上層 の意味・用法を知る
上層 とは、積層体(2) や半導体集積回路装置の内部配線 などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 や富士フイルム株式会社 などが関連する技術を143,108件開発しています。
このページでは、 上層 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
上層の意味・用法
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積層状態で堆積される複数の枚葉紙のうち 上層 の枚葉紙をその下の枚葉紙から確実に分離させて持ち上げることができ、しかもコンパクトな構成でコストを低減することができる枚葉紙持ち上げ装置を提供する。
- 公開日:2017/12/14
- 出典:枚葉紙持ち上げ装置および枚葉紙持ち上げ方法
- 出願人:大日本印刷株式会社
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積層状態で堆積される複数の枚葉紙のうち最 上層 の枚葉紙を上から2番目以降の枚葉紙から分離させることができ、しかも持ち上げられた枚葉紙の水平方向における位置がずれてしまうことを防止することができる枚葉紙持ち上げ装置を提供する。
- 公開日:2017/12/14
- 出典:枚葉紙持ち上げ装置および枚葉紙持ち上げ方法
- 出願人:大日本印刷株式会社
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枚葉紙受け部に積層状態で堆積される複数の枚葉紙のうち 上層 の枚葉紙をその下の枚葉紙から分離させることができ、しかも枚葉紙が堆積される枚葉紙受け部の側方に気体供給部や気体の通路等を配置するスペースが不要となる枚葉紙持ち上げ装置を提供する。
- 公開日:2017/12/07
- 出典:枚葉紙持ち上げ装置および枚葉紙持ち上げ方法
- 出願人:大日本印刷株式会社
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マイクロレンズ 上層 は、マイクロレンズ下層の屈折率と同じもしくはマイクロレンズ下層の屈折率よりも高い屈折率を有することが好ましい。
- 公開日:2018/03/15
- 出典:イメージセンサおよびその製造方法
- 出願人:凸版印刷株式会社
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本発明は、太陽電池および太陽電池の製造方法に関し、銀の使用量を無くし、ないし低減および鉛の使用量を低減ないし無くすと共に下層ファイアリングに加えて 上層 ファイアリングを行うことで電子引出効率を高くして太陽電池の効率を向上させることを目的とする。
- 公開日:2018/01/18
- 出典:太陽電池および太陽電池の製造方法
- 出願人:アートビーム株式会社
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その上で,特許文献1の衛生用紙束は,最 上層 のプライによってその直下に位置するプライを挟み込んだ後,更にもう一度折り返されて,この直下に位置するプライの上面側に折り畳み部を形成している。
- 公開日:2018/03/08
- 出典:衛生用紙束入りカートン
- 出願人:王子マテリア株式会社
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情報隠蔽層は、隠蔽情報記載領域上に形成され、該隠蔽情報記載領域の隠蔽情報を視認不能とするUV硬化型樹脂製の隠蔽下層と、所定パターンに従って該隠蔽下層上に形成されたUV硬化型樹脂製のパターン 上層 とから構成された凹凸状をなし、第一被覆部が、パターン上層と、隠蔽下層の、該パターン上層が積層された部位とにより構成されると共に、第二被覆部が、隠蔽下層の、パターン上層が積層されていない部位により構成され、第一被覆部に比して低いテープ剥離による紙面との剥離性を有するものであることを特徴とする請求項1に記載の偽造防止帳票。
- 公開日:2017/04/27
- 出典:偽造防止帳票
- 出願人:小林クリエイト株式会社
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基層(74)と、少なくとも1つの最 上層 (72,92,46)と、接続部材(76)と、を備えたコンポーネント接続(70)であって、前記接続部材は、ヘッド(12)と、軸(16)と、を備え、前記接続部材がその前面を介して前記基層(48,74)と密着接続し、前記最上層(72,92,46)からの材料が、前記最上層(72,92,46)より上のレベルで、少なくとも部分的に前記ヘッド(12)を横方向に囲むことを特徴とするコンポーネント接続。
- 公開日:2018/02/15
- 出典:摩擦溶接接続を形成するための接続部材
- 出願人:エジョットゲーエムベーハーウントコンパニーカーゲー
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また、 上層 と下層において充分な付着性を有する。
- 公開日:2017/10/05
- 出典:舗装コンクリートの施工方法および舗装コンクリート
- 出願人:太平洋マテリアル株式会社
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基板上に、多層反射膜と、EUV光の位相をシフトさせる位相シフト膜とがこの順に形成された反射型マスクブランクであって、前記位相シフト膜は、最 上層 と、最上層以外の下層とを有し、n2<n1<1、かつλ/4×(2m+1)−α≦n1d1≦λ/4×(2m+1)+αの関係を満たすことを特徴とする反射型マスクブランク。(ただし、n1は、前記最上層の露光波長λ=13.5nmにおける屈折率、n2は、前記下層の露光波長λ=13.5nmにおける屈折率、d1は、前記最上層の膜厚(nm)、mは、ゼロ以上の整数、及びα=1.5nm)
- 公開日:2017/10/05
- 出典:反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
- 出願人:HOYATechnosurgical株式会社
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積層体(2)
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- 処理、手段
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- 用途
- 模様、装飾
- 基本的物性
- 化学的性質、機能
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- 物理的性質・機能
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- 機械的性質・機能
- その他の性質・機能
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