ファイバー状 の意味・用法を知る
ファイバー状 とは、ナノ構造物 や塗布装置2(吐出、流下) などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社サンツール や三井造船株式会社 などが関連する技術を3,194件開発しています。
このページでは、 ファイバー状 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
ファイバー状の意味・用法
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ファイバー状 材料の開繊状態を保持して活物質層を均一に形成することができるファイバー状電極の製造設備および製造方法を提供する。
- 公開日:2014/03/13
- 出典:ファイバー状電極の製造設備および製造方法
- 出願人:川崎重工業株式会社
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本発明の製造方法によれば、六方最密充填構造を有する ファイバー状 ニッケルが得られる。
- 公開日:2012/06/21
- 出典:ファイバー状ニッケルおよびその製造方法
- 出願人:国立大学法人九州大学
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チューブ状又は ファイバー状 のポリアニリンの表面が、粒子状酸化チタンが連なってなる被覆層で被覆されてなることを特徴とするチューブ状又はファイバー状の酸化チタン−ポリアニリン複合体。
- 公開日:2012/10/25
- 出典:酸化チタン-ポリアニリン複合体
- 出願人:大阪瓦斯株式会社
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強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子において、基体と、前記基体上に突起形状を有する直径が10nm以上であり、かつ、高さが100nm以上100μm以下である ファイバー状 のナノ炭素材料と、を具備することを特徴とする電子放出素子。
- 公開日:2010/06/10
- 出典:電子放出素子及びその製造方法並びに面発光素子
- 出願人:凸版印刷株式会社
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コバルト又はコバルト化合物からなる触媒を基体11表面に担持し、基体11を酸化雰囲気中で850℃以上1100℃以下の範囲で熱処理した後、基体11をオクタンチオール15中で加熱することで、基体11上に ファイバー状 のナノ炭素材料12を合成する。
- 公開日:2010/06/10
- 出典:ナノ炭素材料複合体
- 出願人:国立研究開発法人物質・材料研究機構
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カーテン ファイバー状 スプレー塗布方法において、加圧空気流の前方および後方に、加圧空気流と間隔をおいて第2加圧空気孔より吐出する第2加圧空気流を形成し、第1加圧空気流K1の外側に、第2加圧空気流K2を供給することで、カーテンファイバー状ホットメルト接着剤の前方側および後方側に第2加圧空気流によるエヤーカーテンを形成することで、随伴エヤーの発生を阻止、随伴エヤーを遮断する。
- 公開日:2002/04/09
- 出典:カーテンファイバー状スプレー塗布装置
- 出願人:株式会社サンツール
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安価なアルカリ珪酸塩をシリカ源として用い、安全性の高い非イオン性界面活性剤をテンプレートとして使用し、更に低温、常圧下、比較的短時間で合成できる、ロッド状或は ファイバー状 多孔質シリカ粒子乃至シリカ金属複合体粒子及びその製造方法を提供する。
- 公開日:2003/12/03
- 出典:定形多孔質シリカ乃至シリカ金属複合体粒子及びその製造方法
- 出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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着色剤と樹脂と非水溶媒を主成分とする電子写真用液体現像剤において、トナー粒子の形状が球形状、 ファイバー状 、無定形状の少なくとも2種の組合せたものからなることを特徴とする。
- 公開日:1997/02/18
- 出典:電子写真用現像剤
- 出願人:株式会社リコー
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(A)一種もしくは二種以上の耐火性無機材料から成る耐火物骨材が73重量%以上96重量%以下、(B) ファイバー状 金属アルミニウムが0.1重量%以上0.5重量%以下、(C)フレーク状の金属アルミニウム粉末が1重量%以下5重量%以上、(D)炭素質粉末が2重量%以上10重量%以下、(E)金属シリコン粉末が、前記ファイバー状金属アルミニウムとフレーク状金属アルミニウム粉末の合計重量%に対し0.2倍乃至2倍の割合、の原料から成る混合物100重量%に対して、バインダーとして、熱硬化性樹脂を外配で3重量%以上10重量%以下添加し、混練、成型、焼成して得られた焼成耐火物より成る。
- 公開日:1999/07/27
- 出典:スライドゲート用プレートとその製造方法
- 出願人:コバレントマテリアル株式会社
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カーテン ファイバー状 接着剤のスプレー塗布装置の製造コストの低減
- 公開日:1994/07/19
- 出典:カーテンファイバー状接着剤のスプレー塗布装置
- 出願人:株式会社サンツール
ファイバー状の問題点 に関わる言及
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得られる成形物の形状は、特に限定されず、フィルム状、シート状、球状、棒状。板状、柱状、 ファイバー状 、筒状など、いかなる形状のものであってもよい。これらの中でも、フィルム状又はシート状が好ましい。
- 公開日: 2007/01/18
- 出典: 成形体、透明導電性のフィルム又はシート、及びフラットパネルディスプレイ
- 出願人: 日本ゼオン株式会社
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なお、 ファイバー状 の粒体の生成に適切な液体を用いた場合であっても、その液体の攪拌を行うことなくゾルの液滴を投入すると、ファイバー状の粒体の生成はごく限られた量となる。ファイバー状の粒体を得るためには、液体を攪拌しながら金属酸化物ゾルの液滴を投入することが好ましい。
- 公開日: 2014/06/09
- 出典: 金属酸化物を含む粒体の製造方法および金属酸化物コロイド粒子の凝集体の製造方法
- 出願人: 日本板硝子株式会社
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上記手段を用いて、塗布幅にわたり、連続 ファイバー状 ではなく、不連続な液滴状に飛散させることにより、塗布液が少量であっても、均一に、塗布液を被塗布体上に供給できる。結果として、塗布膜厚を均一にすることができる。また、不連続な液滴の被塗布体上への供給であって、塗布液量が少なくなるので、乾燥負荷もかからない。
- 公開日: 2005/07/21
- 出典: 塗布装置及び塗布方法
- 出願人: コニカミノルタフォトイメージング株式会社
ファイバー状の特徴 に関わる言及
注目されているキーワード
関連する分野分野動向を把握したい方
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非携帯用の照明装置またはそのシステム
- 投光装置の用途
- 投光装置の共通事項
- 投光装置の灯具のタイプ
- 投光装置のハウジング(灯室内は除く)
- 投光装置の反射部
- 投光装置の屈折器
- 投光装置のスクリーンまたは非反射部材
- 投光装置の要素の組合せに特徴があるもの
- 投光装置の光源の取り付け
- 投光装置のビームの形状又は方向の変更
- 投光装置の保護(破損,加熱防止,防水等)
- 投光装置であって色光を発散させるもの
- 信号用照明装置の用途
- 信号用照明装置の目的
- 信号用照明装置の光源
- 信号用照明装置の屈折器
- 信号用照明装置の反射器
- 信号用照明装置のハウジングに特徴
- 信号用照明装置のその他の部材に特徴
- 信号用照明装置の固着方法
- 信号用照明装置の可動部材
- 信号用照明装置の部材の取り付け
- 装飾用,舞台用等,噴水用照明装置の目的
- 装飾用,舞台用等,噴水用照明装置の光源
- 装飾用照明装置の用途
- 装飾用照明装置の装飾用手段
- 装飾用照明装置の形状,材料
- 装飾用照明装置の装飾効果を変化させるもの
- 舞台用等照明装置の用途
- 舞台用等照明装置の照明効果が可変なもの
- 舞台用等照明装置の移動可能なもの
- 舞台用等照明装置の細部
- 噴水用照明装置の照明効果を高めるもの
- 噴水用照明装置の構造
- 他に分類されない電気的照明装置
- 他に分類されない非電気的照明装置
- 電気的と非電気的光源を組み合わせた照明
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重金属無機化合物(I)
- 構成元素(亜鉛化合物)
- 製造および処理(亜鉛化合物)
- 有用性(亜鉛化合物)
- 形状・構造(亜鉛化合物)
- 構成元素(カドミウム硫化物)
- 製造および処理(カドミウム硫化物)
- 有用性(カドミウム硫化物)
- 形状・構造(カドミウム硫化物)
- 構成元素(チタン化合物)
- 製造および処理(チタン化合物)
- 有用性(チタン化合物)
- 形状・構造(チタン化合物)
- 超電導材料の形状
- 材料のマクロ,ミクロ構造,物性の特定
- 超電導材料の組成(クレ−ム)
- 製法1 原料、原料混合物の調整
- 製法2 固体原料の焼成によるもの
- 製法3 溶液からの晶出、融液からの製造
- 製法4 基板上への膜形成(気相法を除く)
- 製法5 気相からの製造(蒸着)
- 製法6 気相からの製造(CVD)
- 気相法共通
- 超電導材料の処理・その他
- 用途(クレ−ム)
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結晶、結晶のための後処理
- 目的・対象とする結晶の形態
- 結晶自体の特徴(クレーム)
- 材料1(元素状、合金)
- 材料2(酸化物)
- 材料3(複合酸化物)
- 材料4(酸素酸塩)
- 材料5(〜化物)
- 材料6(有機物)
- 固相成長
- 液相成長1(常温で液体の溶媒を使用する)
- 液相成長2(溶融溶媒を使用するもの)CG優先
- 液相成長3(融液の凝固によるもの)
- 液相成長4(ゾーンメルティング)
- 液相成長5(融液からの引き出し)
- 液相成長6(液相エピタキシャル)
- 気相成長1(蒸着、昇華)
- 気相成長2(CVD)
- 結晶成長共通1(成長条件の制御)固相成長を除く
- 結晶成長共通2(不純物のドーピング)
- 結晶成長共通3(原料の調製、原料組成)
- 結晶成長共通4(種結晶、基板)
- 結晶成長共通5(成長前の基板の処理、保護)
- 結晶成長共通6(基板への多層成長)
- 結晶成長共通7(装置、治具)
- 結晶成長共通8(検知、制御)
- 結晶成長共通9(特定の成長環境の付加)
- 後処理1(拡散源、その配置)
- 後処理2(後処理のための基板表面の前処理)
- 後処理3(気相からのドーピング)
- 後処理4(電磁波、粒子線照射によるドーピング)
- 後処理5(加熱、冷却処理)
- 後処理6(結晶の接合)
- 後処理7(エッチング、機械加工)
- 後処理8(電場、磁場、エネルギー線の利用)
- 後処理9(その他)
- 後処理10(装置、治具の特徴)
- 結晶の物理的、化学的性質等の評価、決定
- 用途
- 固相からの直接単結晶成長
- 単結晶成長プロセス・装置
- 圧力を加えるもの 例、水熱法
- 塩溶媒を用いるもの 例、フラックス成長
- るつぼ、容器またはその支持体
- ノ−マルフリ−ジングまたは温度勾配凝固
- ゾ−ンメルティングによる単結晶成長、精製
- 溶媒を用いるもの
- るつぼ、容器またはその支持体
- 誘導による溶融ゾ−ンの加熱
- 電磁波による加熱(集光加熱等)
- 制御または調整
- 材料またはヒ−タ−の移動機構、保持具
- 融液からの引出し(保護流体下も含む)
- 結晶化物質(原料)、反応剤の充填、添加
- 引出し方向に特徴
- 融液を入れるるつぼ、容器またはその支持体
- 融液、封止剤または結晶化した物質の加熱
- 制御または調整
- 融液、封止剤、結晶の回転、移動機構
- 種結晶保持器
- 種結晶
- 縁部限定薄膜結晶成長
- 液相エピタキシャル成長
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
- PVD
- イオン化蒸気の凝縮
- 分子線エピタキシャル法
- CVD
- エピタキシャル成長法、装置
- 製造工程
- 反応室
- 反応室または基板の加熱
- 基板保持体またはサセプタ
- 基板とガス流との関係
- ガスの供給・排出手段;反応ガス流の調節
- 制御または調節
- 基板
- 特殊な物理的条件下での単結晶成長
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炭素・炭素化合物
- 炭素・炭素化合物1(種類)
- 炭素・炭素化合物2(形状)
- 炭素・炭素化合物3(数値限定)
- 炭素・炭素化合物4(構造、性質、用途)
- 製造1(炭素原料、炭素前駆体)
- 製造2(前処理、ピッチ等の製造・処理)
- 製造3(製造工程、製造条件)
- 活性炭製造時の賦活・活性化、活性炭の再生
- 処理、後処理1(洗浄、精製、分離回収)
- 処理、後処理2(その他)
- 装置
- 一酸化炭素、二酸化炭素
- 原料、前駆体
- 製造、処理、取扱(ドライアイスはLA)
- 除去すべき不純物
- 二酸化炭素の固体化(ドライアイスの製造)
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物1(種類)
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物2(その他)
- 原料、前駆体
- 炭化物、炭素・硫黄含有化合物の製造
- 処理、後処理、取扱
- 装置