ボロン と関連性が強い法人一覧

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株式会社東芝 絶縁ゲート型電界効果トランジスタMOSIC,バイポーラ・MOSIC半導体の電極 半導体装置 技術一覧を見る
日本電気株式会社 絶縁ゲート型電界効果トランジスタ絶縁ゲート型電界効果トランジスタアニール 光導波路デバイス 技術一覧を見る
ルネサスエレクトロニクス株式会社 MOSIC,バイポーラ・MOSIC絶縁ゲート型電界効果トランジスタ半導体の電極 半導体装置およびその製造方法ならびに電子デバイス 技術一覧を見る
パナソニック株式会社 アニール絶縁ゲート型電界効果トランジスタ半導体集積回路装置の内部配線 プラズマドーピング装置及び方法並びに半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
JFEスチール株式会社 珪素及び珪素化合物光起電力装置光起電力装置 表面性状と磁気特性に優れたFe基アモルファス合金 技術一覧を見る
信越半導体株式会社 気相成長(金属層を除く)拡散アニール エピタキシャルウェーハの製造方法 技術一覧を見る
株式会社SUMCO アニール結晶、結晶のための後処理気相成長(金属層を除く) エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 技術一覧を見る
シャープ株式会社 珪素及び珪素化合物絶縁ゲート型電界効果トランジスタ光起電力装置 太陽電池用シリコン、多結晶シリコン材料、多結晶シリコン太陽電池および太陽電池用シリコンの製造方法 技術一覧を見る
セイコーエプソン株式会社 MOSIC,バイポーラ・MOSIC半導体の電極薄膜トランジスタ 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
東京窯業株式会社 酸化物セラミックスの組成1セラミック製品3鋳造用とりべ 溶融金属容器内張用アルミナ-カーボンれんが 技術一覧を見る
ソニー株式会社 素子分離絶縁ゲート型電界効果トランジスタ絶縁ゲート型電界効果トランジスタ 固体撮像素子及びその製造方法 技術一覧を見る
富士電機株式会社 縦型MOSトランジスタ本体に特徴のある半導体装置アニール 半導体装置の製造方法およびその半導体装置 技術一覧を見る
信越化学工業株式会社 珪素及び珪素化合物結晶、結晶のための後処理CVD 反射防止膜層のウェット剥離方法 技術一覧を見る
株式会社リコー インクジェット(粒子形成、飛翔制御)絶縁ゲート型電界効果トランジスタ絶縁ゲート型電界効果トランジスタ インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置 技術一覧を見る
東京エレクトロン株式会社 気相成長(金属層を除く)CVD絶縁膜の形成 ハードマスクおよびその製造方法 技術一覧を見る
京セラ株式会社 ダイヤモンド又は金属化合物を含有する合金セラミック製品粉末冶金 太陽電池素子の製造方法 技術一覧を見る
三洋電機株式会社 光起電力装置光起電力装置珪素及び珪素化合物 半導体材料の再生装置、太陽電池の製造方法および製造装置 技術一覧を見る
三菱電機株式会社 アニール絶縁ゲート型電界効果トランジスタ絶縁ゲート型電界効果トランジスタ 炭化珪素半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
日立化成株式会社 原子炉の緊急防護のための構成放射線の遮蔽汚染除去及び汚染物処理 中性子吸収材およびそれを用いた溶融燃料取出方法 技術一覧を見る
セイコーインスツル株式会社 拡散流体圧力測定半導体等の試験・測定 半導体装置の製造方法 技術一覧を見る
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