光学像 の意味・用法を知る
光学像 とは、スタジオ装置 やスタジオ装置 などの分野において活用されるキーワードであり、セイコーエプソン株式会社 やキヤノン株式会社 などが関連する技術を40,506件開発しています。
このページでは、 光学像 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
光学像の意味・用法
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右 光学像 表示部のみにマーカー画像が表示された状態での空間的な位置関係を示す概略図である。
- 公開日:2017/06/08
- 出典:頭部装着型表示装置およびコンピュータープログラム
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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この形態の表示装置によれば、左右方向へ表示部を移動することが可能となり、横目づかいで表示されている側の 光学像 表示部を見ることができる。
- 公開日:2016/12/15
- 出典:表示装置およびその制御方法、並びにコンピュータープログラム
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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右 光学像 表示部26の一端と左光学像表示部28の一端とは、使用者が画像表示部20を装着した際の使用者の眉間に対応する位置で、互いに接続されている。
- 公開日:2016/04/11
- 出典:表示装置およびその制御方法、並びにコンピュータープログラム
- 出願人:セイコーエプソン株式会社
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光学部材(17)は被写体の 光学像 を透過する。
- 公開日:2017/03/16
- 出典:レンズユニット、撮像装置、および車載カメラ
- 出願人:京セラ株式会社
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光学像 が結像される位置が移動した場合でも、指示体が光学像に対してタッチ操作を行ったか否かを適切に判断することが可能な画像表示装置を提供する。
- 公開日:2016/01/14
- 出典:画像表示装置
- 出願人:船井電機株式会社
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それぞれの照射可能領域AL,ARを複数の要素に分解して任意の要素を変更することによって任意の 光学像 を形成する、少なくとも一対の二次元画像形成装置10L,10Rを有し、少なくとも1つの二次元画像形成装置10Lの照射可能領域ALは、他の二次元画像形成装置10Rの照射可能領域ARとは異なる、車両用灯具システム1が提供される。
- 公開日:2017/03/02
- 出典:車両用灯具システム
- 出願人:株式会社小糸製作所
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ユーザの身長(目の位置)に関わらず、ユーザに 光学像 全体を良好に視認させることが可能な画像表示装置を提供する。
- 公開日:2016/01/14
- 出典:画像表示装置
- 出願人:船井電機株式会社
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試料台の輪郭(S)が例えば円形に構成されている場合、 光学像 (61)上での試料台像(62)の中心位置を、光学像(61)上での試料台像(62)の輪郭(S)についての複雑で手間がかかる自動画像解析による直接認識によらずに、ユーザーにより光学像(61)上で作成された輪郭(S)に外接する三角形(68)の各頂点(67)の座標から、この三角形(68)の内心を演算することにより、迅速かつ容易に、かつ高精度で取得する。
- 公開日:2017/12/28
- 出典:荷電粒子線装置、荷電粒子線装置のアライメント方法、アライメントプログラム、及び記憶媒体
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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撮像部105は、例えばCCDやCMOSセンサー等の撮像素子であり、光学系104により撮像部105の撮像面上に結像された 光学像 を光電変換し、得られたアナログ画像信号をA/D変換部106に出力する。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:画像処理装置及び画像処理方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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投影光学系51は、基板53に対して、マスク(不図示)のパターンの 光学像 (パターン像)を投影(露光)する光学系である。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置
- 出願人:キヤノン株式会社
光学像の原理 に関わる言及
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ところで一般に、 光学像 の光軸と、装置や素子などを回転する回転軸を常時一致させることは極めて困難であり、装置や素子などを回転する回転軸は光学像の光軸の周りに変動を生じる。
- 公開日: 2003/03/12
- 出典: 光学的像回転装置
- 出願人: 独立行政法人情報通信研究機構
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そして、このような位置検出器としては、位置検出精度が高いパルスエンコーダ等の相対位置検出器が広く用いられている。ただし、相対位置検出器による位置検出を行う場合には、位置検出の基準となる原点位置を精度良く決める必要がある。 光学像 振れ補正においては、原点位置として、撮像光学系の光軸上を進む光線を屈折させずに直進させる光学原点位置に一致する位置が選択される。
- 公開日: 2010/01/14
- 出典: 光学機器
- 出願人: キヤノン株式会社
光学像の特徴 に関わる言及
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
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- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
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- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
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- X線露光
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- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
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- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
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