マスクデータ の意味・用法を知る
マスクデータ とは、写真製版における原稿準備・マスク や画像処理 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社東芝 やセイコーエプソン株式会社 などが関連する技術を2,994件開発しています。
このページでは、 マスクデータ を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
マスクデータの意味・用法
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マルチパス記録を行う機能を備える記録装置において、 マスクデータ に係るバッファの容量を低減する。
- 公開日:2017/03/30
- 出典:記録装置およびデータ編集方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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前記タッチ経路ロジックは、タッチセンサーパネルから前記タッチイベントを受信し、前記受信されたタッチイベントに応じて マスクデータ を生成するように構成され、前記マスクデータは、数値のマトリックスを備え、前記数値のそれぞれは、前記組み合わせられたディスプレイイメージを製作するために前記レンダリングロジックの動作を識別し、前記マトリックス内の数値の位置は、前記組み合わせられたディスプレイイメージ内のピクセルの位置に対応する請求項1に記載のシステム。
- 公開日:2014/11/17
- 出典:イメージオーバレイを用いてディスプレイ遅延を低減する方法及び装置
- 出願人:三星ディスプレー株式會社
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前記加速器は、前記タッチイベント情報を受信し、前記タッチイベント情報に基づいて マスクデータ を生成するマスク生成ロジッグと、前記マスクデータに応じてビデオ映像データとオーバレイデータとを結合させて出力映像データを生成するレンダリングロジッグと、を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の映像表示システム。
- 公開日:2015/11/19
- 出典:映像表示システム
- 出願人:三星ディスプレー株式會社
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これを繰り返すことにより、 マスクデータ MEの列データはシフトして、露光動作の度に、マスクデータを列データごとに循環シフトさせるように、マスクメモリに対する読み出しアドレスを変更する。
- 公開日:2016/09/29
- 出典:露光装置および露光方法
- 出願人:株式会社オーク製作所
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アンシャープマスク処理の マスクデータ を生成する処理時間を低減する。
- 公開日:2017/01/19
- 出典:画像処理装置、および、コンピュータプログラム
- 出願人:ブラザー工業株式会社
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合成実行部520は、上記係数データA61についてROIに関与するROI係数と非ROI係数とを、 マスクデータ B60に基づいて判別し、上記係数データA61中のROI係数と上記係数データD61中のウエーブレット係数とを合成することによって、合成済み係数データE61を生成する。
- 公開日:2016/11/10
- 出典:画像処理システムおよび画像処理方法
- 出願人:株式会社メガチップス
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ヘッド部12と、主走査駆動部14と、制御部20とを備え、ヘッド部12に主走査動作を行わせる場合、制御部20は、予め設定された マスクデータ に基づいて選択される複数の画素の位置へ、ノズルからインク滴を吐出させ、媒体50の各位置に対し、一の色について、制御部20は、ヘッド部12に、第1のマスクデータに基づいて選択される複数の画素である第1選択画素と、選択される複数の画素の並び方が第1のマスクデータとは異なる第2のマスクデータに基づいて選択される複数の画素である第2選択画素とへ、インク滴を吐出させる。
- 公開日:2015/10/15
- 出典:印刷装置及び印刷方法
- 出願人:株式会社ミマキエンジニアリング
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前記第1の工程が、前記エンボス形状データを閾値により2値化して生成した、開口部とマスク部を有する マスクデータ を用いたパターン露光により、表面にレジストパターンを形成した前記エンボス版に、腐食液を用いて前記化学エッチングを施して、前記窪みを形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載のエンボス版の製造方法。
- 公開日:2016/04/28
- 出典:エンボス版の製造方法、レーザ彫刻用データの作成装置、レーザ彫刻用データの作成方法、プログラム
- 出願人:大日本印刷株式会社
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導電性インクにより基板に形成する配線のデータ61を生成する配線データ生成方法であって、配線データの基礎となる基礎配線データ41を取得する基礎配線データ取得工程と、基礎配線データの一部を間引く マスクデータ を取得するマスクデータ取得工程と、基礎配線データに対してマスクデータを適用した配線データを求める演算工程と、を有し、マスクデータは、配線上に所望のデザインを形成するデザインマスクデータ52を含んで構成されていることを特徴とする。
- 公開日:2016/05/09
- 出典:配線データ生成方法、配線データ生成装置、印刷装置、印刷システム、プログラム、配線、及び電子回路基板
- 出願人:株式会社リコー
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マルチパス方式で用いる マスクデータ について、より適切なマスクデータの構成を実現する。
- 公開日:2015/09/28
- 出典:印刷装置及び印刷方法
- 出願人:株式会社ミマキエンジニアリング
マスクデータの原理 に関わる言及
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
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- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
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- 位置合わせマークの特殊用途
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- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
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- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜