パターン の意味・用法を知る
パターン とは、半導体の露光(電子、イオン線露光を除く) やホトレジスト感材への露光・位置合せ などの分野において活用されるキーワードであり、株式会社東芝 やキヤノン株式会社 などが関連する技術を1,023,562件開発しています。
このページでは、 パターン を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
パターンの意味・用法
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幅広及び幅狭部の第1の パターン を有する、基板上の第1の材料と、前記第1のパターンに相補的な幅広及び幅狭部の第2のパターンを有する、基板上の第2の材料とを備える構造物。
- 公開日:2015/03/05
- 出典:周期的に変調した構造物の共押出
- 出願人:パロアルトリサーチセンターインコーポレイテッド
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ステータに巻き取られるコイルを外部の電源モジュールにガイドするガイド部材の構造において、コイルガイド溝内部に振動防止 パターン を設けて、モータ駆動時にコイルの安定した固定力を実現し、コイル振動による騒音を解消してより安定なハンドル操作を可能とする。
- 公開日:2016/12/28
- 出典:モータ用ガイド部材、これを含むステータ及びモータ(ROUTER FOR MOTOR、STATOR AND MOTOR USING THE SAME)
- 出願人:エルジーエレクトロニクスインコーポレイティド
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前記表面の少なくとも一部をアブレーションすることは、凹部の第1 パターン を形成することを含み、前記第1パターンは、前記アレイの隣接する凹部の間に、少なくとも10マイクロメートルであり、かつ100マイクロメートル以下のピッチを有する、請求項15〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 公開日:2017/12/28
- 出典:入射光の散乱を管理する方法、及びそれにより形成される物品
- 出願人:スリーエムイノヴェイティヴプロパティーズカンパニー
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前記対象画素および前記対象画素の周囲の画素を含む領域に相当するイメージマトリクスが、エッジかつ段差の部分を示す1以上の第1の パターン のいずれかと一致するか否かを判定する第1のパターンマッチング部をさらに備え、前記第1の変換部は、前記イメージマトリクスが、何れかの前記第1のパターンと一致する場合、該第1のパターンに紐付く前記細線化処理、スムージング処理、および、前記解像度変換処理を行う、請求項9に記載の画像処理装置。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:画像処理装置、画像形成装置および画像処理方法
- 出願人:株式会社リコー
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メモリの数の増加を抑えつつ、より高速に パターン 判別を行うための技術を提供すること。
- 公開日:2017/04/06
- 出典:パターン判別装置、情報処理装置、パターン判別方法
- 出願人:キヤノン株式会社
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また、検知プログラムは、 パターン データを所定の事象の時間順に結合した学習モデルを構築する処理をコンピュータに実行させる。
- 公開日:2017/07/20
- 出典:検知プログラム、検知方法および検知装置
- 出願人:富士通株式会社
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高表面張力を示す塗布組成物を使用しても簡便に パターン を形成することができる配線基板の製造方法、及び配線基板を提供する。
- 公開日:2017/02/09
- 出典:配線基板の製造方法、及び配線基板
- 出願人:デクセリアルズ株式会社
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前記モデルは、前記変化が比較される パターン を含み、前記出力は、前記変化が前記パターンと閾範囲内で一致するかどうかに依存する、請求項1に記載のデバイス。
- 公開日:2017/11/24
- 出典:物質の弾性変形によるユーザ入力
- 出願人:インテルコーポレイシヨン
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その際、投影する複数のグレイコード パターン の合成値であるグレイコードの周期は、縞パターンの周期よりも短い。
- 公開日:2018/04/05
- 出典:3次元形状計測方法及び3次元形状計測装置
- 出願人:JUKI株式会社
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制御装置は、インプリント処理済みの基板における パターン の欠陥分布を取得し、基板へのインプリント材の配置を示すマップ情報を取得し、欠陥分布における欠陥の位置と、マップ情報から予測される、インプリント処理によってインプリント材が押し広げられる過程で生じるインプリント材隙間の位置との関係に基づいて、欠陥の種別を判定する。
- 公開日:2017/09/14
- 出典:パターンの欠陥の分析を行う方法、インプリント装置、及び物品の製造方法
- 出願人:キヤノン株式会社
パターンの原理 に関わる言及
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また合わせずれ量測定装置によって測定した被測定試料の合わせずれ量測定 パターン の測定値に上記方法によって求めた較正値を加算して、被測定試料の合わせずれ量を求めるパターンの合わせずれ量の測定方法である。
- 公開日: 1994/07/08
- 出典: パターン形成方法および合わせずれ量測定装置の較正方法と合わせずれ量の測定方法とその測定装置
- 出願人: 沖電気工業株式会社
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配光 パターン としては、例えば、五つの配光パターンが形成される。五つの配光パターンは、例えば、左右切替用配光パターン、ロービーム用配光パターン、モーターウェイ用配光パターン、片側ハイビーム用配光パターン及びハイビーム用配光パターンである。
- 公開日: 2010/02/18
- 出典: 車輌用前照灯
- 出願人: 株式会社小糸製作所
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入力 パターン の各カテゴリに対する類似度を過去の認識結果に基づいて評価した値で認識結果を判定でき、効率的に精度の高いパターン認識を実現するパターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラム、文字認識プログラム、パターン認識装置および文字認識装置を提供する。
- 公開日: 2011/03/31
- 出典: パターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラム、文字認識プログラム、パターン認識装置および文字認識装置
- 出願人: 株式会社東芝
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このようになっているので、振動伝達装置は、車両振動 パターン との比較に基づいて、記憶された振動パターンのうちから、車両振動パターンと異なる振動パターンの振動を乗員に伝えることができるので、情報の伝達のための振動と、車両の振動との区別が、乗員にとってつき易くなる。
- 公開日: 2006/06/22
- 出典: 車両の乗員に振動で情報を伝えるための振動伝達装置
- 出願人: 株式会社デンソー
パターンの問題点 に関わる言及
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異なる厚さの基板の パターン を測定するための測定器において、再現可能な測定結果を提供し、その際測定器の測定領域内にあるすべての熱源をできるだけ少なくするようにする。
- 公開日: 2001/06/08
- 出典: 異なる厚さの基板のパターンを測定するための測定器および方法
- 出願人: ライカマイクロシステムスヴェツラーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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異なる処理 パターン が適用される被処理物を連続的に処理する場合においても処理工程の途中における待機状態の発生を防止できる搬送処理装置及び被処理物処理方法を提供する。
- 公開日: 2004/04/02
- 出典: コイル状線材処理装置及びコイル状線材処理方法
- 出願人: 日鉄住金テックスエンジ株式会社
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近接場光がレジストに対して深くまで到達し、深いレジスト パターン を形成することが可能となる近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置を提供する。
- 公開日: 2005/04/07
- 出典: 近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置
- 出願人: キヤノン株式会社
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液滴Bの衝突により硬化性組成液Aに微細 パターン が形成されるので、少なくとも硬化性組成液Aが硬化性であればよく、液滴Bは硬化性又は非硬化性のいずれであってもよい。液滴Bが硬化性を有する場合には、硬化性組成液Aと共にあるいは硬化性組成液Aとは別に硬化させるようにすることができる。
- 公開日: 2008/03/21
- 出典: 微細加工装置
- 出願人: 富士フイルム株式会社
パターンの特徴 に関わる言及
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材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、屈折率差を正または負の任意の方向に変化することができる屈折率変化性組成物および該組成物から屈折率 パターン を形成する方法を提供すること。
- 公開日: 2009/08/13
- 出典: 屈折率変化性組成物、屈折率パターンの形成方法、屈折率パターンおよび光学材料
- 出願人: 学校法人神奈川大学
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上記構成によれば、上記生体関連物質の糖鎖に対する特異性を比較し、糖鎖に対する特異性の パターン によって分類することができる。換言すれば、一方の上記生体関連物質の糖鎖に対する相互作用の強さと、他方の上記生体関連物質の糖鎖に対する相互作用の強さとを比較し、それらの傾向によって上記生体関連物質を分類することで、パターニングすることができる。
- 公開日: 2008/07/31
- 出典: 生体関連物質と糖鎖との相互作用の測定方法、生体関連物質の糖鎖選択性の評価方法、生体関連物質のスクリーニング方法、および生体関連物質のパターニング方法、並びにこれらの方法を実施するためのキット
- 出願人: 独立行政法人科学技術振興機構
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効率的に パターン を認識する処理を行うことにより、処理の高速化を図れるパターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラムおよび文字認識プログラムを提供できる。
- 公開日: 2009/09/03
- 出典: パターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラムおよび文字認識プログラム
- 出願人: 株式会社東芝
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複数個の関連のないデータバイトを有するデータストリームにおける所定の パターン の検出を可能にし、検出されるべきパターンのために必要な記憶空間を最小にする配列が必要である。
- 公開日: 1999/05/28
- 出典: データストリームにおける所定のパターンを検出するための装置、データストリームにおける所定のパターンを検出するための方法、およびデータパケットにおける所定のパターンを識別するためのネットワークインターフェイスにおける方法
- 出願人: アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
パターンの使用状況 に関わる言及
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物体の少なくとも部分的に反射する表面を光学的に検査するための方法および装置において、検査時の パターン の精度を安価な方法で改善するための代替的な方法および代替的な装置が得られる。
- 公開日: 2010/10/28
- 出典: 物体の少なくとも部分的に反射する表面を光学的に検査するための方法および装置
- 出願人: カールツァイスオーアイエムゲーエムベーハー
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オブジェクトは生物のオブジェクトおよび無生物のオブジェクトを含むことができることが特に考えられる。生物のオブジェクトの中に含まれるのは、人の顔、および人の指の指紋の パターン 、人の虹彩などのバイオメトリック情報である。
- 公開日: 2012/07/12
- 出典: 画像から得られる情報のインターネットおよびその他の検索エンジンのための検索基準としての使用
- 出願人: ナント・ホールデイングス・アイ・ピー・エル・エル・シー
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ガラス基板への結着性に優れた機能性 パターン を形成することができ、しかも保存安定性の高い機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法を提供する。
- 公開日: 2007/02/22
- 出典: 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
- 出願人: 東京応化工業株式会社
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マスク全面で均一な露光を行うことができ、高精細な微細 パターン を形成することが可能となる近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法を提供する。
- 公開日: 2007/11/08
- 出典: 近接場露光に用いられる被露光物の形成方法、近接場露光方法及び近接場露光方法による素子の製造方法
- 出願人: キヤノン株式会社
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半導体の露光(電子、イオン線露光を除く)
- 半導体の露光の共通事項
- 紫外線,光露光の種類
- 紫外線,光露光用光源
- 光学系
- ステージ,チャック機構,及びそれらの動作
- ウェハ,マスクの搬送
- 露光の制御,調整の対象,内容
- 検知機能
- 検知機能の取付場所
- 制御,調整に関する表示,情報
- 位置合わせマーク
- 位置合わせマークの配置
- 位置合わせマークの特殊用途
- 位置を合わせるべき2物体上のマーク
- 位置合わせマークの光学的検出
- 検出用光学系
- 位置合わせマークの検出一般及び検出の補助
- X線露光
- X線光学系
- X線源
- X線露光用マスク
- レジスト塗布以前のウェハの表面処理
- レジスト塗布
- ベーキング装置
- 湿式現像,リンス
- ドライ現像
- レジスト膜の剥離
- 多層レジスト膜及びその処理
- 光の吸収膜,反射膜