レーザー照射 の意味・用法を知る
レーザー照射 とは、レーザ加工 や薄膜トランジスタ などの分野において活用されるキーワードであり、セイコーエプソン株式会社 や京セラドキュメントソリューションズ株式会社 などが関連する技術を1,302件開発しています。
このページでは、 レーザー照射 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
レーザー照射の意味・用法
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表面側に形成されることとなる加工面が、所定の第１方向と該第１方向に交差する第２方向とからなる面に沿って配置される加工対象物に対し、前記第１方向を光軸としてレーザーを照射させる レーザー照射 部を、前記第１方向および前記第２方向それぞれに交差する第３方向へと相対的に変位させることで、該レーザー照射部の照射するレーザーにおいて筒状に延びる照射領域を前記加工対象物に接近させ、また、前記レーザー照射部を前記第２方向に沿って相対的に変位させることで、前記照射領域を前記加工対象物の表面に沿って走査させる。
- 公開日：2016/09/05
- 出典：レーザー加工装置、制御装置および加工面形成方法
- 出願人：国立大学法人名古屋工業大学
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基板監視装置をスパッタ装置に適用した第１実施形態におけるスパッタ装置の模式的な構造を示すブロック図である。 スパッタ装置の内部の構造を基板とともに模式的に示すブロック図である。 スパッタ装置の内部を基板と対向する方向から見たときの構造を模式的に示すブロック図である。 レーザー照射 部の備える照射口の位置と基板の端面の位置との関係、および、レーザー光線の透過経路と撮像部の撮像方向との関係を模式的に示すブロック図である。 撮像部の撮像範囲を説明するためのブロック図である。 スパッタ装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。 基板監視方法を具体化した１つの実施形態における処理の手順を説明するた...
- 登録日：2019/02/22
- 出典：基板監視装置、および、基板監視方法
- 出願人：株式会社アルバック
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レーザー照射 の後に、可食性インクにより前記文字又は画像の加工部分に対して彩色を施す、文字又は画像入り魚介類１０食品の製造方法。
- 公開日：2018/03/15
- 出典：文字又は画像を加工した魚介類食品の製造方法及び文字又は画像入り魚介類食品
- 出願人：株式会社インテンス
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...を構成する発光層と、前記回路素子、及び、絶縁膜上に形成された前記配線を構成する駆動回路層とを積層する積層工程と、前記回路素子または他の前記配線と短絡した短絡箇所を有する配線の、前記短絡箇所を挟む２つの所定領域の少なくとも１つに、前記駆動回路層の前記発光層側と反対の側から、フェムト秒レーザーを照射する レーザー照射 工程とを含み、前記レーザー照射工程は、前記駆動回路層における前記フェムト秒レーザーのビーム径が略配線幅となるように、フェムト秒レーザーのビーム径を絞って前記少なくとも１つの所定領域に前記フェムト秒レーザーを照射することにより、前記配線を断線させずに、前記少なくとも１つの所定領域において前...
- 登録日：2018/09/28
- 出典：表示パネルの製造方法
- 出願人：株式会社ＪＯＬＥＤ
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レーザー照射 部１３は、ターンテーブル１２上の蓋２にレーザー光を射出する。
- 公開日：2016/09/01
- 出典：レーザー光の照射による蓋の製造方法、及び当該蓋を備えた容器の製造方法
- 出願人：京セラドキュメントソリューションズ株式会社
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切断工程（Ｓ２）に先立って、 レーザー照射 予定部１４０ｂのうち表面側セパレータ層１５２を予熱する予熱工程（Ｓ１）を備える。
- 公開日：2017/03/16
- 出典：セパレータ層付き電極の製造方法、及び、セパレータ層付き電極の製造装置
- 出願人：トヨタ自動車株式会社
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レーザー照射 法により表面処理を行った金属成形体を用いて、高い接合強度を有する金属樹脂接合成形品、当該金属樹脂接合成形品を製造可能な金属成形体およびそれらの製造方法を提供する。
- 公開日：2015/06/04
- 出典：金属樹脂接合成形品
- 出願人：ＤＩＣ株式会社
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...て溶接部となる溶接予定部を有する、材料鋼板において、前記溶接部に予定される溶接予定部は、前記抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち、少なくとも一つの前記電極接触面に、抵抗溶接前に レーザー照射 されて、クロムめっきが除去され鋼板が露出するレーザー照射部が分断配置され、前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面はレーザー照射されず、クロムめっきが除去されないレーザー加工部を有する溶接缶胴。
- 登録日：2018/03/16
- 出典：溶接缶胴、溶接缶、溶接缶胴の製造方法、及び溶接缶の製造方法
- 出願人：大日製罐株式会社
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前記１パス目のレーザーは、 レーザー照射 スポットの軌跡が複数本の離間した直線を描くように、照射されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の鋼板のレーザー溶接方法。
- 公開日：2015/04/20
- 出典：鋼板のレーザー溶接方法およびレーザー溶接装置
- 出願人：日産自動車株式会社
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レーザー印刷における照射対象物への レーザー照射 前に印刷結果を予測可能として、ユーザーの所望に近い印刷結果を得られるようにする。
- 公開日：2015/11/02
- 出典：情報処理装置及びレーザー照射装置
- 出願人：京セラドキュメントソリューションズ株式会社
レーザー照射の問題点 に関わる言及
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このため、肌の広い領域を照射する場合は、照射作業を終了した肌の領域から照射していない他の肌の領域に レーザー照射 部の照射位置をずらして照射するという作業工程を何回も繰り返さなければならず、照射作業が面倒であった。
- 公開日： 2005/02/10
- 出典： レーザー照射装置およびこれを備えた美肌装置
- 出願人： 株式会社テラバイト
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この表面活性化処理の中でも、 レーザー照射 等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、表面活性化処理の位置精度を高くすることが可能であること、及び、表面不活性化処理による表面不活性化処理効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
- 公開日： 2013/04/25
- 出典： ホログラムラベル
- 出願人： 大日本印刷株式会社
レーザー照射の特徴 に関わる言及
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このように、被洗浄基板上に形成された洗浄液の膜にレーザーを照射する際、被洗浄基板の洗浄面を走査することで、洗浄液の膜が一部昇温された範囲が レーザー照射 の走査により洗浄面の洗浄したい全範囲をくまなく良好に洗浄することができる。
- 公開日： 2014/09/08
- 出典： 被洗浄基板の洗浄方法および被洗浄基板の洗浄装置
- 出願人： 株式会社プレテック
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屈折率変化量は、材料組成のみでなく照射されるレーザー光の強度と相関を有する。屈折率変化率の大きい薄膜では、屈折率変化率の小さい従来の材料と比較して、同じ屈折率を得るために必要とされるレーザー強度は小さい。また、 レーザー照射 と屈折率変化の応答時間が同等の材料と比較すると、同じ屈折率を得るための応答時間は短く、レーザー照射に対し高速に応答することができる。
- 公開日： 2003/07/09
- 出典： 非線形光学薄膜とそれを用いた光情報記録媒体及び光スイッチ
- 出願人： ルネサスエレクトロニクス株式会社
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴（クレーム）
- 材料１（元素状、合金）
- 材料２（酸化物）
- 材料３（複合酸化物）
- 材料４（酸素酸塩）
- 材料５（〜化物）
- 材料６（有機物）
- 固相成長
- 液相成長１（常温で液体の溶媒を使用する）
- 液相成長２（溶融溶媒を使用するもの）ＣＧ優先
- 液相成長３（融液の凝固によるもの）
- 液相成長４（ゾーンメルティング）
- 液相成長５（融液からの引き出し）
- 液相成長６（液相エピタキシャル）
- 気相成長１（蒸着、昇華）
- 気相成長２（ＣＶＤ）
- 結晶成長共通１（成長条件の制御）固相成長を除く
- 結晶成長共通２（不純物のドーピング）
- 結晶成長共通３（原料の調製、原料組成）
- 結晶成長共通４（種結晶、基板）
- 結晶成長共通５（成長前の基板の処理、保護）
- 結晶成長共通６（基板への多層成長）
- 結晶成長共通７（装置、治具）
- 結晶成長共通８（検知、制御）
- 結晶成長共通９（特定の成長環境の付加）
- 後処理１（拡散源、その配置）
- 後処理２（後処理のための基板表面の前処理）
- 後処理３（気相からのドーピング）
- 後処理４（電磁波、粒子線照射によるドーピング）
- 後処理５（加熱、冷却処理）
- 後処理６（結晶の接合）
- 後処理７（エッチング、機械加工）
- 後処理８（電場、磁場、エネルギー線の利用）
- 後処理９（その他）
- 後処理１０（装置、治具の特徴）
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱（集光加熱等）
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し（保護流体下も含む）
- 結晶化物質（原料）、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- ＰＶＤ
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- ＣＶＤ
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段；反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
