フォトマスク の意味・用法を知る

また、窪み部を有する フォトマスク を支持する場合、支持部材が窪み部以外の位置を支持点として支持し、支持姿勢を変える場合、その姿勢に応じて別の支持部材を、同一の支持点で支持しかつ支持に供されない支持部材と窪み部とが対向するように設けておけば、支持姿勢が変化しても常にフォトマスクを同一点で支持できる。この場合、支持に供されない支持部材と窪み部とが対向するから、フォトマスクの支持面が支持に供されない支持部材に接触することはない。

• 公開日： 1999/01/29
• 出典： フォトマスク、フォトマスク支持装置及びフォトマスク支持方法
• 出願人： 株式会社ニコン

フォトマスク の欠陥修正工程において微小な欠陥の位置を特定し、適切に修正することが可能となるフォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの欠陥修正システム及びフォトマスクの欠陥修正プログラムを提供することができる。

• 公開日： 2010/04/15
• 出典： フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの欠陥修正システム及びフォトマスクの欠陥修正プログラム
• 出願人： 株式会社東芝

また、二つの偏光変調領域は、直線偏光を入射したときの出力光が互いに干渉しない偏光となる フォトマスク である。また二つの偏光変調領域は、円偏光を入射したときの出力光が互いに干渉しない偏光となるフォトマスクである。

• 公開日： 2006/10/26
• 出典： フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置
• 出願人： 株式会社液晶先端技術開発センター

以上述べた工程の管理方法は、 フォトマスク の製造方法に適用することができる。すなわち、上記フォトマスクの製造方法は、上記実施形態のいずれかの工程の管理方法により、フォトマスクの製造工程を管理し、この管理した製造工程を行うというものである。上記フォトマスクの製造工程は、パターン描画工程、レジストの現像工程および加工工程の少なくとも一つである。

• 公開日： 2005/04/14
• 出典： プロセス近接効果の予測モデルの作成方法
• 出願人： 株式会社東芝

また、電子線露光用マスクは、 フォトマスク のようにペリクルを用いることができない。そのため、電子線露光用マスクの汚れや異物の付着によって寿命が短くなる可能性があり、電子線露光用マスクを頻繁に洗浄する必要がある。したがって、電子線露光用マスクを洗浄する場合にも、電子線露光用マスクの交換が必要となり、露光時間が余計にかかることになる。

• 公開日： 2002/12/20
• 出典： 電子線露光用マスク、それを用いた電子線露光方法および半導体装置の製造方法
• 出願人： ソニー株式会社

高い耐ブラスト性を有すると共に、硬化前の感光性樹脂組成物の粘着性が低く、 フォトマスク の汚染及びエッジフュージョンが少ない、サンドブラスト用感光性樹脂組成物を提供することである。

• 公開日： 2013/08/15
• 出典： サンドブラスト処理
• 出願人： 三菱製紙株式会社

この場合、上記把持部は上記粘着剤層と同材質によりこの粘着剤と一体に形成することが好ましい。また粘着剤層の材質としては、シリコーン粘着剤を用いることが好ましい。シリコーン粘着剤は、一般的な粘着剤であるアクリル系粘着剤やゴム系粘着剤に比べて、引き伸ばしても切断しにくく、更に フォトマスク から粘着剤を剥離した後にフォトマスクに粘着剤の残留物が残りにくいという特徴がある。

• 公開日： 1997/02/25
• 出典： ペリクルのフォトマスクへの貼着構造
• 出願人： 信越化学工業株式会社

このような二重マスク使用及び二重露光は、収率減少を必然的に伴い、１次露光及び２次露光の間の遅延による影響そして第１の フォトマスク 及び第２のフォトマスクの間の重畳と関連した問題などを有する。

• 公開日： 2006/04/27
• 出典： 回路パターンの露光のための装置及び方法、使用されるフォトマスク及びその設計方法、そして照明系及びその具現方法
• 出願人： 三星電子株式會社

近接場光の強度分布を任意の強度分布に制御することが可能となる近接場光露光用 フォトマスク 、該フォトマスクを用いた近接場光強度分布の制御方法、パターン作製方法およびパターン作製装置を提供する。

• 公開日： 2004/11/25
• 出典： 近接場光露光用フォトマスク、該フォトマスクを用いた近接場光強度分布の制御方法、パターン作製方法
• 出願人： キヤノン株式会社

反射型 フォトマスク のパターン検査の精度が向上するとともに、検査に要する時間を短縮することのできる反射型フォトマスクブランクス、反射型フォトマスク、反射型フォトマスクの検査装置及びその検査方法を提供する。

• 公開日： 2010/08/19
• 出典： 反射型フォトマスクブランクス、反射型フォトマスク、反射型フォトマスクの検査装置及びその検査方法
• 出願人： 凸版印刷株式会社

微細なパターンを含む フォトマスク のパターン形状の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供する。

• 公開日： 2001/04/13
• 出典： マスクパターン形状計測評価装置
• 出願人： 凸版印刷株式会社

階調をもつ フォトマスク の半透明膜の欠陥修正方法において、欠陥部の大きさや形状に関わらず高精度、高品質の修正膜を形成することが可能である階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法および修正された階調をもつフォトマスクを提供する。

• 公開日： 2007/10/04
• 出典： 階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法
• 出願人： 大日本印刷株式会社

ＬＣＤなどの製造に使用される階調をもつ フォトマスク の半透明領域の欠陥部修正方法において、多大な時間を要せず簡単な方法で修正箇所の最適な修正用パターン形状を決め、その最適な修正用パターン形状に基づいて欠陥部を修正する欠陥部修正方法および修正後の修正部の評価方法を提供する。

• 公開日： 2008/02/14
• 出典： 階調をもつフォトマスクの欠陥部修正方法および修正箇所の評価方法
• 出願人： 大日本印刷株式会社

評価精度が高く、かつ丸め誤差が少ない露光装置評価用 フォトマスク の製造方法、露光装置評価用フォトマスク、およびこの露光装置評価用フォトマスクを用いた収差評価方法を提供する。

• 公開日： 2005/01/06
• 出典： 露光装置評価用フォトマスクの製造方法、露光装置評価用フォトマスクおよび収差評価方法
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社

製造装置の種類に関する要因については、製造装置によって フォトマスク の品質が異なるため、高品質のマスクを製造できる装置を有するマスクメーカほど、高い点数が算定される。

• 公開日： 2002/10/03
• 出典： フォトマスクの製造者を選定する選定装置、フォトマスクの製造者を選定する選定方法、およびフォトマスクの製造者を選定するためのプログラム
• 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社

以上説明したようなレーザ装置ＬＳは、小型軽量であるとともに取り扱いが容易であり、露光装置や光造形装置等の光加工装置、 フォトマスク やウェハ等の検査装置、顕微鏡や望遠鏡等の観察装置、測長器や形状測定器等の測定装置、光治療装置などのシステムに好適に適用することができる。

• 公開日： 2013/03/04
• 出典： レーザ装置、疑似位相整合型の波長変換光学素子のフォトリフラクティブ効果抑制方法、露光装置及び検査装置
• 出願人： 株式会社ニコン

装置の設置面積の増大を抑えつつ、大型の フォトマスク の性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができ、また、大型のフォトマスクに対する安全性やハンドリング性が確保されたフォトマスクの検査装置を提供する。

• 公開日： 2008/07/17
• 出典： フォトマスクの検査装置、フォトマスクの検査方法、液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
• 出願人： ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社