ヘキサン の意味・用法を知る

本発明は、水の供給源と、四価元素Ｙの酸化物の供給源と、三価元素Ｘの酸化物の供給源と、１，６−ビス（Ｎ−メチルピロリジニウム） ヘキサン ジカチオンおよび１，６−ビス（Ｎ−メチル−ピペリジニウム）ヘキサンジカチオンの１種類以上から選択される構造指向剤（Ｑ）の供給源とを含む反応混合物を提供する

• 登録日：2020/02/14
• 出典：新規合成結晶材料のＥＭＭ－２６、その調製、およびその使用
• 出願人：エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー

特定の両末端変性ポリシロキサンマクロモノマーの製造方法において、下記工程：（ａ）平均構造式［ＩＩ］：Ｒ’’Ｍｅ２ＳｉＯ（Ｍｅ２ＳｉＯ）ｐＳｉＭｅ２Ｒ’’［ＩＩ］で表される両末端ポリオキシエチレン変性ポリシロキサンと、一般式［ＩＩＩ］：ＯＣＮ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｓＣ（＝Ｏ）Ｃ（Ｑ）＝ＣＨ２［ＩＩＩ］で表される化合物を触媒存在下で反応させる工程、（ｂ）前記工程（ａ）で得られた反応混合物を ヘキサン 及びアセトニトリルによる液々抽出に付す工程、および（ｃ）ヘキサン層からヘキサンを除去して、上記一般式［Ｉ］で表される両末端変性ポリシロキサンマクロモノマーを得る工程を含む、前記製造方法。

• 公開日：2018/03/08
• 出典：両末端変性ポリシロキサンマクロモノマー及びその製造方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

また、スラリー重合法に用いる溶媒としては、一般に用いられている有機溶媒であればいずれでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、 ヘキサン 、ヘプタン等が挙げられ、イソブタン、プロパン等の液化ガス、プロピレン、１−ブテン、１−オクテン、１−ヘキセンなどのオレフィンを溶媒として用いることもできる。

• 公開日：2015/02/19
• 出典：超高分子量ポリエチレン粒子およびそれよりなる成形体
• 出願人：東ソー株式会社

２，５−ビス（ヒドロキシメチル）テトラヒドロフランを作製する方法であって、１，２，５，６− ヘキサン テトラオールを２，５ビス（ヒドロキシメチル）テトラヒドロフランに変換するのに十分な時間および圧力、１１０℃〜１５０℃の間の温度で、１，２，５，６−ヘキサンテトラオールを含む混合物を、酸触媒であるトリフレート化合物と接触させることを含む、方法。

• 登録日：2018/12/14
• 出典：Ｒ－グルコシド、糖アルコール、還元糖アルコールおよび還元糖アルコールのフラン誘導体の合成
• 出願人：アーチャーダニエルズミッドランドカンパニー

...２−（トリエトキシシリル）エタン、１−（ビス４−メチルピペラジン−１−イルエトキシシリル）−２−（メチルジエトキシシリル）エタン、１−（ビス４−メチルピペラジン−１−イルエトキシシリル）−２−（ジメチルエトキシシリル）エタン、１−（ジメチルアミノジメチルシリル）−３−チア−６−（トリメトキシシリル） ヘキサン 、１−（ジメチルアミノジメチルシリル）−３−チア−６−（メチルジメトキシシリル）ヘキサン、１−（ジメチルアミノジメチルシリル）−３−チア−６−（ジメチルメトキシシリル）ヘキサン、１−（ジメチルアミノジメチルシリル）−３−チア−６−（トリエトキシシリル）ヘキサン、１−（ジメチルアミノジメチルシ...

• 公開日：2017/08/17
• 出典：ビスシリル化合物およびその製造方法
• 出願人：信越化学工業株式会社

このような無機粒子を原料として使用するため、疎水性無機粒子の比重は、後述する ヘキサン 、水よりも大きい。

• 登録日：2018/08/10
• 出典：放熱部材用樹脂組成物および電子部品装置
• 出願人：住友ベークライト株式会社

...疎水性無機粒子と、表面修飾されていない無機粒子と、を含有する無機充填材と、樹脂と、を含む、放熱部材用樹脂組成物であって、前記疎水性無機粒子は、前記疎水性無機粒子１質量部に対して、２００質量部のエタノールを添加して、１０分間超音波洗浄を行ない、固液分離を行った後、乾燥した前記疎水性無機粒子０．１ｇを、 ヘキサン と水とを体積比１：１で混合した混合液４０ｇに分散させたときに、５０質量％以上の疎水性無機粒子がヘキサンを含む相に移行するものであり、前記無機充填材が体積基準粒度分布の極大点を複数有するものであり、最も小さい前記極大点を含む粒径の範囲が前記疎水性無機粒子で構成される、放熱部材用樹脂組成物。

• 登録日：2018/08/10
• 出典：放熱部材用樹脂組成物および電子部品装置
• 出願人：住友ベークライト株式会社

その理由は、ゴマの種子を ヘキサン 及び酢酸エチルで抽出することにより、セサモリンを多く溶出させることができるからである。

• 公開日：2017/02/02
• 出典：β‐セクレターゼ阻害剤、並びに該阻害剤を含む医薬製剤及び飲食品
• 出願人：学校法人近畿大学

フラッシュクロマトグラフィ(SiO2、 ヘキサン 〜10% EtOAc/ヘキサン)処理して、4.12g(96%)のシリルエーテルを得た。

• 登録日：2018/06/22
• 出典：ネオセプチン：低分子アジュバント
• 出願人：ザスクリプスリサーチインスティチュート

...含フッ素アルカンの炭素数は、５〜２０が好ましく、６〜１０がより好ましい。含フッ素アルカンはアルカンの水素原子のすべてがフッ素原子に置き換わったペルフルオロアルカンでもよいし、水素原子の一部がフッ素原子に置き換わったハイドロフルオロアルカンでもよい。 含フッ素アルカンとしては、例えば、ペルフルオロ ヘキサン 、ペルフルオロヘプタン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロノナン、ペルフルオロデカン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、ペルフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキサン）、ペルフルオロデカリン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，...

• 公開日：2020/03/26
• 出典：細胞の製造方法、キット
• 出願人：旭硝子株式会社