光学ヘッド の意味・用法を知る

データ記録部２６０に記録されたＳ字信号の値および 光学ヘッド 部の位置と、光学ヘッド部がフォーカス位置にあるときのＳ字信号の値である合焦判断値と、に基づき、補間処理によってフォーカス位置を算出する。

• 公開日：2017/08/03
• 出典：オートフォーカス装置
• 出願人：株式会社ミツトヨ

前記切替部は、前記測定光のみが前記 光学ヘッド に入射する第１の動作と、少なくとも前記可視光が前記光学ヘッドに入射する第２の動作とを選択的に切替える。

• 公開日：2017/08/10
• 出典：クロマティック共焦点センサ
• 出願人：株式会社ミツトヨ

被検眼を撮影するための 光学ヘッド の撮影位置を被検眼に対して可変可能な眼科撮影装置を用いて被検眼の経過観察を行う場合に、適正な評価を行えるようにする。

• 公開日：2017/05/18
• 出典：眼科撮影装置及びその制御方法、並びに、プログラム
• 出願人：キヤノン株式会社

光学ヘッド からノズルを通過して噴出する超純水のウォータジェットの内部に導入、案内されたレーザ光とテーブルに固定されたワークとを相対移動させ、ワークを加工するレーザ加工機のウォータジェットの傾き測定方法において、前記ウォータジェットの内部を通るレーザ光が反射して軸線方向へ進むことが可能な安定長を、前記ノズルの直径および前記ノズルに供給される超純水の圧力から求め、前記光学ヘッドを鉛直の第１の送り軸に沿って第１の高さ位置に配置し、前記光学ヘッドからウォータジェットを略鉛直下方向へ噴出し、前記ウォータジェットの中心位置を水平な平面内で測定し、前記光学ヘッドを前記第１の送り軸に沿って前記求めた安定長の範...

• 登録日：2019/10/18
• 出典：レーザ加工機のウォータジェットの傾き測定方法
• 出願人：株式会社牧野フライス製作所

被加工物を保持するように構成されているマウントと、前記被加工物上にそれぞれの放射のパターンを投影するように構成されている複数の 光学ヘッド を有する光学ヘッドアレイと、前記それぞれのパターンのイメージを取得するように構成されているキャリブレーションアセンブリと、前記キャリブレーションアセンブリが載置され、前記光学ヘッドアレイと前記マウントとの間における複数の異なる位置に前記マウントの位置とは無関係に前記キャリブレーションアセンブリを搬送することによって、前記キャリブレーションアセンブリが前記複数の光学ヘッドのそれぞれによって前記複数の異なる位置のそれぞれの位置において投影されるそれぞれの前記パター...

• 登録日：2019/08/30
• 出典：ダイレクトイメージングシステムのキャリブレーション
• 出願人：オーボテック、リミテッド

移動部１０２は、基台１０３に対して 光学ヘッド １０１を移動させ、光学ヘッド部１０１をＸＹＺ方向に位置合わせ出来る機構が備わっている。

• 公開日：2017/02/09
• 出典：眼科装置
• 出願人：キヤノン株式会社

そして、測定対象物１００で反射したレーザ光の反射光は、液中を進んで、液中測定補助装置２のガラス板２４を透過し、液中測定補助装置２のパイプ２１の内部の空間を通って 光学ヘッド １２に入射する。

• 公開日：2017/04/06
• 出典：液中レーザ計測用補助装置、レーザ計測システム及び液中測定対象物の測定方法
• 出願人：株式会社小野測器

白色光源１２から照射した光をビームスプリッタ１６により参照ミラー２０への参照光と測定対象面（Ｗ）への測定光に分割して、それぞれから反射してきた光の光路差により発生させた干渉縞画像を取得する白色光干渉計 光学ヘッド １０を用い、該白色光干渉計光学ヘッド１０を測定対象面（Ｗ）に対して垂直方向に走査しながら干渉縞画像を取得するようにした非接触表面形状測定方法において、前記白色光干渉計光学ヘッド１０を走査方向に移動しつつ、その走査方向位置を検出し、該走査方向の所定位置間隔毎に前記干渉縞画像を取得する。

• 公開日：2016/05/23
• 出典：白色光干渉計光学ヘッドを用いた非接触表面形状測定方法及び装置
• 出願人：株式会社ミツトヨ

光学ヘッド からの照射光サイズにかかわらず、高精度な描画位置の校正を可能にするパターン描画装置を提供する。

• 公開日：2017/01/05
• 出典：パターン描画装置及びパターン描画方法
• 出願人：株式会社アドテックエンジニアリング

ポリッシング装置は、研磨パッド２２を保持するための研磨テーブル２０と、基板Ｗの表面を研磨パッド２２に対して押圧するトップリング２４と、光を発する少なくとも１つの光源１６と、光源１６からの光を基板Ｗの表面に照射し、基板Ｗからの反射光を受光する第一の 光学ヘッド １３Ａと、光源１６からの光を基板Ｗの表面に照射し、基板Ｗからの反射光を受光する第二の光学ヘッド１３Ｂと、第一の光学ヘッド１３Ａおよび第二の光学ヘッド１３Ｂに接続された分光器１４とを備える。

• 公開日：2017/12/14
• 出典：ポリッシング装置
• 出願人：株式会社荏原製作所