プロセス条件 の意味・用法を知る
プロセス条件 とは、電子写真における制御・管理・保安 や電子写真における制御・保安 などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社リコー や株式会社東芝 などが関連する技術を1,830件開発しています。
このページでは、 プロセス条件 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
プロセス条件の意味・用法
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...りシリコン酸化膜及び窒化シリコン膜の積層膜をエッチングする第1のエッチングと、シリコン酸化膜をエッチングする第2のエッチングとを制御し、下部電極に印加される単位面積当たりのバイアス用の高周波電力は、1.4W/cm2〜5.7W/cm2であり、前記単層膜よりも前記積層膜のエッチングレートが高くなる第1の プロセス条件 で前記第1及び第2のエッチングを行う第1のステップと、前記積層膜よりも前記単層膜のエッチングレートが高くなる第2のプロセス条件で前記第1及び第2のエッチングを行う第2のステップとを複数回繰り返し、前記第1のプロセス条件と前記第2のプロセス条件とは異なるDuty比を有する、エッチング処理方...
- 公開日:2016/12/08
- 出典:エッチング処理方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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少量のデータで所望の プロセス条件 における輪郭を高精度で抽出することができるパターン輪郭抽出装置を提供する。
- 公開日:2017/02/16
- 出典:パターン輪郭抽出装置、パターン輪郭抽出方法およびパターン輪郭抽出プログラム
- 出願人:東芝メモリ株式会社
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プラズマを維持させながら プロセス条件 を切り替えて所望のエッチングを行う際、高周波の反射波を抑えてプラズマを安定させることを目的とする。
- 公開日:2016/06/20
- 出典:プラズマエッチング方法
- 出願人:東京エレクトロン株式会社
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...に電磁エネルギーを供給するプラズマ発生部と、前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、前記載置部の寸法に関する情報、および前記被処理物の寸法に関する情報の少なくともいずれかとから被処理領域における合成静電容量を演算し、前記演算された合成静電容量に基づいて、プラズマ処理における プロセス条件 を演算する演算部と、前記演算されたプロセス条件に基づいて、前記プラズマ処理の制御を行う制御部と、を備えている。
- 公開日:2015/04/09
- 出典:プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
- 出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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ジョブの順序を入れ替えることなく、ジョブ間の プロセス条件 変更の際に発生する待ち時間を低減する。
- 公開日:2014/12/15
- 出典:画像形成装置及び画像形成装置制御方法
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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エチレンフロー及びCTA分配は表1及び1Bに記載し、更なる プロセス条件 及び誘導されるポリマー特性及びフィルムデータは表3A及び3Bに与える。
- 公開日:2014/11/20
- 出典:低密度エチレン系ポリマー調製のための新しいエチレンの分配を有する重合プロセス
- 出願人:ダウグローバルテクノロジーズインコーポレイテッド
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記録紙のいずれかの領域を分担して画像形成することが可能に複数の画像形成装置が直列に接続されて構成された画像形成システムであって、各画像形成装置は、用紙に画像をプリントする画像形成部と、前記画像形成部において、設定される目標濃度に応じてプリントの際の プロセス条件 を調整するプロセス条件調整機能、及び、調整されたプロセス条件のもとでテストチャートを出力するチャート出力機能を有する制御部と、を備えて構成され、各画像形成装置で連動して、調整可能な範囲内において前記プロセス条件を複数回変更すると共に、前記プロセス条件を複数回変更する毎に前記テストチャートを出力する。
- 公開日:2015/09/07
- 出典:画像形成システム及び画像形成制御プログラム
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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半導体装置の製造方法は、ハロゲン元素を含むクリーニングガスにより内部の部材に付着した酸化膜が除去された処理室内に、水素および酸素を含むパージガスを、第1の プロセス条件 で供給して排気する工程と、パージガスを第1のプロセス条件で供給して排気する工程の後、パージガスを、第1のプロセス条件とは異なる第2のプロセス条件で処理室内に供給して排気する工程と、を有し、第1のプロセス条件は第2のプロセス条件より、クリーニングガスを処理室内に供給した際に処理室内に残留するハロゲン元素とパージガスとの反応性が高いようなプロセス条件である。
- 公開日:2017/01/05
- 出典:半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
- 出願人:株式会社日立国際電気
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本発明は、スラグ温度がプロセスの操作温度範囲にある場合、容器内の金属及びスラグの溶融浴中の溶融スラグが0.5〜5ポアズの範囲の粘度を有するように、直接製錬容器内の プロセス条件 を制御することを含む溶融浴型の直接製錬プロセスを提供する
- 登録日:2016/02/05
- 出典:直接製錬プロセス
- 出願人:テクノロジカルリソーシーズプロプライエタリーリミテッド
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本発明は、薄膜を複数の プロセス条件 で処理する短いエッチングにおいて、プロセス条件変更に伴い発生する発光変動を発光データ補正器により補正する事により、安定して終点検出が出来ることを特徴とする。
- 公開日:2012/04/19
- 出典:プラズマ処理装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
プロセス条件の原理 に関わる言及
プロセス条件の問題点 に関わる言及
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フィッシャートロプシュ反応器は、スラリー床反応器、固定床反応器、流動床反応器、その組合せ等を含むが制限されない任意の適切な反応器とすることができる。好ましい実施形態において、フィッシャートロプシュ反応器はコバルト触媒を用いるスラリー床反応器である。さらに、好ましい実施形態において、 プロセス条件 及び触媒は、水ガス移相反応がある程度まで進まないように選択される。
- 公開日: 2007/05/17
- 出典: 二重機能性合成ガス変換の使用によるフィッシャートロプシュ設備からのCO2放出の制御
- 出願人: シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド
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この化学的機械的研磨システム100を用いた化学的機械的研磨方法について説明する。ここで、被研磨膜は、低誘電率膜であり疎水性の膜となっている。この研磨方法は、所定の プロセス条件 における被研磨ウェハの被研磨膜の化学的機械的研磨方法である。
- 公開日: 2006/10/19
- 出典: 化学的機械的研磨方法及び化学的機械的研磨システム
- 出願人: ルネサスエレクトロニクス株式会社
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また、像形成物質除去処理を行なって像保持体を繰り返し使用していくと、該像形成物質除去処理の履歴によって、該像保持体の状態が変化し、該像保持体に対する最適な像形成物質除去処理の プロセス条件 、例えば、像保持体の損傷を最小限に抑えるとともに像形成物質を完全に除去することができる処理条件が変化してしまうおそれもある。
- 公開日: 1995/07/21
- 出典: 像保持体からの像形成物質除去装置
- 出願人: 株式会社リコー
プロセス条件の特徴 に関わる言及
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太陽電池の発電層の形成時もしくは形成した段階で、製造後の太陽電池の発電性能を予測し、 プロセス条件 の最適化時間を短縮し、プロセス異常を検知することができる太陽電池の製造工程における発電性能の予測方法を提供する。
- 公開日: 2014/01/16
- 出典: 太陽電池の製造工程における発電性能の予測方法、並びにそれを用いた製造工程における最適化方法及び異常検知方法
- 出願人: 独立行政法人産業技術総合研究所
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ここで、処理手順であるレシピとは、少なくとも処理すべき処理ユニットを特定する情報を含み、さらに好ましくは、各処理ユニットにおける実処理時間と、そのユニットにおける プロセス条件 等のプロセス処理手順を含む。
- 公開日: 2001/12/14
- 出典: 基板処理システム
- 出願人: 東京エレクトロン株式会社
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ところが、トナー像担持回転体上のトナー像を静電一次転写方式で中間転写回転体上に一次転写するとき、中間転写回転体の電極の全体に画一的に電圧を印加すると、各種の プロセス条件 に対応したトナー像の一次転写を行うことはできない。
- 公開日: 2002/04/19
- 出典: 画像形成装置
- 出願人: 株式会社リコー
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また、トナー像担持回転体上のトナー像を静電一次転写方式で中間転写回転体上に一次転写するとき、従来は、中間転写回転体の電極の全体に画一的に電圧を印加していたので、各種の プロセス条件 に対応したトナー像の一次転写を行うことはできなかった。
- 公開日: 1994/04/28
- 出典: 画像形成装置
- 出願人: 株式会社リコー
プロセス条件の使用状況 に関わる言及
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このようにして、インキの温度の目標値が、変化する プロセス条件 に常に適合させられており、それにより、印刷機の各個別のインキ装置における最適の作動の仕方が確立される。
- 公開日: 1995/11/07
- 出典: 印刷機におけるインキの移行の制御のための方法
- 出願人: ライノタイプ-ヘルアクチエンゲゼルシャフト
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初期のpH、脱水の方法および条件、並びに熱抑制の温度、時間および条件を含めた プロセス条件 を変化させることによって、抑制のレベルを変動させて、最終の熱抑制された多糖における異なる粘度特性を供することができる。
- 公開日: 2010/11/04
- 出典: 熱抑制された多糖類および製法
- 出願人: コーンプロダクツディベロップメントインコーポレーテッド
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初期のpH、脱水方法、および条件、並びに熱抑制温度、時間および条件を含めた プロセス条件 を変化させることによって、抑制のレベルを変動させて、最終の熱抑制された多糖における異なる粘度特性を供することができる。
- 公開日: 2009/11/19
- 出典: 熱抑制された多糖類および製法
- 出願人: コーンプロダクツディベロップメントインコーポレーテッド
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電子写真における制御・保安
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- 装置の形式(1)基板支持の形態・成膜中の基板の運動 図面+詳細な説明に例示されている形式をすべて付与する(除く従来例)
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