メトロ の意味・用法を知る
メトロ とは、ホトレジスト感材への露光・位置合せ や光学的手段による測長装置 などの分野において活用されるキーワードであり、エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ. や東京エレクトロン株式会社 などが関連する技術を7,472件開発しています。
このページでは、 メトロ を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
メトロの意味・用法
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より小さいターゲット上のより正確な測定を行うことができる、改善された メトロ ロジ方法および基板上の複数のターゲットの特性を測定するように構成されたメトロロジ装置等を提供する。
- 公開日:2016/08/12
- 出典:メトロロジ装置、リソグラフィ装置、リソグラフィセル及びメトロロジ方法
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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リソグラフィプロセスの性能測定に使用される メトロ ロジ装置であって、1〜100nmの範囲の複数の波長を備えた放射ビームを生成する照射システムと、基板に平行な方向から2°を上回る角度の照射方向に沿った放射で前記基板上に形成された周期構造を照射するため、前記照射システムとともに動作可能な基板支持体と、前記周期構造によって反射された放射のスペクトルを検出する検出システムと、を備える、装置。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:メトロロジ方法、メトロロジ装置、及びデバイス製造装置
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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メトロ ロジーターゲット設計の方法を提供する。
- 公開日:2017/01/19
- 出典:メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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方法は、 メトロ ロジープロセスを用いたターゲットの検査によって結果として得られた像をモデリングすることと、ターゲット構成がメトロロジープロセスを用いた検出用に最適化されているかどうかを評価することと、を含む最適化プロセスを含んでもよい。
- 公開日:2017/03/30
- 出典:ターゲット構成の最適化及び関連するターゲット
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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[0006] スループット、柔軟性、及び/又は精度を向上させることが可能な、ターゲットを使用する メトロ ロジーのための方法及び装置を提供する
- 公開日:2017/09/14
- 出典:メトロロジー方法、ターゲット、及び基板
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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小ターゲットの メトロ ロジーを用いて半導体基板上の製品エリア内のロケーションにおけるパラメータ測定を可能にする。
- 公開日:2017/06/15
- 出典:メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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精度が十分に定義および制御されるとともに、プロセス誘発変動に対して強いオーバーレイターゲットおよび メトロ ロジレシピの設計方法を提供する。
- 公開日:2017/07/06
- 出典:メトロロジターゲットの設計方法、メトロロジターゲットを有する基板、オーバーレイの測定方法、およびデバイス製造方法
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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本発明者らは、より柔軟で伸長可能であり、2本の手で結合することができる非タンパク質ヒンジ領域を有する抗体様分子であるシン メトロ アドヘシン(symmetroadhesin)を作製するために新規化学的合成法を報告する。
- 公開日:2017/02/16
- 出典:非ペプチドヒンジ部含有フレキシブル抗体様分子
- 出願人:カポンダニエルジェイ.
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メトロ ロジターゲット設計の方法を提供する。
- 公開日:2017/01/26
- 出典:メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置
- 出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ヴイ.
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また、通信によって、例えば、ローカル・エリア・ネットワーク(LAN)、 メトロ ポリタン・エリア・ネットワーク(MAN)、ワイド・エリア・ネットワーク(WAN)、インターネット、イントラネット、エクストラネット等に用いられる有線ネットワーク、又は無線通信ネットワーク、さらにこれらの組み合わせ等の伝送媒体を用いて伝送させてもよく、また、搬送波に乗せて搬送させてもよい。
- 公開日:2020/03/26
- 出典:情報処理装置及び情報処理プログラム
- 出願人:富士ゼロックス株式会社
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微生物による化合物の製造
- 生産物1;無機化合物
- 生産物2;炭化水素、ハロゲン化炭化水素
- 生産物3;0含有(カルボキシ類を除く)
- 生産物4;0含有(カルボキシ類、その他)
- 生産物5;N、S、P含有、縮合炭素環、複素環
- 生産物6;糖類
- 生産物7;ペプチド、タンパク質
- 生産物8;その他、構造不明
- 物性1;分子量
- 物性2;元素分析値
- 物性3;融点、分解点
- 物性4;pH
- 物性5;溶解性
- 物性6;等電点(IP)
- 物性7;色、性状
- 物性8;測定手段、及びその測定値
- 物性9;物性に対応する官能基、部分構造
- 生物材料(微生物、酵素等)
- 反応のタイプ
- 生産方法、処理方法、装置
- 培養又は酵素反応時に添加される物質
- 分離、精製
- 利用分野、有用性
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜