるためのガス状物質吸入口と、前記処理室に形成され前記処理室内に吸入されたガス状物質を前記処理室外に排出させるガス状物質排出口と、前記処理室内に設けられた貯水槽と、前記貯水槽の中心からみて前記ガス状物質排出口側の少なくとも一部の水面の少なくとも気液界面に設置され、前記貯水槽の水面に奔流を発生せしめるための波状多孔質奔流発生板と、前記ガス状物質排出口側の水面の上方に設置され、前記奔流により生じる飛沫を受けるための多孔質邪魔板と、を有し、前記処理室内に吸入されたガス状物質が前記貯水槽の水と接触することによって浄化されるようにした。
- 公開日:2017/06/15
- 出典:湿式ガス状物質処理装置
- 出願人:株式会社ネイブヒート
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実施形態に係る基板処理装置は、退避室31と、退避室31を間にして設けられた一対の 処理室 21と、退避室31内及び一対の処理室21内にわたって移動可能に設けられ、処理室21内の基板W上に処理液を供給し、かつ、その基板W上の処理液を加熱する処理部として機能するヒータ32と、退避室31内及び一対の処理室21内にわたってヒータ32を移動させる移動機構として機能するヒータ移動機構33とを備える。
- 公開日:2017/04/06
- 出典:基板処理装置及び基板処理方法
- 出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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処理室 201は、複数枚の基板としてのウエハ200を収容可能に構成されている。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:半導体装置の製造方法、基板処理システムおよびプログラム
- 出願人:株式会社KOKUSAIELECTRIC
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本実施形態の燃料電池装置は、燃料電池セルと改質器とを有する燃料電池モジュールと、排ガスに含まれる水を凝縮水として回収する凝縮水回収流路と、凝縮水を貯水する凝縮水回収器と、貯水された凝縮水を改質器に供給する改質水供給ラインとを備え、凝縮水回収器10は、イオン交換樹脂11を備える凝縮水 処理室 Aと、凝縮水を貯留する凝縮水貯留室Bと、中和剤12を備えるとともに余剰の凝縮水を排水する第1の排水部を有する凝縮水中和室Cと、を含む。
- 公開日:2018/03/01
- 出典:燃料電池装置
- 出願人:ダイニチ工業株式会社
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また、 処理室 内の被処理物を筒軸方向他端側に隣接する他の前記処理室に送り出す送り出し装置20と、処理室内の壁面に被処理物を密着させる押圧装置30を備える。
- 公開日:2018/03/22
- 出典:液切装置
- 出願人:株式会社栗本鐵工所
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本発明による滅菌装置は、被処理物を収容する 処理室 と、処理室の内部を減圧する減圧手段と、処理室の内部にアルコールを供給するアルコール供給手段と、紫外線をアルコールに照射する紫外照射手段と、を備える。
- 公開日:2017/07/20
- 出典:滅菌方法及び滅菌装置
- 出願人:学校法人東海大学
処理室の原理 に関わる言及
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上記のプラズマ処理装置にあっては、 処理室 で基板に処理を施している間に、次に処理する基板をロードロック室に入れ、ロードロック室を処理室と同圧まで減圧して待機し、処理室での処理が終了したら、処理室内の基板を取り出すとともにロードロック室で待機していた未処理の基板を処理室内に搬入し、処理室とロードロック室間をシャッターで遮断し、この後、ロードロック室と外部とを遮断しているシャッターを開けてロードロック室内にある既処理の基板を外部に搬出するとともに新たな基板をロードロック室内に取り入れるようにしている。
- 公開日: 1998/07/21
- 出典: 減圧処理方法
- 出願人: 東京応化工業株式会社
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このような真空処理装置は、内部に搬送アーム等を有する基板搬送機構が設けられたロードロック室と、その周囲に設けられた複数の真空 処理室 とを有する。ロードロック室内の搬送アームにより、被処理基板が各真空処理室に搬入されると共に、処理済みの基板が各真空処理室から搬出される。
- 公開日: 2001/06/12
- 出典: 半導体処理装置の基板支持機構及び基板交換方法、並びに半導体処理装置及び基板搬送装置
- 出願人: 東京エレクトロン株式会社
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アッシング処理等の減圧下での処理を効率良く行うため、従来から 処理室 にロードロック室を付設し、処理室で処理をしている間に、次に処理する基板をロードロック室に入れ、ロードロック室を処理室と同圧まで減圧して待機し、処理室での処理が終了したら、処理室内の基板をロードロック室に設けたロボットにより取り出すとともにロードロック室で待機していた未処理の基板を処理室内に搬入して処理する装置が知られている。
- 公開日: 2002/08/23
- 出典: 基板の処理方法
- 出願人: 東京応化工業株式会社
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ウエハ 処理室 は、真空室内に設けられており、ウエハは、ロードロック室を介して、または直接ウエハ処理室内に導入される。通常、ロードロック室が用いられるが、ウエハを処理室内に移動させる途中でロードロック室に挿入する時、ロードロック室の真空引きと通気が繰り返される。
- 公開日: 2000/01/14
- 出典: ウエハ搬送装置及びその方法
- 出願人: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社
処理室の問題点 に関わる言及
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上記のような遊星型の処理装置においては、従来の処理容器を 処理室 として使用して被処理材料Mの処理を行った場合に、撹拌等により生じる熱が処理容器内に蓄積し、被処理材料Mや処理容器そのものに悪影響を及ぼす場合がある。
- 公開日: 2014/04/17
- 出典: 処理容器、及びそれを使用する処理装置
- 出願人: 株式会社シンキー
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さらに、従来の廃棄物処理装置等では、廃棄物 処理室 を装置内部に複数備えておらず、各装置毎に内部の処理温度が単一に設定されることから、互いに種類の異なる廃棄物を一括して処理しようとしても、これらの廃棄物のそれぞれに対して適した処理温度で廃棄処理を行うことができなかった。
- 公開日: 2002/12/04
- 出典: 廃棄物処理装置
- 出願人: 株式会社日本ネットワークサポート
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処理装置の 処理室 内で、被処理体を処理する際に、処理室の内壁に汚れが付着してしまう。たとえば、CVD装置によって成膜処理する場合、成膜時の反応生成物が、処理室の内壁に付着してしまう。
- 公開日: 2003/09/12
- 出典: 処理装置およびその使用方法ならびにボート
- 出願人: セイコーエプソン株式会社
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しかしながら、ゲッタ 処理室 やアライメント処理室の前に接続された他の処理室での処理時間が、ゲッタ処理室やアライメント処理室の減圧に要する時間より短くても済む場合、この減圧の待ちの時間を生じることになり、製造効率が低下する問題がある。
- 公開日: 2003/02/28
- 出典: 画像表示パネルの製造法
- 出願人: キヤノン株式会社
処理室の特徴 に関わる言及
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このとき、上記後処理として窒化処理を行う場合、フッ化処理と窒化処理を共通の 処理室 で行うと、窒化処理を行うことにより処理室の空間内構造物の表面にあらかじめ形成したフッ化層まで分解されてしまうため、窒化処理はフッ化処理室とは独立に存在する窒化処理室で行うのが好ましい。
- 公開日: 2010/04/30
- 出典: フッ化処理方法およびフッ化処理装置ならびにフッ化処理装置の使用方法
- 出願人: エア・ウォーター株式会社
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一方、例えば第一のTi成膜室又は第二のTi成膜室のいずれかが起動運転又は再生運転中でも、他の基板 処理室 では通常の基板処理を継続しつつ、起動運転又は再生運転を行っている処理室では、起動運転又は再生運転を短時間で終了し、通常の基板処理に迅速に復帰出来る。
- 公開日: 2012/03/01
- 出典: 真空排気システム、真空排気システムの運転方法、冷凍機、冷凍機の運転方法、基板処理装置、電子デバイスの製造方法
- 出願人: キヤノンアネルバ株式会社
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真空 処理室 と洗浄装置を有する真空処理装置及び真空処理方法に係り、真空処理装置での異常発生時に、洗浄処理を施すシーケンスを有する真空処理装置及び真空処理方法に関するものである。
- 公開日: 2011/11/17
- 出典: 真空処理装置及びプラズマ処理方法
- 出願人: 株式会社日立ハイテクサイエンス
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また、一般に、一組のマイクロ波発生電源にマイクロ波を用いた処理を行う二組の 処理室 を組合わせて、マイクロ波発生電源からのマイクロ波の導波経路を何れか一方の処理室に切替えて使用するマイクロ波処理装置においては、従来は機械的にマイクロ波導波経路を切替える切替え機を用いていた。
- 公開日: 2003/08/15
- 出典: サーキュレータ、アイソレータ、それを用いたプラズマ処理装置と処理方法、並びにマイクロ波導波経路の切替え機とマイクロ波処理装置
- 出願人: キヤノン株式会社
処理室の使用状況 に関わる言及
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上述の基板処理工程は、例えば、基板を処理する 処理室 を備えた基板処理装置により実施される。近年、半導体装置に形成する配線の微細化や、半導体装置自体の寸法縮小とともに、基板処理装置には特に厳しい清浄度が求められるようになってきている。
- 公開日: 2013/05/23
- 出典: 基板処理装置、基板処理方法及び半導体装置の製造方法
- 出願人: 株式会社日立国際電気
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非密閉状の加熱 処理室 を使用しつつも、加熱処理室内の加熱処理雰囲気を維持することができ、かつコンパクト化及び低価格化の要請に対応し得る連続式加熱処理装置を提供する。
- 公開日: 2014/01/23
- 出典: 連続式加熱処理装置
- 出願人: 株式会社タイヨー製作所
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即ち、 処理室 よりも高位に配されたホッパから廃棄物が供給される場合、廃棄物は自重だけで処理室に導入されることとなるが、このとき廃棄物が処理室の入口近傍に留まっても押込ドアが廃棄物を処理室内に押し込むために、常に充填率良く廃棄物を処理室に導入することができる。
- 公開日: 1996/12/03
- 出典: 廃棄物充填機
- 出願人: 油研工業株式会社
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処理室 割当の決定には、生産性や処理されるウェハ種類と処理室との相性などを評価して行われる。特に、線形ツールは、搬送室が複数あり、ウェハの搬送経路や搬送順序が複雑であるため、処理室割当が変わることで、搬送経路や搬送順序が変わり、生産性が大きく変化し得る。よって、線形ツールにおける処理室割当の決定には、生産性の評価を重視して行う必要がある。
- 公開日: 2013/10/24
- 出典: 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム
- 出願人: 株式会社日立ハイテクサイエンス
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気相成長(金属層を除く)
- 成長法
- 成長層の組成
- 導入ガス
- 成長条件(1)成膜温度T 請求項+実施例に記載されている成膜温度を全て付与する(除く従来例)
- 成長条件(2)成膜時の圧力P 請求項+実施例に記載されている成膜時の圧力を全て付与する(除く従来例)
- 被成膜面の組成・基板の特徴・ダミー基板・マスク
- 目的
- 半導体素子等への用途
- 機能的用途
- 半導体成長層の構造
- 半導体層の選択成長
- 絶縁体成長層の構造・絶縁体層の選択成長
- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 装置の形式(2)成膜室の形態 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
- 成膜一般
- 成膜室・配管構造・配管方法
- ガス供給・圧力制御
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- 排気・排気制御・廃ガス処理
- プラズマ処理・プラズマ制御
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- 搬出入口・蓋・搬送・搬出入
- 測定・測定結果に基づく制御・制御一般
- 機械加工プロセスとの組み合わせ
- 他プロセスとの組合せ
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エッチングと化学研磨(つや出し)
- ドライエッチングの目的
- ドライエッチングの対象材料
- ドライエッチングの前処理
- ドライエッチング方式
- ドライエッチングガス
- ドライエッチング条件制御
- ドライエッチングの終点検知
- ドライエッチングの後処理
- ドライエッチング装置
- ドライエッチングの用途
- ウエットエッチングの目的
- ウエットエッチングの対象材料
- ウエットエッチングの前処理
- ウエットエッチング方式
- ウエットエッチング液(主成分)
- ウエットエッチング液(添加剤)
- ウエットエッチング条件制御
- ウエットエッチング液の再生
- ウエットエッチングの終点検知
- ウエットエッチングの後処理
- ウエットエッチング液の管理
- ウエットエッチング装置
- ウエットエッチングの用途