ラインパターン の意味・用法を知る

本実施形態に係る発光モジュールは、光透過性を有する第１絶縁フィルムと、第１絶縁フィルムに形成され、相互に平行な複数の第１ ラインパターン と、第１ラインパターンに交差し、相互に平行な複数の第２ラインパターンとを含む複数のメッシュパターンと、複数のメッシュパターンのうちのいずれか２つのメッシュパターンに接続される発光素子と、第１絶縁フィルムに対して、発光素子を保持する樹脂層と、を有し、複数のメッシュパターンのうちの相互に隣接する第１メッシュパターンと第２メッシュパターンの境界では、第１メッシュパターンから境界に突出するラインパターンと、第２メッシュパターンから境界に突出するラインパターンとが、相互に...

• 公開日：2018/02/22
• 出典：発光モジュール
• 出願人：東芝ホクト電子株式会社

ラインパターン のラインピッチと偶然誤差との関係を示す図である。

• 公開日：2016/10/06
• 出典：計測装置
• 出願人：キヤノン株式会社

コンプリメンタリ・リソグラフィにおいて、 ラインパターン 上の任意の位置に配置されたカットパターンやビアパターンを複数のビームを用いて効率よく露光できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供する。

• 公開日：2016/05/26
• 出典：荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法
• 出願人：株式会社アドバンテスト

基板の上に形成された ラインパターン から検出マークを形成する形成方法であって、前記基板の上の前記検出マークを形成する第１領域と、前記第１領域を囲み、前記検出マークの形成を禁止する第２領域とを決定する第１ステップと、前記第１領域における前記ラインパターンを部分的に切断して複数のマーク要素を形成するための第１カットパターンと、前記第２領域における前記ラインパターンを除去するための除去パターンとを含むパターンを投影光学系によって前記基板の上に投影し、前記複数のマーク要素で前記検出マークを形成する第２ステップと、を有することを特徴とする形成方法を提供する。

• 公開日：2015/01/29
• 出典：形成方法及び製造方法
• 出願人：キヤノン株式会社

一つの面に複数の突出した ラインパターン １００を有し、ラインパターン１００はその長さ方向とは異なる方向で向かい合う第１側面１００ａと第２側面１００ｂとを含み、第１側面１００ａは一つの面に対して所定の傾斜角ａを有し、第１側面１００ａは光反射層１１０を備える。

• 公開日：2018/01/11
• 出典：反射型光制御フィルムおよびそれを備える車載用画像表示装置
• 出願人：東友ファインケム株式会社

パターン形成方法は、ウエハの第１中間層上の第１マスク層に、第１方向を長手方向としてエッチング特性が異なる第３及び第４の複数の ラインパターン を一方のエッジ部が隣接するように形成するステップと、第３及び第４のラインパターンの一部を順次除去するステップと、その第１マスク層の凹部にマスク材料を充填しラインパターンを除去してマスクパターンを形成するステップと、そのマスクパターンを介して第１中間層を加工するステップと、を有する。

• 公開日：2016/09/05
• 出典：パターン形成方法及びデバイス製造方法
• 出願人：株式会社ニコン

互いに平行配置された複数の線状部材からなる ラインパターン をインプリント法により製造する方法において、前記パターンが形成された塗膜と、前記パターンの形状に対応する凹凸パターンを有する凹凸部材との分離性に優れた方法を提供する。

• 公開日：2017/10/05
• 出典：ラインパターン、光制御部材および光学結像部材の製造方法
• 出願人：ＪＳＲ株式会社

各インク面は、同じインクが供給されるノズルの少なくとも１つの行を含み、１つのインク面の前記ノズルは、名目上、多数の近隣のセルに分割され、各セルは、一連の近隣のノズルを含む、１つまたは複数のインク面を有するプリントヘッドの欠陥ノズルを特定する方法において、それぞれのコード化された ラインパターン を印刷するように前記プリントヘッドの１つのインク面の各ノズルに指示するステップであって、各々のコード化されたラインパターンは、印刷画素および欠如画素の１つの列によって表され、第１および第２のコード化スキームによって定義され、前記第１のコード化スキームは、そのそれぞれのセル内の各ノズルの位置を符号化し、前記第...

• 登録日：2018/03/23
• 出典：インクジェットプリントヘッドの欠陥ノズルを特定する方法
• 出願人：メムジェットテクノロジーリミテッド

設備投資の増加及び生産効率の低下を抑制しながら、フォトリソグラフィにより、線幅２μｍ〜１０μｍの精細部分を有する ラインパターン を形成することができるフォトマスク、及びこのフォトマスクを用いた基板の製造方法を提供する。

• 公開日：2015/05/28
• 出典：フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法
• 出願人：ＨＯＹＡＴｅｃｈｎｏｓｕｒｇｉｃａｌ株式会社

試料に形成された検査光の波長よりも狭いピッチで形成された ラインパターン 間のブリッジ欠陥を検出できるようにする。

• 公開日：2015/10/22
• 出典：欠陥検査方法及びその装置
• 出願人：株式会社日立ハイテクサイエンス