リンス処理 の意味・用法を知る

洗浄処理部においては、機能水生成部４００から供給された機能水が リンス処理 用供給管ｐｐ２およびリンス処理用ノズルを通して基板に供給される。

• 公開日：2016/08/08
• 出典：基板処理装置
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

基板１１の上面と下面の両方又は上面のみに、少なくとも薬液による化学的処理、水による リンス処理 、基板上下より空気又は窒素ガスといった気体による乾燥処理を行う複数の処理部を備えるとともに、これら複数の処理部の前後に、ローダー部２及びアンローダー部９をそれぞれ備えてなるエッジ搬送機能を有する基板処理装置１の、前記複数の処理部において、基板１１の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して基板１１を移動させる、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた、基板１１の上面と下面に接触しない搬送ローラー１３が、複数配置されている。

• 公開日：2015/03/05
• 出典：エッジ搬送機能を有する基板処理装置
• 出願人：株式会社ダン科学

また、制御部は、予め決められた異常が発生した場合に、現在実行中の基板処理を含む未完了の基板処理の中から リンス処理 と乾燥処理とをレシピ情報に基づいて実行する。

• 公開日：2015/07/09
• 出典：基板処理装置および基板処理方法
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

リンス処理 によって静電気が発生して静電破壊が発生したり、洗浄したシリコンウェハ表面に静電気によってゴミが付着したりすることがなく、シリコンウェハのリンス処理時における金属不純物の付着を防止することができるとともに、コストにも配慮しつつ、更には、残渣が生じる懸念のないクリーンなリンス液を用いたリンス処理を行うことのできるシリコンウェハ清浄化装置を提供する。

• 公開日：2015/08/20
• 出典：シリコンウェハ清浄化方法及びシリコンウェハ清浄化装置
• 出願人：栗田工業株式会社

リンス処理 の終了後、液供給管からたとえば５〜１０℃の冷却ＤＩＷが吐出されて、ウエハＷの表面の全域に冷却ＤＩＷが塗布される（ステップＳ６）。

• 公開日：2013/10/07
• 出典：基板処理方法および基板処理装置
• 出願人：株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

基板の リンス処理 時に、基板が熱変形したり、処理液とリンス液とが反応したりするのを防止して、リンス液の飛散を防止すること。

• 公開日：2012/01/05
• 出典：基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録した記録媒体
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

...イラーへの水の流れを制御するための制御装置を備え、且つ、リンス用水を排出するためのリンス用廃液管を備えるボイラー；及び前記リンス用廃液管を開閉するために、且つ、前記制御装置を機械的に若しくは電気的に作動させ或いは停止させるために、前記リンス用廃液管に対して移動可能に取り付けられるストッパー；を含み、 リンス処理 を開始させるために前記ストッパーが第一位置に移動させられると、前記ストッパーの前記第一位置への移動に応じて、前記リンス用廃液管が開かれ、且つ、前記制御装置が機械的に若しくは電気的に作動させられ、前記リンス処理を終了させるために前記ストッパーが第二位置に移動させられると、前記ストッパーの前記...

• 登録日：2013/11/08
• 出典：リンス機能を備えた蒸気装置
• 出願人：フィリップス・エレクトロニクス・ネムローゼ・フェンノートシャップ

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板の薬液処理で用いられる薬液の種類に応じてこの薬液処理の後に行われる基板の リンス処理 で処理部から排出される排液を別々に回収して再利用することにより、処理部から排出される排液を回収して再利用するにあたりより多くの量の排液を回収することができ、このため純水の使用量を低減することができるのでコストを低減することができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する

• 公開日：2010/12/24
• 出典：基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体
• 出願人：東京エレクトロン株式会社

リンス処理 時間の低減、及び、リンス液の使用量を低減させることが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。

• 公開日：2010/10/21
• 出典：基板処理装置及び基板処理方法
• 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

半導体上に色素増感用の色素を吸着させ、色素を吸着した半導体を リンス処理 し、リンス処理した色素吸着半導体にカルボン酸を炭酸ガス超臨界流体中で吸着させることを特徴とする色素増感された半導体電極を有する光電変換素子の製造方法。

• 登録日：2012/06/08
• 出典：光電変換素子及びその製造方法
• 出願人：国立大学法人九州工業大学