リンス処理 の意味・用法を知る
リンス処理 とは、半導体の洗浄、乾燥 や洗浄、機械加工 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社SCREENホールディングス や東京エレクトロン株式会社 などが関連する技術を712件開発しています。
このページでは、 リンス処理 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
リンス処理の意味・用法
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洗浄処理部においては、機能水生成部400から供給された機能水が リンス処理 用供給管pp2およびリンス処理用ノズルを通して基板に供給される。
- 公開日:2016/08/08
- 出典:基板処理装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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基板11の上面と下面の両方又は上面のみに、少なくとも薬液による化学的処理、水による リンス処理 、基板上下より空気又は窒素ガスといった気体による乾燥処理を行う複数の処理部を備えるとともに、これら複数の処理部の前後に、ローダー部2及びアンローダー部9をそれぞれ備えてなるエッジ搬送機能を有する基板処理装置1の、前記複数の処理部において、基板11の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して基板11を移動させる、ローラー表面円周にV字形の切れ込みが入れられた、基板11の上面と下面に接触しない搬送ローラー13が、複数配置されている。
- 公開日:2015/03/05
- 出典:エッジ搬送機能を有する基板処理装置
- 出願人:株式会社ダン科学
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また、制御部は、予め決められた異常が発生した場合に、現在実行中の基板処理を含む未完了の基板処理の中から リンス処理 と乾燥処理とをレシピ情報に基づいて実行する。
- 公開日:2015/07/09
- 出典:基板処理装置および基板処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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リンス処理 によって静電気が発生して静電破壊が発生したり、洗浄したシリコンウェハ表面に静電気によってゴミが付着したりすることがなく、シリコンウェハのリンス処理時における金属不純物の付着を防止することができるとともに、コストにも配慮しつつ、更には、残渣が生じる懸念のないクリーンなリンス液を用いたリンス処理を行うことのできるシリコンウェハ清浄化装置を提供する。
- 公開日:2015/08/20
- 出典:シリコンウェハ清浄化方法及びシリコンウェハ清浄化装置
- 出願人:栗田工業株式会社
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リンス処理 の終了後、液供給管からたとえば5〜10℃の冷却DIWが吐出されて、ウエハWの表面の全域に冷却DIWが塗布される(ステップS6)。
- 公開日:2013/10/07
- 出典:基板処理方法および基板処理装置
- 出願人:株式会社SCREENホールディングス
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基板の リンス処理 時に、基板が熱変形したり、処理液とリンス液とが反応したりするのを防止して、リンス液の飛散を防止すること。
- 公開日:2012/01/05
- 出典:基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録した記録媒体
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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ストッパー(330)は、その リンス処理 を終了させるための第二位置を有し、その第二位置において、リンス用廃液管(320)がストッパー(330)によって閉じられてストッパー(330)が制御装置(230、400)を停止させるよう構成される。
- 公開日:2011/05/12
- 出典:リンス機能を備えた蒸気装置
- 出願人:シグニファイホールディングビーヴィ
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本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板の薬液処理で用いられる薬液の種類に応じてこの薬液処理の後に行われる基板の リンス処理 で処理部から排出される排液を別々に回収して再利用することにより、処理部から排出される排液を回収して再利用するにあたりより多くの量の排液を回収することができ、このため純水の使用量を低減することができるのでコストを低減することができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する
- 公開日:2010/12/24
- 出典:基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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リンス処理 時間の低減、及び、リンス液の使用量を低減させることが可能な基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。
- 公開日:2010/10/21
- 出典:基板処理装置及び基板処理方法
- 出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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そして、色素吸着及び リンス処理 もC1〜C4アルコールが存在してもよい炭酸ガス超臨界流体中で行うことが好ましい。
- 公開日:2008/08/07
- 出典:光電変換素子及びその製造方法
- 出願人:国立大学法人九州工業大学
リンス処理の問題点 に関わる言及
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カラー写真感光材料の処理は、感光材料を像露光後、発色現像処理、銀漂白処理、ハロゲン化銀定着処理、漂白処理と定着処理を同時に行う漂白定着処理、水洗処理、水洗処理に代える リンス処理 、安定処理、乾燥処理が基本処理であり、この他各処理液に使用するために、又、処理後の感光材料の物理的強度を増すために及び安定性を増すために付加される処理工程がある。
- 公開日: 1994/11/08
- 出典: 発色現像液及びそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法
- 出願人: 中外写真薬品株式会社
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現像処理工程における乾燥時間を短縮する処理方法、さらに固体処理剤の成形性、保存安定性と乾燥時間短縮を両立する固体安定処理組成物または固体 リンス処理 組成物を提供する。
- 公開日: 2004/02/05
- 出典: ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法および固体処理組成物
- 出願人: コニカミノルタ株式会社
リンス処理の特徴 に関わる言及
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また薬液処理工程および リンス処理 工程において、ウエハWを回転させて例を示したが、これに限らず薬液処理工程およびリンス処理工程において、ウエハW上が液で覆われていれば、必ずしもウエハWを回転させる必要はない。
- 公開日: 2013/06/10
- 出典: 基板処理方法、この基板処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体、および基板処理装置
- 出願人: 東京エレクトロン株式会社
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また、このようなアルカリ性処理液と酸性処理液とを交互に供給する工程では、最後にアルカリ性処理液の供給を行いその後に リンス処理 を行う場合の方が、最後に酸性処理液の供給を行いその後にリンス処理を行う場合よりも、短い時間でリンス処理を完了することができることが知られている。
- 公開日: 2005/03/10
- 出典: 基板処理方法および基板処理装置
- 出願人: 株式会社SCREENホールディングス
リンス処理の使用状況 に関わる言及
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ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理プロセスとしては、主に発色現像工程、脱銀工程及び安定化処理工程から構成されているのが一般的である。この中で、安定化処理工程は、現像処理後のハロゲン化銀カラー写真感光材料が安定した品質を有するために必要な工程である。そのため、長期保存性の改良や白地性能向上といったことが安定化処理に求められる性能に挙げられる。一方で、安定化処理の代わりに、現像処理後のハロゲン化銀カラー写真感光材料の不要成分を洗い出すだけの目的で、 リンス処理 が用いられることもある。
- 公開日: 2006/08/10
- 出典: ハロゲン化銀カラー写真感光材料の安定化処理組成物及びハロゲン化銀カラー写真感光材料の安定化処理濃縮組成物
- 出願人: コニカミノルタフォトイメージング株式会社
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この場合、処理液吐出ノズルから基板に現像液が吐出されることにより、基板の現像処理が行われる。また、現像処理後にリンス液吐出ノズルから基板にリンス液が吐出されることにより、基板の リンス処理 が行われる。
- 公開日: 2009/10/08
- 出典: 基板処理装置
- 出願人: 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
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