メチルピロリドン の意味・用法を知る

前記良溶媒が、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ− メチルピロリドン 、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、りん酸トリメチル、りん酸トリエチル、ジエチレングリコール、およびトリエチレングリコールから選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の電荷輸送性ワニス。

• 公開日：2018/01/25
• 出典：電荷輸送性ワニス
• 出願人：日産化学工業株式会社

これらのうち、前記炭素材料用分散剤の溶解性が良好であることから、Ｎ− メチルピロリドン 、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

• 公開日：2016/04/28
• 出典：炭素材料用分散剤
• 出願人：第一工業製薬株式会社

本発明は、次の工程：（ａ）ブテンおよび／またはブタジエン、ブタン、水素および／または窒素および任意に二酸化炭素を含む物質流（１）を、Ｎ− メチルピロリドン ８０〜９７質量％および水３〜２０質量％を含有する混合物（５）で吸収し、その際にＮ−メチルピロリドン、水、ブテンおよび／またはブタジエン、ブタンおよび任意に二酸化炭素を含む物質流（９）と水素および／または窒素およびブタンを含む物質流（７）とが得られる工程、（ｂ）Ｎ−メチルピロリドン、水、ブテンおよび／またはブタジエン、ブタンおよび任意に二酸化炭素を含む物質流（９）を、Ｎ−メチルピロリドン８０〜９７質量％および水３〜２０質量％を含有する物質流（１３...

• 公開日：2014/06/19
• 出典：ブテンおよび／またはブタジエンを含む物質流を後処理する方法
• 出願人：バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング

言及し得る溶媒は：生理的に許容し得る溶媒、例えば水、アルコール類、例えばエタノール、ブタノール、ベンジルアルコール、グリセロール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール類、Ｎ− メチルピロリドン 、２−ピロリドンおよびこれらの混合物である。

• 公開日：2011/09/01
• 出典：忌避剤
• 出願人：バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

正極活物質を有する正極２０、負極活物質を有する負極１０、正極２０と負極１０との間に配置されたセパレータ３０、正極２０及び／又は負極１０とセパレータ３０との間に配置された電極保護層４０、電解液、及び、正極２０、負極１０、セパレータ３０、電極保護層４０、及び電解液を収容する容器７０を備え、容器７０内におけるＮ− メチルピロリドン の全質量をＡ、容器７０内における負極活物質の全質量をＢとしたときに、５０ｐｐｍ≦Ａ／Ｂ≦１５０ｐｐｍを満たす、リチウムイオン二次電池が提供される。

• 公開日：2015/02/05
• 出典：リチウムイオン二次電池
• 出願人：株式会社豊田自動織機

本発明による高純度および高収率Ｎ− メチルピロリドン の製造方法は、金属酸化物固体触媒存在下にで、１，４−ブタンジオールを水素雰囲気下で脱水素反応してγ−ブチロラクトンを製造する第１工程；および金属酸化物固体触媒存在下で、前記第１工程で得られたγ−ブチロラクトンを精製無しに直ちに導入してモノメチルアミンと脱水反応させる第２工程を含む。

• 公開日：2011/03/10
• 出典：Ｎ－メチルピロリドンの製造方法
• 出願人：イス・ケミカル・カンパニー・リミテッド

前記溶媒としては、Ｎ− メチルピロリドン などを用いられるが、これらに限定されない。

• 公開日：2012/05/17
• 出典：リチウム２次電池用負極活物質の製造方法
• 出願人：三星エスディアイ株式会社

負極合剤が圧延銅箔に塗着されるときは、粘度調整溶媒としてＮ− メチルピロリドン が用いられ、略均一に混練されてスラリ状の溶液が調製される。

• 公開日：2009/10/15
• 出典：リチウム二次電池
• 出願人：日立ビークルエナジー株式会社

多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するための、半水性のアルカリ性洗浄組成物であって、（ａ）約１０％〜約３５％の水；（ｂ）約５％〜約１５％の少なくとも１種のアルカノールアミン；（ｃ）Ｎ− メチルピロリドン 、およびＮ−メチルピロリドンとスルホランとの混合物からなる群より選択される、約１０％〜約５０％の溶媒；（ｄ）約２％〜約１０％のグルコン酸、または水中での加水分解によりグルコン酸を生成する化合物；（ｅ）約１％〜約８％の、式ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ２ＯＨの少なくとも１種のオリゴエチレングリコールであって、ｎは１以上である、オリゴエチレングリコール；ならびに（ｆ）必要に応じて、約１０...

• 公開日：2010/10/28
• 出典：多金属デバイス処理のためのグルコン酸含有フォトレジスト洗浄組成物
• 出願人：アバンターパフォーマンスマテリアルズ，インコーポレイテッド

...チルアルコール、２−メトキシエタノールなど； エーテル類：ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなど； 芳香族炭化水素類：クロロベンゼン、トルエン、キシレンなど； 飽和炭化水素類：シクロヘキサン、ヘキサンなど； アミド類：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ− メチルピロリドン など； ハロゲン化炭化水素類：ジクロロメタン、四塩化炭素など； ニトリル類：アセトニトリルなど； スルホキシド類：ジメチルスルホキシドなど； 芳香族有機塩基類：ピリジンなど； 酸無水物類：無水酢酸など； 有機酸類：ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸など； 無機酸類：塩酸、硫酸など； エステ...

• 公開日：2021/01/28
• 出典：複素環化合物
• 出願人：武田薬品工業株式会社