テトラヒドロフラン の意味・用法を知る
テトラヒドロフラン とは、フラン系化合物 や有機低分子化合物及びその製造 などの分野において活用されるキーワードであり、三菱化学株式会社 や住友化学株式会社 などが関連する技術を323,659件開発しています。
このページでは、 テトラヒドロフラン を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
テトラヒドロフランの意味・用法
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本発明の製造方法は反応に害を及ぼす恐れのない有機溶媒を加えて実施してもよい。用いることのできる有機溶媒としては、 テトラヒドロフラン 、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、ペンタン、キシレン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等を例示することができ、上記の溶媒のうち２種類以上を混合してもよい。収率が良い点で、エーテル系溶媒やアミド系溶媒が好ましい。
- 公開日：2016/10/13
- 出典：一置換（フルオロアルキル）エチレン類及びその製造方法
- 出願人：東ソー・ファインケム株式会社
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本明細書では、５−（２−（１−エトキシエトキシ）プロパン−２−イル）−２−メチル−２−ビニル テトラヒドロフラン 、並びに食品及び飲料におけるフレーバー及びアロマの改質剤としての前記化合物の使用が提供される。
- 公開日：2018/02/01
- 出典：アセトアルデヒド前駆体
- 出願人：フィルメニッヒ・ソシエテ・アノニム
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１，４ＢＧからＴＨＦを製造する方法として、特許文献４には、ヘテロポリ酸触媒上で、１，４ＢＧを含有する反応混合物の反応によってＴＨＦを連続的に製造する方法において、反応混合物中の２−（４−ヒドロキシブトキシ）− テトラヒドロフラン と１ｐｐｍ未満の塩基性窒素成分を含有することで、ヘテロポリ酸触媒の寿命を長くすることができることが記載されている。
- 公開日：2017/09/28
- 出典：１，４−ブタンジオール含有組成物
- 出願人：三菱レイヨン株式会社
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Ｃ3〜Ｃ6環式アルコキシという用語は、３〜６個の炭素原子及び少なくとも１個の酸素原子を含有する環（例えば、 テトラヒドロフラン 、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン）を指す。
- 公開日：2017/03/16
- 出典：新規の官能性１，３−ベンゼンジオール及び肝性脳症を治療するためのそれらの使用方法
- 出願人：カンナライフ・サイエンシーズ・インコーポレイテッド
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収率が良い点でエーテルが好ましく、 テトラヒドロフラン がさらに好ましい。
- 公開日：2016/07/07
- 出典：（フルオロアルキル）アレーンの製造方法
- 出願人：東ソー・ファインケム株式会社
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工程ａ）及び／又はｂ）をペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、１，４−ジオキサン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、 テトラヒドロフラン 、メチル−テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、酢酸エチル、アセトン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、グリコール、ｎ−ブタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、エタノール、メタノール、水及びそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの溶媒の存在下で行う、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
- 公開日：2017/12/14
- 出典：２置換１，４−ベンゼンジアミン及びその塩を調製する方法
- 出願人：ノクセル・コーポレーション
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粗 テトラヒドロフラン から高純度テトラヒドロフランを製造する際に、触媒劣化の抑制しつつ、効率よく高純度のテトラヒドロフランを連続的に回収できる、テトラヒドロフランの製造方法を提供する。
- 公開日：2016/05/23
- 出典：テトラヒドロフランの精製方法
- 出願人：三菱レイヨン株式会社
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反応蒸留形式により１，４−ブタンジオールから テトラヒドロフラン を製造する方法において、連続稼働時間の延長を可能にすることにより、工業的に有利なテトラヒドロフランの製造方法を提供する。
- 公開日：2015/11/05
- 出典：テトラヒドロフランの製造方法
- 出願人：三菱レイヨン株式会社
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フラン−２，５−ジメタノール（ＦＤＭ）および／または（ テトラヒドロフラン −２，５−ジイル）ジメタノール（ｂＨＭＴＨＦ）の直鎖モノおよびジアルキルエーテル、それらを調製するための方法、およびそれらの誘導体化合物が記載されている。
- 公開日：2017/01/12
- 出典：フラン−２，５−ジメタノールおよび（テトラヒドロフラン−２，５−ジイル）ジメタノールのモノおよびジアルキルエーテルならびにその両親媒性誘導体
- 出願人：アーチャーダニエルズミッドランドカンパニー
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本発明の テトラヒドロフラン の製造方法は、酸化セリウムと、該酸化セリウムに担持されたレニウムとを含む触媒の存在下、３，４−ジヒドロキシテトラヒドロフランと水素とを反応させてテトラヒドロフランを生成させる工程を含むことを特徴とする方法である。
- 公開日：2017/02/23
- 出典：テトラヒドロフランの製造方法
- 出願人：株式会社ダイセル
テトラヒドロフランの問題点 に関わる言及
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フラン系化合物
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- ナフトフラン：水素添加したもの
- ６員以外環とオルト、ペリ縮合フラン（図面）
- 非縮合シクロペンタｂフラン：水素添加した
- スピロ縮合したフラン
- ６員炭素環とオルト、ペリ縮合フラン
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製；分離；安定化；その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制（反応工学的手法によるもの→ＢＤ）
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤（触媒として明らかなもの→ＢＡ０１〜８５）
- 炭素環構造
- ハロゲン
- ＯＨ，ＯＭ
- エ−テル，アセタ−ル，ケタ−ル，オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン，キノン
- カルボン酸，その塩，ハライド，無水物
- エステル（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトロ、ニトロソ、アミン（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に付与している）
- カルボン酸アミド（Ｃ０７Ｃ２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- オキシム
- 同位元素の種類（Ｃ０７Ｂ５９／００が付与されている場合に、付与している）
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト；イオン交換樹脂（Ｃ０７１／〜１５，２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ハロゲン化炭化水素（Ｃ０７Ｃ１９／〜２５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 安定化剤（混合物は各成分にタ−ム付与）（Ｃ０７Ｃ１７／〜２５／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 炭素骨格（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 官能基（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アルコ−ル（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 製法（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 目的化合物（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- エステルの製法（Ｃ０７Ｃ６７／〜６９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの（Ｃ０７Ｃ６９／０２５ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル（Ｃ０７Ｃ６９／６６〜６９／７３８ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アミノカルボン酸（Ｃ０７Ｃ２２７／２２９のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトリルの製法（Ｃ０７Ｃ２５３／〜２５５／、２６１／０２ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−含有特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−不含特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- チオ誘導体のもつ官能基（Ｃ０７Ｃ３２５／〜３８１／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ビタミンＤ系化合物（Ｃ０７Ｃ４０１／ のいずれかが付与されている場合は、付与している）
- Ｃ≧４不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物（Ｃ０７Ｃ４０５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
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触媒
- 技術主題
- 成分Ｉ特定物質
- 成分ＩＩ無機物質
- 成分ＩＩＩ金属元素
- 成分ＩＶ非金属元素
- 成分Ｖ有機物質及び配位子
- 使用対象反応Ｉ環境保全関連
- 使用対象反応ＩＩ化学合成用（Ｃ１化学除く）
- 使用対象反応ＩＩＩエネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応ＩＶその他
- 使用形態
- 構造及び物性Ｉ‐Ｉ外形（それ自体）
- 構造及び物性Ｉ‐ＩＩ外形に関する他の特徴
- 構造及び物性ＩＩ微細構造
- 構造及び物性ＩＩＩ 物性
- 構造及び物性ＩＶ その他
- 調製及び活性化Ｉ 目的
- 調製及び活性化ＩＩ プロセス
- 調製及び活性化ＩＩＩ材料及び条件（クレーム）
- 再生または再活性化
- 光触媒の技術主題
- 光触媒の成分
- 光触媒の活性化
- 光触媒の調製
- 光触媒の使用対象
- その他
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ（ＭＳ）
- ゼオライト及びＭＳの合成
- ゼオライト及びＭＳ触媒の特定（クレームのみ）
- ゼオライト及びＭＳ触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的（目的記載個所）
- 触媒組成物の態様
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触媒
- 技術主題
- 成分１特定物質
- 成分２無機物質
- 成分３金属元素
- 成分４非金属元素
- 成分５有機物質及び配位子
- 使用対象反応１環境保全関連
- 使用対象反応ＩＩ化学合成用（Ｃ１化学除く）
- 使用対象反応３エネルギーと化学原料関連
- 使用対象反応４その他
- 使用形態
- 構造及び物性１‐１外形（それ自体）
- 構造及び物性１‐２外形に関する他の特徴
- 構造及び物性２微細構造
- 構造及び物性ＩＩＩ 物性
- 構造及び物性ＩＶ その他
- 調製及び活性化Ｉ 目的
- 調製及び活性化ＩＩ プロセス
- 調製及び活性化ＩＩＩ材料及び条件（クレーム）
- 再生または再活性化
- ゼオライト及びモレキュラーシーブ（ＭＳ）
- ゼオライト及びＭＳの合成
- ゼオライト及びＭＳ触媒の特定（クレームのみ）
- ゼオライト及びＭＳ触媒の処理・修飾
- 処理・修飾及び組成物の目的（目的記載個所）
- 触媒組成物の態様
