スルー の意味・用法を知る
スルー とは、農薬・動植物の保存 やプリント配線間の電気接続のための印刷要素 などの分野において活用されるキーワードであり、バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト や株式会社東芝 などが関連する技術を2,566件開発しています。
このページでは、 スルー を含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。
スルーの意味・用法
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...2版、南イリノイ大学、2014、またはその全ての初期の版で開示されたもの、加えて特許文献10(GATマイクロエンカプセレイション)で開示されたもの、加えて、英国特許第2496643号(ロータムアグロケム(Rotam Agrochem))に記載のポリエーテル−ポリシロキサンコポリマー、例えばブレーク− スルー 9902(Break-Thru 9902)(商標)、ブレーク−スルー9903(Break-Thru 9903)(商標)、ブレーク−スルー5503(Break-Thru 5503)(商標)、ブレーク−スルー9907(Break-Thru 9907)(商標)およびブレーク−スルー9908(Brea...
- 公開日:2018/01/25
- 出典:液体のスルホニル尿素含有除草組成物
- 出願人:ミツイ・アグリサイエンス・インターナショナル・ソシエテ・アノニム/ナムローゼ・フェンノートシャップ
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1以上の導電性 スルー バイアを有するガラス基板を作製する方法において、表面を有する第1の基板を取得する工程、第1の表面、第2の表面及び前記第1の表面から前記第2の表面まで貫通するスルーバイアを有する第2の基板を取得する工程、前記第1の基板の前記表面上にシード層を被着する工程、前記シード層または前記第2の基板をプラズマ処理して、前記シード層上または前記第2の基板上にプラズマ処理された表面修飾層を形成する工程、前記第2の基板を前記プラズマ処理された表面修飾層によって前記第1の基板に接合して、アセンブリを形成する工程であって、前記シード層及び前記プラズマ処理された表面修飾層は前記第1の基板と前記第2の...
- 登録日:2020/06/25
- 出典:バイアボトムアップ電解メッキ方法
- 出願人:コーニングインコーポレイティッド
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前記第1スイッチ部は、直列に接続された複数のFETを含む第1 スルー 素子群と、直列に接続された複数のFETを含む第2スルー素子群とを備え、前記第1スルー素子群は、前記複数の入力部のうち第1入力部と前記第1増幅部との間に設けられており、前記第2スルー素子群は、前記複数の入力部のうち第2入力部と前記第1増幅部との間に設けられており、前記第2スイッチ部は、直列に接続された複数のFETを含む第3スルー素子群と、直列に接続された複数のFETを含む第4スルー素子群とを備え、前記第3スルー素子群は、前記第1入力部と前記第1出力部との間に設けられており、前記第4スルー素子群は、前記第2入力部と前記第1出力部との...
- 公開日:2018/03/29
- 出典:受信回路、無線通信モジュール、無線通信装置
- 出願人:株式会社東芝
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電子機器10は、冷媒12を入れた冷媒槽11と、電子部品17と、電子部品17と電気的に接続された スルー カード18と、一端側がスルーカード18に密着して電子部品17を密閉する袋27とを有する。
- 公開日:2017/09/14
- 出典:電子機器
- 出願人:富士通株式会社
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。 (a),(b)遊技回、振分用 スルー 入賞部の入賞有効期間及び振分実行モードにおける図柄表示装置の表示内容を説明するための説明図である。
- 公開日:2017/04/20
- 出典:遊技機
- 出願人:株式会社三洋物産
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この場合に、振分用 スルー 入賞部への入賞が発生した場合には振分判定処理が実行されるが、その振分判定処理の結果がいずれの結果であったとしても振分実行モードが発生する。
- 公開日:2016/09/23
- 出典:遊技機
- 出願人:株式会社三洋物産
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スルー クーラントの流量を用いて、低コスト且つ短時間でドリルの余寿命を推定する。
- 公開日:2017/02/02
- 出典:ドリルの余寿命推定装置及び余寿命推定方法
- 出願人:オークマ株式会社
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これにより、TTL( スルー ・ザ・レンズ)方式のAE(自動露出)処理、EF(フラッシュ自動調光発光)処理が行われる。
- 公開日:2021/01/28
- 出典:撮影装置及びその制御方法並びにプログラム
- 出願人:キヤノン株式会社
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これにより、TTL( スルー ・ザ・レンズ)方式のAF(オートフォーカス)処理、AE(自動露出)処理、AWB(オートホワイトバランス)処理等が行われる。
- 公開日:2021/01/28
- 出典:画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム
- 出願人:キヤノン株式会社
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例えば、モアレ発生程度が1.0の画像で、図3(A)に示したフィルタを用いた低周波画像片の比率を1.0、オリジナルの画像片の比率を0.0とすればモアレの発生を防げる場合、変換部204の変換比率は1倍( スルー )とすればよい。
- 公開日:2021/01/28
- 出典:画像処理装置、画像処理方法、及びプログラム
- 出願人:キヤノン株式会社
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有機低分子化合物及びその製造
- 発明の種類
- 用途
- 反応
- 精製;分離;安定化;その他の物理的処理
- 反応の促進・抑制(反応工学的手法によるもの→BD)
- 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒
- 反応パラメ−タ−
- 反応工学的手法
- 反応試剤(触媒として明らかなもの→BA01〜85)
- 炭素環構造
- ハロゲン
- OH,OM
- エ−テル,アセタ−ル,ケタ−ル,オルトエステル
- アルデヒド
- ケトン,キノン
- カルボン酸,その塩,ハライド,無水物
- エステル(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトロ、ニトロソ、アミン(CO7C213/〜225/、227/〜229/、231/〜237/のいずれかが付与されている場合に付与している)
- カルボン酸アミド(C07C231/〜237/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- オキシム
- 同位元素の種類(C07B59/00が付与されている場合に、付与している)
- ゼオライト、アルミノシリケ−ト;イオン交換樹脂(C071/〜15,27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ハロゲン化炭化水素(C07C19/〜25/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 安定化剤(混合物は各成分にタ−ム付与)(C07C17/〜25/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 炭素骨格(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 官能基(C07C27/〜39/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アルコ−ル(C07C27/〜39/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 製法(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 目的化合物(C07C41/〜43/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- エステルの製法(C07C67/〜69/のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- 酸部分が種々の場合をとり得るエステル
- アルコ−ル部分が非環式炭素原子に結合している不飽和アルコールであるもの(C07C69/025 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アクリル酸またはメタクリル酸のエステル
- 酸素含有置換基を有するカルボン酸のエステル(C07C69/66〜69/738 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- アミノカルボン酸(C07C227/229のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ニトリルの製法(C07C253/〜255/、261/02 のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- カルバミン酸エステルの構造
- カルバミン酸エステルの製造
- 対象化合物の種類(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−含有特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- −SOn−不含特定部分構造(C07C313/〜323/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- チオ誘導体のもつ官能基(C07C325/〜381/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)
- ビタミンD系化合物(C07C401/ のいずれかが付与されている場合は、付与している)
- C≧4不飽和側鎖をもつシクロヘキサン、シクロヘキセン
- プロスタグランジン系化合物(C07C405/ のいずれかが付与されている場合に、付与している)