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富士フイルム株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジストの材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) 新規な含窒素化合物またはその塩の製造方法およびそれらの製造中間体 技術一覧を見る
コニカミノルタ株式会社 銀塩写真法またはそのための処理液銀塩写真感光材料非銀塩感光材料および非銀塩写真法 位相差フィルム、偏光板および垂直配向型液晶表示装置 技術一覧を見る
富士フイルムホールディングス株式会社 銀塩写真感光材料銀塩写真法またはそのための処理液ホトレジストの材料 画像形成方法 技術一覧を見る
DIC株式会社 液晶物質液晶材料有機低分子化合物及びその製造 ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 技術一覧を見る
三井化学株式会社 有機低分子化合物及びその製造高分子組成物付加系(共)重合体、後処理、化学変成 複合金属化合物および光触媒電極 技術一覧を見る
花王株式会社 洗浄性組成物化粧料有機低分子化合物及びその製造 機械洗浄前洗い用食器洗浄剤組成物 技術一覧を見る
三菱化学株式会社 有機低分子化合物及びその製造染料電子写真における感光体 顔料分散液 技術一覧を見る
住友化学株式会社 有機低分子化合物及びその製造触媒を使用する低分子有機合成反応触媒 非水電解液二次電池用セパレータ 技術一覧を見る
株式会社リコー 電子写真における感光体インキ、鉛筆の芯、クレヨンインクジェット(インク供給、その他) 記録物、及び記録物製造用のインク 技術一覧を見る
日立化成株式会社 高分子組成物エポキシ樹脂フォトリソグラフィー用材料 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 技術一覧を見る
信越化学工業株式会社 高分子組成物第4族元素を含む化合物及びその製造けい素重合体 テトラカルボン酸ジエステル化合物、ポリイミド前駆体の重合体及びその製造方法、ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び硬化被膜形成方法 技術一覧を見る
キヤノン株式会社 インキ、鉛筆の芯、クレヨンインクジェット(インク供給、その他)インクジェット記録方法及びその記録媒体 混合物、トナーおよび分散体 技術一覧を見る
出光興産株式会社 エレクトロルミネッセンス光源発光性組成物有機低分子化合物及びその製造 潤滑油組成物、内燃機関の摩擦低減方法及び潤滑油組成物の製造方法 技術一覧を見る
住友ベークライト株式会社 エポキシ樹脂高分子組成物半導体又は固体装置の封緘,被覆構造と材料 感光性樹脂組成物、硬化膜、保護膜、絶縁膜および電子装置 技術一覧を見る
東洋インキSCホールディングス株式会社 染料エレクトロルミネッセンス光源発光性組成物 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ 技術一覧を見る
株式会社ADEKA 高分子組成物潤滑剤有機低分子化合物及びその製造 樹脂組成物及び硬化物 技術一覧を見る
JSR株式会社 フォトリソグラフィー用材料半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)ホトレジストの材料 ケイ素含有膜除去方法 技術一覧を見る
富士ゼロックス株式会社 電子写真における感光体エレクトロルミネッセンス光源発光性組成物 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 技術一覧を見る
東レ株式会社 フォトリソグラフィー用材料ホトレジストの材料高分子組成物 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子及び表示装置、並びにその製造方法 技術一覧を見る
株式会社カネカ 高分子組成物付加系(共)重合体、後処理、化学変成含窒素連結基の形式による高分子化合物一般 水酸基変性ポリプロピレン系樹脂 技術一覧を見る
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