位相差 の意味・用法を知る

光学薄膜の特性とは、指定された光の入射角および波長におけるｐ偏光成分の反射率、ｓ偏光成分の反射率、ｐ偏光成分の透過率、ｓ偏光成分の透過率、ｐ偏光反射率とｓ偏光反射率の 位相差 、ｐ偏光透過率とｓ偏光透過率の位相差である。

• 公開日： 2000/08/15
• 出典： 光学薄膜用最適化装置、その最適化方法および記憶媒体
• 出願人： キヤノン株式会社

ヘテロダイン干渉計用の 位相差 測定装置は、ヘテロダイン干渉計から出力された参照干渉光と測定干渉光との位相差を測定するものである。以下において従来の装置について説明する。

• 公開日： 1995/01/17
• 出典： ヘテロダイン干渉計用位相差測定装置
• 出願人： 株式会社ニコン

さらに、両耳間の信号差も方向知覚の手がかりとして重要である。音源から両耳までの経路差に起因する、入射音の両耳間時間差、両耳間 位相差 、両耳間レベル差が代表的な手がかりとして知られている。

• 公開日： 2010/09/30
• 出典： 音源方向知覚が可能な両耳信号を生成する低遅延信号処理装置
• 出願人： 公立大学法人秋田県立大学

ディスプレイの場合、ディスプレイの観察者側の面に直線偏光板を置き、該直線偏光板に対して、該直線偏光板の直線偏光面と 位相差 板の位相差面とを角度を持たせて位相差板を置くことにより、映像光を円偏光に変換することができる。位相差板を置く角度により左円偏光と右円偏光の映像光が形成される。

• 公開日： 2013/10/03
• 出典： 位相差フィルム作成用版及び位相差フィルム作成用版の製造方法
• 出願人： 大日本印刷株式会社

このように構成することにより、筒状筐体に対する基端側回転体の回転抵抗及び筒状筐体に対する先端側回転体の回転抵抗をともに極めて小さなレベルにまで低減することが可能となり、回転負荷が変化するのに応じて基端側回転体と先端側回転体との間の回転 位相差 が変化し易くなる。このため、回転負荷をさらに高精度で測定することが可能となる。

• 公開日： 2009/12/17
• 出典： スピンドルモータ及び穿孔加工装置
• 出願人： 株式会社ダイヤ精機製作所

Ｐ偏光成分がＳ偏光成分よりも大きな光を入射する場合、Ｐ偏光成分の振幅反射率が小さくても、反射光は従来法ほど扁平な楕円偏光とはならないためＳ偏光成分とＰ偏光成分の 位相差 の決定が容易になる。

• 公開日： 1998/05/29
• 出典： 偏光解析方法および偏光解析装置
• 出願人： 日本電気株式会社

偏光子保護フィルムにおいては、一般的に不要な 位相差 をもつフィルムは好ましくないとされている。これは、たとえ偏光子フィルムが高精度の直線偏光機能を有するものであっても、偏光子保護フィルムの位相差や光軸のズレは、偏光子フィルムを通過した直線偏光に楕円偏光性を与えてしまうからである。

• 公開日： 2006/12/14
• 出典： 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
• 出願人： 株式会社カネカ

円筒同軸上で、二つの放射巻線を直列化した二重放射巻線と同軸巻線を直交させ、両巻線間と二つの放射巻線間に発生する 位相差 により移相変圧器を得、移相変圧器を固定脚、同軸変圧器を可動脚として、可変移相変圧器を得る。

• 公開日： 1999/01/12
• 出典： 同軸変圧器、同軸変圧器群、多軸同軸変圧器、同軸直交変圧器、移相同軸直交変圧器、移相調整同軸直交変圧器、多相移相調整同軸直交変圧器、同軸直交変圧器群、移相同軸直交変圧器群、相変成同軸直交変圧器、三相単相同軸直交変圧器、多相単相同軸直交変圧器群、可変電圧調整同軸変圧器、可変移相同軸直交変圧器、全変成同軸直交変圧器、消磁装置付変圧器、冷却マニホルド付変圧器、リアクトル
• 出願人： ミッツエレクトリック株式会社

また、前述したとおり、 位相差 は屈折率差と厚みとの積であるため、フィルムの厚い部分の屈折率差が小さくなり、薄い部分の屈折率差が大きくなると、全体としてのフィルムの厚みのばらつきが屈折率差の差により相殺され、全体として均一な位相差を有する位相差フィルムを得ることができる。

• 公開日： 1999/12/10
• 出典： 位相差板の製造方法及び位相差板製造装置
• 出願人： 積水化学工業株式会社

管内で超音波の送受信を行って、流れの方向の受信波と流れとは逆の方向の受信波との 位相差 から、管内流体の流速を測定するに際し、この位相差を容易に求め、かつ流れの向きも同時に測定する。

• 公開日： 1995/07/04
• 出典： 超音波流速計を用いた管内流速の測定方法
• 出願人： 株式会社クボタ

考えうる 位相差 測定の利点は、金属層の厚さに関する位相差の相関関係が振幅のそれよりももっと線形になりうることである。また、その上、金属層の絶対厚さが考えられる広範囲の厚さにわたり測定しうる。

• 公開日： 2013/03/28
• 出典： 化学機械研磨のための現場終点検出及びプロセス監視の方法並びに装置
• 出願人： アプライドマテリアルズ，インコーポレイティド