メチルピロリドン の意味・用法を知る
メチルピロリドン とは、電池の電極及び活物質 や二次電池(その他の蓄電池) などの分野において活用されるキーワードであり、日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 や日産化学工業株式会社 などが関連する技術を15,675件開発しています。
このページでは、 メチルピロリドン を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
メチルピロリドンの意味・用法
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前記良溶媒が、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド、N− メチルピロリドン 、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、りん酸トリメチル、りん酸トリエチル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールから選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の電荷輸送性ワニス。
- 公開日:2018/01/25
- 出典:電荷輸送性ワニス
- 出願人:日産化学工業株式会社
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これらのうち、前記炭素材料用分散剤の溶解性が良好であることから、N− メチルピロリドン 、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
- 公開日:2016/04/28
- 出典:炭素材料用分散剤
- 出願人:第一工業製薬株式会社
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本発明は、次の工程:(a)ブテンおよび/またはブタジエン、ブタン、水素および/または窒素および任意に二酸化炭素を含む物質流(1)を、N− メチルピロリドン 80〜97質量%および水3〜20質量%を含有する混合物(5)で吸収し、その際にN−メチルピロリドン、水、ブテンおよび/またはブタジエン、ブタンおよび任意に二酸化炭素を含む物質流(9)と水素および/または窒素およびブタンを含む物質流(7)とが得られる工程、(b)N−メチルピロリドン、水、ブテンおよび/またはブタジエン、ブタンおよび任意に二酸化炭素を含む物質流(9)を、N−メチルピロリドン80〜97質量%および水3〜20質量%を含有する物質流(13...
- 公開日:2014/06/19
- 出典:ブテンおよび/またはブタジエンを含む物質流を後処理する方法
- 出願人:バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
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言及し得る溶媒は:生理的に許容し得る溶媒、例えば水、アルコール類、例えばエタノール、ブタノール、ベンジルアルコール、グリセロール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール類、N− メチルピロリドン 、2−ピロリドンおよびこれらの混合物である。
- 公開日:2011/09/01
- 出典:忌避剤
- 出願人:バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
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正極活物質を有する正極20、負極活物質を有する負極10、正極20と負極10との間に配置されたセパレータ30、正極20及び/又は負極10とセパレータ30との間に配置された電極保護層40、電解液、及び、正極20、負極10、セパレータ30、電極保護層40、及び電解液を収容する容器70を備え、容器70内におけるN− メチルピロリドン の全質量をA、容器70内における負極活物質の全質量をBとしたときに、50ppm≦A/B≦150ppmを満たす、リチウムイオン二次電池が提供される。
- 公開日:2015/02/05
- 出典:リチウムイオン二次電池
- 出願人:株式会社豊田自動織機
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本発明による高純度および高収率N− メチルピロリドン の製造方法は、金属酸化物固体触媒存在下にで、1,4−ブタンジオールを水素雰囲気下で脱水素反応してγ−ブチロラクトンを製造する第1工程;および金属酸化物固体触媒存在下で、前記第1工程で得られたγ−ブチロラクトンを精製無しに直ちに導入してモノメチルアミンと脱水反応させる第2工程を含む。
- 公開日:2011/03/10
- 出典:N-メチルピロリドンの製造方法
- 出願人:イス・ケミカル・カンパニー・リミテッド
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前記溶媒としては、N− メチルピロリドン などを用いられるが、これらに限定されない。
- 公開日:2012/05/17
- 出典:リチウム2次電池用負極活物質の製造方法
- 出願人:三星エスディアイ株式会社
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負極合剤が圧延銅箔に塗着されるときは、粘度調整溶媒としてN− メチルピロリドン が用いられ、略均一に混練されてスラリ状の溶液が調製される。
- 公開日:2009/10/15
- 出典:リチウム二次電池
- 出願人:日立ビークルエナジー株式会社
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多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するための、半水性のアルカリ性洗浄組成物であって、(a)約10%〜約35%の水;(b)約5%〜約15%の少なくとも1種のアルカノールアミン;(c)N− メチルピロリドン 、およびN−メチルピロリドンとスルホランとの混合物からなる群より選択される、約10%〜約50%の溶媒;(d)約2%〜約10%のグルコン酸、または水中での加水分解によりグルコン酸を生成する化合物;(e)約1%〜約8%の、式HO(CH2CH2O)nCH2CH2OHの少なくとも1種のオリゴエチレングリコールであって、nは1以上である、オリゴエチレングリコール;ならびに(f)必要に応じて、約10...
- 公開日:2010/10/28
- 出典:多金属デバイス処理のためのグルコン酸含有フォトレジスト洗浄組成物
- 出願人:アバンターパフォーマンスマテリアルズ,インコーポレイテッド
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...チルアルコール、2−メトキシエタノールなど; エーテル類:ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなど; 芳香族炭化水素類:クロロベンゼン、トルエン、キシレンなど; 飽和炭化水素類:シクロヘキサン、ヘキサンなど; アミド類:N,N−ジメチルホルムアミド、N− メチルピロリドン など; ハロゲン化炭化水素類:ジクロロメタン、四塩化炭素など; ニトリル類:アセトニトリルなど; スルホキシド類:ジメチルスルホキシドなど; 芳香族有機塩基類:ピリジンなど; 酸無水物類:無水酢酸など; 有機酸類:ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸など; 無機酸類:塩酸、硫酸など; エステ...
- 公開日:2021/01/28
- 出典:複素環化合物
- 出願人:武田薬品工業株式会社
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塗料、除去剤
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- フェノール、アミノ又はアセタール樹脂(*)
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- ポリウレタン、ポリ尿素
- ポリアミド
- 窒素含有連結基ポリマー
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
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- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
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