パターン形状 の意味・用法を知る
パターン形状 とは、ホトレジスト感材への露光・位置合せ や半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) などの分野において活用されるキーワードであり、ソニー株式会社 や株式会社東芝 などが関連する技術を21,774件開発しています。
このページでは、 パターン形状 を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
パターン形状の意味・用法
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パターン形状 を精度良く算出できる形状算出プログラムを提供する。
- 公開日:2017/03/16
- 出典:形状算出プログラム、形状算出装置および形状測定方法
- 出願人:東芝メモリ株式会社
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...、前記パラメータ測定工程で得られたパラメータに基づき、前記パラメータのばらつきを減じるように補正されたパターンデータを作製し、前記パターンデータを用いてパターン露光を行い、前記電子部品が、第1電極と、層間絶縁膜と、第2電極とが積層されたMIM型キャパシタを含み、前記フォトレジスト露光工程で補正される パターン形状 が、前記第2電極を形成するためのパターン形状である、電子部品の製造方法。
- 登録日:2018/08/10
- 出典:電子部品の製造方法
- 出願人:株式会社村田製作所
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請求項1において、前記演算装置は、前記露光条件の変化に対する パターン形状 の変化の大きさに基づく情報と、同じ形状のパターンの数の情報を用いて、パターン評価値を算出することを特徴とするパターン測定条件設定装置。
- 公開日:2017/04/20
- 出典:パターン測定条件設定装置、及びパターン測定装置
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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簡便な方法で、モールドと基板のアライメントマークの検出を高精度に検出することが可能となり、スループット性の良い パターン形状 を有する膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子機器の製造方法を提供する。
- 公開日:2015/04/09
- 出典:パターン形状を有する膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子機器の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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感度、 パターン形状 、解像度および残膜性がそれぞれバランスよく優れたフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
- 公開日:2013/12/19
- 出典:フォトレジスト用樹脂組成物の製造方法、フォトレジストの製造方法および液晶デバイスの製造方法
- 出願人:住友ベークライト株式会社
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本発明の課題は、被蒸着面に所定の パターン形状 の蒸着膜を形成する場合に、被蒸着体が熱変形しても、当該被蒸着体の被蒸着面に傷や削れ等が発生することを抑制できる蒸着用マスクを提供することである。
- 公開日:2015/03/23
- 出典:蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
- 出願人:コニカミノルタ株式会社
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本発明の画像処理装置は、検査又は計測すべき パターン形状 のSEM像から得られた複数の輪郭線座標データを格納する格納部707と、複数の輪郭線座標データのそれぞれに対してSEM像が撮像された視野の位置情報を加える移動部709と、位置情報が加えられた複数の輪郭線座標データの間のズレを補正する補正部711と、補正部711によって補正された複数の輪郭線座標データを1つの広視野輪郭線座標データに統合する統合部713と、を備える。
- 公開日:2014/02/06
- 出典:半導体の輪郭線データを広視野化する画像処理装置、及びコンピュータプログラム
- 出願人:株式会社日立ハイテクサイエンス
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電子機器などに用いられる電極金属の形成に際して好適に用いることができる積層フィルムに関し、エッチングなどのウエットプロセス工程で電極となる金属層を パターン形状 へ加工するに際し、パターン形状の線脱落や線欠けなどの不良が発生し難い回路用積層フィルムを提供する。
- 公開日:2014/02/03
- 出典:積層フィルム
- 出願人:東レ株式会社
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高解像性と共に、良好な パターン形状 を与えることができるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を使用した、保護膜を形成して行う液浸リソグラフィーにおけるパターン形成方法の提供。
- 公開日:2013/02/28
- 出典:ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
- 出願人:信越化学工業株式会社
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具体的には、レジスト層3X内の光学像強度分布やレジストパターン3Aの パターン形状 に基づいて、ウェハ上に配置する回折パターン1Cのパターン形状を定めておく。
- 公開日:2011/06/30
- 出典:光学像強度算出方法、パターン生成方法、半導体装置の製造方法および光学像強度分布算出プログラム
- 出願人:株式会社東芝
パターン形状の原理 に関わる言及
パターン形状の問題点 に関わる言及
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解決しようとする問題点は、上述したように、感度及び密着性に優れ、適切な パターン形状 や微細パターンを得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2009/11/26
- 出典: 新規化合物、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
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解決しようとする問題点は、上述したように、撥インク性とアルカリ現像性に優れ、感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等の特性を保持したままで適切な パターン形状 や微細パターンを効率よく得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2009/01/29
- 出典: 含フッ素共重合体、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
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解決しようとする問題点は、上述したように、感度が充分で、適切な パターン形状 や微細パターンを得ることのできるアルカリ現像型感光性樹脂組成物及び着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2008/12/18
- 出典: アルカリ現像型感光性樹脂組成物、それを用いて形成した液晶分割配向制御突起付き基板及びカラーフィルタ、並びに液晶表示装置
- 出願人: 凸版印刷株式会社
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解決しようとする問題点は、上述したように、感度及び耐アルカリ性に優れ、適切な パターン形状 や微細パターンを得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物、及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
- 公開日: 2008/09/11
- 出典: フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
- 出願人: 株式会社ADEKA
パターン形状の特徴 に関わる言及
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かかる露光工程においては、基板上のレジスト膜に対して、DUV露光装置、EUV露光装置、電子線描画装置、X線露光装置、エキシマレーザ露光装置等の露光装置を用いて、所定の パターン形状 を有するマスクを介した露光、又は当該マスクを介さない電子線の直接照射により描画等を行う。
- 公開日: 2013/03/04
- 出典: レジストパターン形成方法、並びにそれを用いたナノインプリント用モールド、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法
- 出願人: 大日本印刷株式会社
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微細なパターンを含むフォトマスクの パターン形状 の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供する。
- 公開日: 2001/04/13
- 出典: マスクパターン形状計測評価装置
- 出願人: 凸版印刷株式会社
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LCDなどの製造に使用される階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥部修正方法において、多大な時間を要せず簡単な方法で修正箇所の最適な修正用 パターン形状 を決め、その最適な修正用パターン形状に基づいて欠陥部を修正する欠陥部修正方法および修正後の修正部の評価方法を提供する。
- 公開日: 2008/02/14
- 出典: 階調をもつフォトマスクの欠陥部修正方法および修正箇所の評価方法
- 出願人: 大日本印刷株式会社
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装置の構成を変更することなく、被処理体の表面に対して処理を行うための所望の パターン形状 に応じて、被処理体の表面に対して部分的に確実に表面処理を行うことができる表面処理装置および表面処理方法を提供すること。
- 公開日: 2005/04/28
- 出典: 表面処理装置および表面処理方法
- 出願人: セイコーエプソン株式会社
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すなわち、任意の抵抗値を得る場合、抵抗体材料の導電率、抵抗体の パターン形状 、つまり抵抗体の長さと幅、抵抗体の膜厚により抵抗値は決定されるもので、概ね抵抗値は下記の式により決定される。
- 公開日: 2001/09/21
- 出典: 薄膜多連チップ抵抗器
- 出願人: パナソニック株式会社
パターン形状の使用状況 に関わる言及
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高い透明性と高い解像度を併せ持ち、かつ高感度であり、さらに塗布均一性、現像性、 パターン形状 、耐熱性、保存安定性等を満足する光硬化性樹脂組成物を提供することである。さらに、該光硬化性樹脂組成物を用いた表示素子を提供すること。
- 公開日: 2004/03/11
- 出典: 光硬化性樹脂組成物およびそれを用いた表示素子
- 出願人: チッソ株式会社
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近年、微細 パターン形状 の薄膜を形成するために、ネガ型ではなく、ポジ型の感光性組成物が開発されてきている。ポジ型の感光性組成物では、現像に際し、露光部の感光性組成物が現像液に確実に溶解し得ることが強く求められた。
- 公開日: 2009/11/12
- 出典: 感光性組成物及びパターン膜の製造方法
- 出願人: 積水化学工業株式会社
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
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- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜