光源位置 の意味・用法を知る

制御装置４は、照射点の形成が必要な監視空間内の複数の照射要求位置を少なくとも記憶する記憶部４１と、複数の照射要求位置からの距離の和が最小となる位置を、当該複数の照射要求位置へ照射を行う際の推奨 光源位置 に定める推奨光源位置算出部４２３と、推奨光源位置を出力する表示通信部４３とを備える。

• 公開日：2014/06/19
• 出典：カメラシステム
• 出願人：セコム株式会社

光源環境の異なる被写体が撮像された複数の映像から光学的整合性のある映像を合成する映像合成装置が、 光源位置 が含まれる光源情報が予め対応付けられた被写体を含む既知映像を記憶し、入力された入力映像に含まれる複数の被写体領域を選択し、選択した被写体領域に含まれる被写体が、球面であるか否かを判定し、被写体が球面であると判定した複数の被写体領域毎に、被写体領域における被写体に対する光源位置を算出し、既知映像を、算出した光源位置に基づいて補正し、光源位置を補正した既知映像を、入力映像に合成する。

• 公開日：2013/01/10
• 出典：映像合成装置、映像合成方法、および映像合成プログラム
• 出願人：東日本電信電話株式会社

簡易な手法により、照明空間における 光源位置 を推定することが可能な光源位置推定装置を提供する。

• 公開日：2008/05/08
• 出典：光源位置推定装置
• 出願人：日本放送協会

制御部１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ(Random Access Memory)、ＲＯＭ（Read Only Memory）等を備えたコンピュータであって、例えば、 光源位置 抽出手段１０、自他光判定手段１１及び前照灯制御手段１２のそれぞれに対応するプログラムをＲＯＭに記憶しながら、各手段に対応する処理をＣＰＵに実行させる。

• 公開日：2008/09/04
• 出典：前照灯制御装置
• 出願人：トヨタ自動車株式会社

光源位置 を取得する光源位置取得部６２と、視点位置及び視線方向を取得する視点位置及び視線方向取得部６４と、視点位置に基づいてオブジェクトの表面に生じるハイライトの位置を算出するハイライト位置算出部６６と、光源位置と視線方向とに基づいてハイライトの強度を算出するハイライト強度算出部６８と、ハイライト位置算出部６６により算出される位置と、ハイライト強度算出部６８により算出される強度に対応する半透明合成率と、に基づいて、オブジェクトを表す画像にハイライトを表す画像を半透明合成する半透明合成部７０と、を含む。

• 公開日：2004/07/08
• 出典：画像処理装置、コンピュータの制御方法及びプログラム
• 出願人：コナミ株式会社

パネル１と、該パネル１の内側にカーボンと、該カーボンを挟んで各々形成された第１蛍光体、第２蛍光体及び第３蛍光体と、上記パネルの内側に開口部を有する、マスクとしての色選別機構２とを有するカラー陰極線管の設計方法において、第１ 光源位置 Ｇに光源を配置された光源からの光が、上記色選別機構２の隣接した第１開口部と第２開口部のそれぞれの所定の位置を通り、パネル外面１ａで反射し、パネル内面１ｂとの交点Ａ，Ｂを求め、第２光源位置Ｒまたは第３光源位置Ｂに光源を配置した光が、上記第１開口部又は第２開口部の所定の位置を通り、パネル外面１ａで反射し、パネル内面１ｂとの交点のうち、ＡとＢとの間に位置する点Ｃを求め、距離...

• 公開日：1994/03/11
• 出典：カラー陰極線管及びその設計方法
• 出願人：ソニー株式会社

被計測物載置部の周辺に 光源位置 推定用冶具が置かれたままであっても被計測物の３次元形状を正確に計測できるようにする。

• 公開日：2017/01/12
• 出典：３次元形状計測装置、３次元形状計測方法および３次元形状計測プログラム
• 出願人：株式会社リコー

また、非特許文献２の 光源位置 推定の手法にあっては、撮影するシーンに存在する物体の反射特性が既知であるという制約があり、画像中の物体の反射特性をすべて既知にすることは現実的でないという問題もある。

• 公開日：2016/07/11
• 出典：光源方向推定装置、光源方向推定方法及び光源方向推定プログラム
• 出願人：東日本電信電話株式会社

本発明の実施形態に係る撮像装置の一例としてのデジタルカメラの機能構成例を示すブロック図 実施形態１に係る画像処理部１０５の構成を示すブロック図 実施形態１に係る光線付加処理の一連の動作を示すフローチャート 実施形態１に係る（ａ）推定した 光源位置 と検出した高輝度領域を示す図、（ｂ）高輝度領域間が光線を付加する対象であるか判定する処理を説明する図、（ｃ）光線を付加する領域を説明する図 実施形態２および実施形態３に係る画像処理部５０１の構成を示すブロック図 実施形態２に係る光線付加処理の一連の動作を示すフローチャート 実施形態３における光線付加処理の一連の動作を示すフローチャート

• 公開日：2016/05/23
• 出典：画像処理装置およびその制御方法、プログラムならびに記録媒体
• 出願人：キヤノン株式会社

（ 光源位置 に由来する照度分布について） なお、ウエハＷのように円形の基板をある角速度で回転させる場合、ウエハＷの内側（中央付近）と外側（端部付近）では、光源４２に対する移動速度が異なると共に、光源４２との位置関係が大きく異なる。

• 公開日：2021/03/11
• 出典：基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
• 出願人：東京エレクトロン株式会社