スルー の意味・用法を知る
スルー とは、農薬・動植物の保存 やプリント配線間の電気接続のための印刷要素 などの分野において活用されるキーワードであり、バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト や株式会社東芝 などが関連する技術を2,566件開発しています。
このページでは、 スルー を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
スルーの意味・用法
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...2版、南イリノイ大学、2014、またはその全ての初期の版で開示されたもの、加えて特許文献１０（ＧＡＴマイクロエンカプセレイション）で開示されたもの、加えて、英国特許第２４９６６４３号（ロータムアグロケム（Rotam Agrochem））に記載のポリエーテル−ポリシロキサンコポリマー、例えばブレーク− スルー ９９０２（Break-Thru 9902）（商標）、ブレーク−スルー９９０３（Break-Thru 9903）（商標）、ブレーク−スルー５５０３（Break-Thru 5503）（商標）、ブレーク−スルー９９０７（Break-Thru 9907）（商標）およびブレーク−スルー９９０８（Brea...
- 公開日：2018/01/25
- 出典：液体のスルホニル尿素含有除草組成物
- 出願人：ミツイ・アグリサイエンス・インターナショナル・ソシエテ・アノニム／ナムローゼ・フェンノートシャップ
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１以上の導電性 スルー バイアを有するガラス基板を作製する方法において、表面を有する第１の基板を取得する工程、第１の表面、第２の表面及び前記第１の表面から前記第２の表面まで貫通するスルーバイアを有する第２の基板を取得する工程、前記第１の基板の前記表面上にシード層を被着する工程、前記シード層または前記第２の基板をプラズマ処理して、前記シード層上または前記第２の基板上にプラズマ処理された表面修飾層を形成する工程、前記第２の基板を前記プラズマ処理された表面修飾層によって前記第１の基板に接合して、アセンブリを形成する工程であって、前記シード層及び前記プラズマ処理された表面修飾層は前記第１の基板と前記第２の...
- 登録日：2020/06/25
- 出典：バイアボトムアップ電解メッキ方法
- 出願人：コーニングインコーポレイティッド
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前記第１スイッチ部は、直列に接続された複数のＦＥＴを含む第１ スルー 素子群と、直列に接続された複数のＦＥＴを含む第２スルー素子群とを備え、前記第１スルー素子群は、前記複数の入力部のうち第１入力部と前記第１増幅部との間に設けられており、前記第２スルー素子群は、前記複数の入力部のうち第２入力部と前記第１増幅部との間に設けられており、前記第２スイッチ部は、直列に接続された複数のＦＥＴを含む第３スルー素子群と、直列に接続された複数のＦＥＴを含む第４スルー素子群とを備え、前記第３スルー素子群は、前記第１入力部と前記第１出力部との間に設けられており、前記第４スルー素子群は、前記第２入力部と前記第１出力部との...
- 公開日：2018/03/29
- 出典：受信回路、無線通信モジュール、無線通信装置
- 出願人：株式会社東芝
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電子機器１０は、冷媒１２を入れた冷媒槽１１と、電子部品１７と、電子部品１７と電気的に接続された スルー カード１８と、一端側がスルーカード１８に密着して電子部品１７を密閉する袋２７とを有する。
- 公開日：2017/09/14
- 出典：電子機器
- 出願人：富士通株式会社
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。 （ａ），（ｂ）遊技回、振分用 スルー 入賞部の入賞有効期間及び振分実行モードにおける図柄表示装置の表示内容を説明するための説明図である。
- 公開日：2017/04/20
- 出典：遊技機
- 出願人：株式会社三洋物産
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この場合に、振分用 スルー 入賞部への入賞が発生した場合には振分判定処理が実行されるが、その振分判定処理の結果がいずれの結果であったとしても振分実行モードが発生する。
- 公開日：2016/09/23
- 出典：遊技機
- 出願人：株式会社三洋物産
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スルー クーラントの流量を用いて、低コスト且つ短時間でドリルの余寿命を推定する。
- 公開日：2017/02/02
- 出典：ドリルの余寿命推定装置及び余寿命推定方法
- 出願人：オークマ株式会社
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これにより、ＴＴＬ（ スルー ・ザ・レンズ）方式のＡＥ（自動露出）処理、ＥＦ（フラッシュ自動調光発光）処理が行われる。
- 公開日：2021/01/28
- 出典：撮影装置及びその制御方法並びにプログラム
- 出願人：キヤノン株式会社
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これにより、ＴＴＬ（ スルー ・ザ・レンズ）方式のＡＦ（オートフォーカス）処理、ＡＥ（自動露出）処理、ＡＷＢ（オートホワイトバランス）処理等が行われる。
- 公開日：2021/01/28
- 出典：画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム
- 出願人：キヤノン株式会社
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例えば、モアレ発生程度が１．０の画像で、図３（Ａ）に示したフィルタを用いた低周波画像片の比率を１．０、オリジナルの画像片の比率を０．０とすればモアレの発生を防げる場合、変換部２０４の変換比率は１倍（ スルー ）とすればよい。
- 公開日：2021/01/28
- 出典：画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム
- 出願人：キヤノン株式会社
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（ 分野番号表示 ON ）※整理標準化データをもとに当社作成
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製；分離；安定化；その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制（反応工学的手法によるもの→ＢＤ）
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤（触媒として明らかなもの→ＢＡ０１〜８５）
- 炭素環構造
- ハロゲン
- ＯＨ，ＯＭ
- エ−テル，アセタ−ル，ケタ−ル，オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン，キノン
- カルボン酸，その塩，ハライド，無水物
- エステル（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトロ、ニトロソ、アミン（ＣＯ７Ｃ２１３／〜２２５／、２２７／〜２２９／、２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に付与している）
- カルボン酸アミド（Ｃ０７Ｃ２３１／〜２３７／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- オキシム
- 同位元素の種類（Ｃ０７Ｂ５９／００が付与されている場合に、付与している）
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト；イオン交換樹脂（Ｃ０７１／〜１５，２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ハロゲン化炭化水素（Ｃ０７Ｃ１９／〜２５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 安定化剤（混合物は各成分にタ−ム付与）（Ｃ０７Ｃ１７／〜２５／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 炭素骨格（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 官能基（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アルコ−ル（Ｃ０７Ｃ２７／〜３９／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 製法（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 目的化合物（Ｃ０７Ｃ４１／〜４３／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- エステルの製法（Ｃ０７Ｃ６７／〜６９／のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの（Ｃ０７Ｃ６９／０２５ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル（Ｃ０７Ｃ６９／６６〜６９／７３８ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- アミノカルボン酸（Ｃ０７Ｃ２２７／２２９のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ニトリルの製法（Ｃ０７Ｃ２５３／〜２５５／、２６１／０２ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−含有特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- −ＳＯｎ−不含特定部分構造（Ｃ０７Ｃ３１３／〜３２３／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- チオ誘導体のもつ官能基（Ｃ０７Ｃ３２５／〜３８１／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
- ビタミンＤ系化合物（Ｃ０７Ｃ４０１／ のいずれかが付与されている場合は、付与している）
- Ｃ≧４不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物（Ｃ０７Ｃ４０５／ のいずれかが付与されている場合に、付与している）
